手機(jī)性能越來(lái)越強(qiáng)勁離不開(kāi)半導(dǎo)體制程的進(jìn)步，明年手機(jī)處理器將會(huì)進(jìn)入10nm時(shí)代。高通驍龍835、聯(lián)發(fā)科Helio X30、蘋(píng)果A11處理器都將采用10nm制程，因此晶圓代工廠商臺(tái)積電、英特爾、三星等也在紛紛搶進(jìn)10nm、7nm先進(jìn)半導(dǎo)體制程。不過(guò)，市場(chǎng)真的能跟上先進(jìn)半導(dǎo)體制程的腳步嗎？
2016-12-27 15:47:02
922 美國(guó)Entegris公司（NASDAQ： ENTG）15日在上海宣布，與福建博純材料有限公司簽訂協(xié)議以擴(kuò)大在中國(guó)的業(yè)務(wù)，博純材料將在其位于泉州的工廠制造Entegris特殊化學(xué)品。
2017-03-17 08:28:371633 本期，我們將繼續(xù)探索半導(dǎo)體制造過(guò)程中的兩大關(guān)鍵步驟：刻蝕和薄膜沉積。
2022-08-01 10:58:184517 
LED制造專(zhuān)區(qū)MEMS專(zhuān)區(qū)集成電路材料專(zhuān)區(qū) 晶圓加工設(shè)備及廠房設(shè)備 在半導(dǎo)體制造中專(zhuān)為晶圓加工的廠房提供設(shè)備及相關(guān)服務(wù)的供應(yīng)商，包括光刻設(shè)備、測(cè)量與檢測(cè)設(shè)備、沉積設(shè)備、刻蝕設(shè)備、化學(xué)機(jī)械拋光(CMP
2017-09-15 09:29:38
性能和速度上同時(shí)滿足了圓片圖形加工的要求。CMP 技術(shù)是機(jī)械削磨和化學(xué)腐蝕的組合技術(shù) , 它借助超微粒子的研磨作用以及漿料的化學(xué)腐蝕作用在被研磨的介質(zhì)表面上形成光潔平坦表面[2、3] 。CMP 技術(shù)對(duì)于
2023-09-19 07:23:03
蘇州晶淼專(zhuān)業(yè)生產(chǎn)半導(dǎo)體、光伏、LED等行業(yè)清洗腐蝕設(shè)備，可根據(jù)要求定制濕法腐蝕設(shè)備。晶淼半導(dǎo)體為國(guó)內(nèi)專(zhuān)業(yè)微電子、半導(dǎo)體行業(yè)腐蝕清洗設(shè)備供應(yīng)商，歡迎來(lái)電咨詢(xún)。電話：***，13771786452王經(jīng)理
2016-09-05 10:40:27
：太陽(yáng)能電池清洗設(shè)備, 半導(dǎo)體清洗設(shè)備,微電子工藝設(shè)備及清洗設(shè)備，太陽(yáng)能電池片清洗刻蝕設(shè)備, 微電子半導(dǎo)體清洗刻蝕設(shè)備,LCD液晶玻璃基板清洗刻蝕設(shè)備;LED晶片清洗腐蝕設(shè)備,硅片切片后清洗設(shè)備，劃片后
2011-04-13 13:23:10
大家好！ 附件是
半導(dǎo)體引線鍵合
清洗工藝
方案，請(qǐng)參考，謝謝！有問(wèn)題聯(lián)系我：***
[email protected]2010-04-22 12:27:32
減小這些解決方案的尺寸、重量和功率。本文將簡(jiǎn)要介紹現(xiàn)有的天線解決方案以及電控天線的優(yōu)勢(shì)所在。在此基礎(chǔ)上，本文將介紹半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展如何幫助實(shí)現(xiàn)改進(jìn)電控天線SWaP-C這一目標(biāo)，然后舉例說(shuō)明ADI技術(shù)如何做到這一點(diǎn)。
2021-01-20 07:11:05
最終減小這些解決方案的尺寸、重量和功率。本文將簡(jiǎn)要介紹現(xiàn)有的天線解決方案以及電控天線的優(yōu)勢(shì)所在。在此基礎(chǔ)上，本文將介紹半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展如何幫助實(shí)現(xiàn)改進(jìn)電控天線SWaP-C這一目標(biāo)，然后舉例說(shuō)明ADI技術(shù)如何做到這一點(diǎn)。
2021-01-05 07:12:20
蘇州晶淼半導(dǎo)體設(shè)備有限公司致力于向客戶(hù)提供濕法制程刻蝕設(shè)備、清洗設(shè)備、高端PP/PVC通風(fēng)柜/廚、CDS化學(xué)品集中供液系統(tǒng)等一站式解決方案。我們的產(chǎn)品廣泛應(yīng)用與微電子、半導(dǎo)體、光伏、光通信、LED等
2016-09-06 13:53:08
半導(dǎo)體制冷—— 2 1 世紀(jì)的綠色“冷源”唐春暉（上海理工大學(xué)光學(xué)與電子信息工程學(xué)院，上海 200093）摘要：基于節(jié)能和環(huán)保已是當(dāng)今一切科技發(fā)展進(jìn)步的基本要求，對(duì)半導(dǎo)體制冷技術(shù)原理以及應(yīng)用情況做了
2010-04-02 10:14:56
大家有沒(méi)有用過(guò)半導(dǎo)體制冷的，我現(xiàn)在選了一種制冷片，72W的，我要對(duì)一個(gè)2.5W的熱負(fù)載空間（100x100x100mm）降溫，用了兩片，在環(huán)溫60度時(shí)熱負(fù)載所處的空間只降到30度，我采用的時(shí)泡沫膠
2012-08-15 20:07:10
半導(dǎo)體制冷的機(jī)理主要是電荷載體在不同的材料中處于不同的能量級(jí)，在外電場(chǎng)的作用下，電荷載體從高能級(jí)的材料向低能級(jí)的材料運(yùn)動(dòng)時(shí)，便會(huì)釋放出多余的能量。
2020-04-03 09:02:14
半導(dǎo)體制冷片控制板開(kāi)發(fā)技術(shù)需要用到的功能模塊有哪些？有知道的朋友嗎？展開(kāi)講講？
2022-05-22 18:26:09
半導(dǎo)體制冷片是利用半導(dǎo)體材料的Peltier效應(yīng)而制作的電子元件，當(dāng)直流電通過(guò)兩種不同半導(dǎo)體材料串聯(lián)成的電偶時(shí)，在電偶的兩端即可分別吸收熱量和放出熱量，可以實(shí)現(xiàn)制冷的目的。它是一種產(chǎn)生負(fù)熱阻的制冷技術(shù)，其特點(diǎn)是無(wú)運(yùn)動(dòng)部件，可靠性也比較高。半導(dǎo)體制冷片的工作原理是什么？半導(dǎo)體制冷片有哪些優(yōu)缺點(diǎn)？
2021-02-24 09:24:02
的積體電路所組成，我們的晶圓要通過(guò)氧化層成長(zhǎng)、微影技術(shù)、蝕刻、清洗、雜質(zhì)擴(kuò)散、離子植入及薄膜沉積等技術(shù)，所須制程多達(dá)二百至三百個(gè)步驟。半導(dǎo)體制程的繁雜性是為了確保每一個(gè)元器件的電性參數(shù)和性能，那么他的原理又是
2018-11-08 11:10:34
~ 3,000三、半導(dǎo)體制程設(shè)備 半導(dǎo)體制程概分為三類(lèi)：(1)薄膜成長(zhǎng)，(2)微影罩幕，(3)蝕刻成型。設(shè)備也跟著分為四類(lèi)：(a)高溫爐管，(b)微影機(jī)臺(tái)，(c)化學(xué)清洗蝕刻臺(tái)，(d)電漿真空腔室
2011-08-28 11:55:49
在制造半導(dǎo)體器件時(shí)，為什么先將導(dǎo)電性能介于導(dǎo)體和絕緣體之間的硅或鍺制成本征半導(dǎo)體，使之導(dǎo)電性極差，然后再用擴(kuò)散工藝在本征半導(dǎo)體中摻入雜質(zhì)形成N型半導(dǎo)體或P型半導(dǎo)體改善其導(dǎo)電性？
2012-07-11 20:23:15
半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)經(jīng)歷了2019年的低迷，但其在2020年的潛力卻被很多業(yè)內(nèi)人士看好。摩根大通分析師Harlan Sur在其于去年年底發(fā)布的一則研究報(bào)告中指出，半導(dǎo)體市場(chǎng)將于2020年復(fù)蘇，預(yù)測(cè)到 2020
2020-02-27 10:42:16
半導(dǎo)體制造技術(shù)經(jīng)典教程（英文版）
2014-03-06 16:19:35
采取正確的設(shè)備維護(hù)行動(dòng)。半導(dǎo)體制造五大難點(diǎn)——集成眾多子系統(tǒng)的大系統(tǒng)伴隨著芯片的集成度越來(lái)越高、半導(dǎo)體制造的先進(jìn)程度也逐漸提升。半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)包含越來(lái)越多的機(jī)械、化工、軟件、材料等其它領(lǐng)域，是集成了很多
2020-09-02 18:02:47
噪聲、空氣噪聲和微振動(dòng)也是特殊的污染物。還有一點(diǎn)值得注意的就是：半導(dǎo)體工廠內(nèi)會(huì)有大量的酸性氣體（這些氣體來(lái)自于晶圓的蝕刻、清洗等過(guò)程），其次由于半導(dǎo)體制造的過(guò)程中會(huì)需要大量使用光阻液、顯影液等等，這些
2020-09-24 15:17:16
新型銅互連方法—電化學(xué)機(jī)械拋光技術(shù)研究進(jìn)展多孔低介電常數(shù)的介質(zhì)引入硅半導(dǎo)體器件給傳統(tǒng)的化學(xué)機(jī)械拋光（ＣＭＰ）技術(shù)帶來(lái)了巨大的挑戰(zhàn)，低ｋ 介質(zhì)的脆弱性難以承受傳統(tǒng)ＣＭＰ 技術(shù)所施加的機(jī)械力。一種結(jié)合了
2009-10-06 10:08:07
梁德豐，錢(qián)省三，梁靜（上海理工大學(xué)工業(yè)工程研究所/微電子發(fā)展中心，上海 200093）摘要：由于半導(dǎo)體制造工藝過(guò)程的復(fù)雜性，一般很難建立其制造模型，不能對(duì)工藝過(guò)程狀態(tài)有效地監(jiān)控，所以迫切需要先進(jìn)
2018-08-29 10:28:14
產(chǎn)品和解決方案，意法半導(dǎo)體正在積極的影響人們的生活。 智慧家居和智慧城市是意法半導(dǎo)體戰(zhàn)略的主要框架，這恰好與印度在全國(guó)發(fā)展智慧城市的計(jì)劃相吻合”了解意法半導(dǎo)體的先進(jìn)的創(chuàng)新的智慧城市解決方案
2018-03-08 10:17:35
`《半導(dǎo)體制造工藝》學(xué)習(xí)筆記`
2012-08-20 19:40:32
書(shū)籍：《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》文章：半導(dǎo)體行業(yè)的濕化學(xué)分析——總覽編號(hào)：JFSJ-21-075作者：炬豐科技網(wǎng)址：http://www.wetsemi.com/index.html對(duì)液體和溶液進(jìn)行
2021-07-09 11:30:18
的試劑，無(wú)論是單獨(dú)工作還是與其他化學(xué)品混合，對(duì)于半導(dǎo)體制造中的濕法清洗工藝。通過(guò)適當(dāng)?shù)膽?yīng)用，它可以避免使用一些需要在高溫下操作的高腐蝕性化學(xué)品，從而減少 CoO，包括化學(xué)品費(fèi)用、沖洗水量、安全問(wèn)題
2021-07-06 09:36:27
書(shū)籍：《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》文章：III-V/SOI 波導(dǎo)電路的化學(xué)機(jī)械拋光工藝開(kāi)發(fā)編號(hào)：JFSJ-21-064作者：炬豐科技網(wǎng)址：http://www.wetsemi.com
2021-07-08 13:14:11
標(biāo)志。適用于工業(yè)生產(chǎn)和服務(wù)活動(dòng)中生產(chǎn)、使用的含揮發(fā)性有機(jī)化合物的清洗劑。△(注：本標(biāo)準(zhǔn)不適用于航空航天、核工業(yè)、軍工、半導(dǎo)體（含集成電路）制造用清洗劑。)眾所周知，在工業(yè)生產(chǎn)中，為了去除各種污垢，清洗
2021-05-25 15:03:54
1、GaAs半導(dǎo)體材料可以分為元素半導(dǎo)體和化合物半導(dǎo)體兩大類(lèi)，元素半導(dǎo)體指硅、鍺單一元素形成的半導(dǎo)體，化合物指砷化鎵、磷化銦等化合物形成的半導(dǎo)體。砷化鎵的電子遷移速率比硅高5.7 倍，非常適合
2019-07-29 07:16:49
反應(yīng)生成薄膜。等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相淀積系統(tǒng)在沉積室利用輝光放電使其電離后在襯底上進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)沉積的半導(dǎo)體薄膜材料制備和其他材料薄膜的制備方法。等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積是：在化學(xué)氣相沉積中，激發(fā)氣體，使其
2018-09-03 09:31:49
我想用單片機(jī)開(kāi)發(fā)板做個(gè)熱療儀，開(kāi)發(fā)板是某寶上買(mǎi)的那種，有兩個(gè)猜想：一個(gè)用半導(dǎo)體制冷片發(fā)熱，一個(gè)用電熱片。但我不會(huì)中間要不要接個(gè)DA轉(zhuǎn)換器還是繼電器什么的，查過(guò)一些資料，如果用半導(dǎo)體制冷片用PWM控制
2017-11-22 14:15:40
求大神解答，半導(dǎo)體制冷片的正負(fù)極能反接嗎，如果可以，那原來(lái)的制冷面是不是可變成散熱面而原來(lái)的散熱面變成制冷面？？
2016-03-03 16:53:12
的有氧化爐、沉積設(shè)備、光刻機(jī)、刻蝕設(shè)備、離子注入機(jī)、清洗機(jī)、化學(xué)研磨設(shè)備等。以上是今日Enroo關(guān)于晶圓制造工藝及半導(dǎo)體設(shè)備的相關(guān)分享。
2018-10-15 15:11:22
基于半導(dǎo)體制冷片的高精度溫度控制系統(tǒng)，總結(jié)的太棒了
2021-05-08 06:20:22
如何實(shí)現(xiàn)基于STM32的半導(dǎo)體制冷片(TEC)溫度控制系統(tǒng)設(shè)計(jì)？
2021-12-23 06:07:59
高可靠性系統(tǒng)設(shè)計(jì)包括使用容錯(cuò)設(shè)計(jì)方法和選擇適合的組件，以滿足預(yù)期環(huán)境條件并符合標(biāo)準(zhǔn)要求。本文專(zhuān)門(mén)探討實(shí)現(xiàn)高可靠性電源的半導(dǎo)體解決方案，這類(lèi)電源提供冗余、電路保護(hù)和遠(yuǎn)程系統(tǒng)管理。本文將突出顯示，半導(dǎo)體技術(shù)的改進(jìn)和新的安全功能怎樣簡(jiǎn)化了設(shè)計(jì)，并提高了組件的可靠性。
2021-03-18 07:49:20
想用半導(dǎo)體制冷片制作小冰箱，需要用到大功率電源，半導(dǎo)體制冷片，還有散熱系統(tǒng)，單片機(jī)控制系統(tǒng)，能調(diào)溫度，還能顯示溫度，具體的思路已經(jīng)有了，想問(wèn)問(wèn)你們有沒(méi)好點(diǎn)的意見(jiàn)，能盡量提高點(diǎn)效率還有溫度調(diào)節(jié)的精度
2020-08-27 08:07:58
應(yīng)用于汽車(chē)的圖像感測(cè)和電源管理方案。隨著半導(dǎo)體技術(shù)成為汽車(chē)行業(yè)的基礎(chǔ)，安森美半導(dǎo)體針對(duì)先進(jìn)駕駛輔助系統(tǒng) (ADAS) 和汽車(chē)功能電子化等技術(shù)的汽車(chē)方案正推進(jìn)朝向全自動(dòng)駕駛的發(fā)展，以及在聯(lián)接汽車(chē)中與日
2018-10-11 14:28:55
高性能、高能效硅解決方案供應(yīng)商安森美半導(dǎo)體(ON Semiconductor)日前在臺(tái)北舉行的第七屆靜電放電保護(hù)技術(shù)研討會(huì)上，針對(duì)如何防止靜電放電(ESD) 所帶來(lái)的損失，從元件、制造和系統(tǒng)三個(gè)層級(jí)
2019-05-30 06:50:43
半導(dǎo)體的解決方案為解決上述問(wèn)題，可以使用安森美半導(dǎo)體的一些有針對(duì)性的解決方案，從設(shè)計(jì)之初就解決智能電表的耗電問(wèn)題。電源管理和穩(wěn)壓方案：在這方面安森美半導(dǎo)體有豐富的器件可供使用，比如在AC-DC轉(zhuǎn)換
2019-05-15 10:57:14
山東高唐杰盛半導(dǎo)體科技有限公司，我公司主要從事微電子工藝設(shè)備及高精度自動(dòng)控制系統(tǒng)的設(shè)計(jì)。制造和服務(wù)等，已申請(qǐng)國(guó)家專(zhuān)利10項(xiàng)，授權(quán)7項(xiàng)，產(chǎn)品涉及到半導(dǎo)體制造的前道清洗、擴(kuò)散和后道封裝，技術(shù)達(dá)到國(guó)內(nèi)
2013-09-13 15:16:45
{:1:}想了解半導(dǎo)體制造相關(guān)知識(shí)
2012-02-12 11:15:05
蘇州晶淼有限公司專(zhuān)業(yè)制作半導(dǎo)體設(shè)備、LED清洗腐蝕設(shè)備、硅片清洗、酸洗設(shè)備等王經(jīng)理***/13771786452
2016-07-20 11:58:26
可行嗎？還需要電器隔離嗎？半導(dǎo)體制冷片的額定電壓是12v，mcu是stm32
2018-05-01 19:29:12
到了二十世紀(jì)五十年代隨著半導(dǎo)體材料的迅猛發(fā)展，熱電制冷器才逐漸從實(shí)驗(yàn)室走向工程實(shí)踐，在國(guó)防、工業(yè)、農(nóng)業(yè)、醫(yī)療和日常生活等領(lǐng)域獲得應(yīng)用，大到可以做核潛艇的空調(diào)，小到可以用來(lái)冷卻紅外線探測(cè)器的探頭，因此通常又把熱電制冷器稱(chēng)為半導(dǎo)體制冷器。
2013-11-29 09:26:38
蘇州晶淼半導(dǎo)體設(shè)備有限公司位于蘇州工業(yè)園區(qū)，致力于半導(dǎo)體集成電路、光電子器件、分立器件、傳感器和光通信、LED等行業(yè)，中高端濕法腐蝕、清洗設(shè)備、CDS集中供液系統(tǒng)、通風(fēng)柜/廚等一站式的解決方案
2020-05-26 10:43:05
伴隨著芯片的集成度越來(lái)越高，
半導(dǎo)體制造的
先進(jìn)程度也逐漸提升。在芯片
半導(dǎo)體的生產(chǎn)加工過(guò)程中要不斷用水
清洗，對(duì)水質(zhì)的純度要求特別高，要求達(dá)到ppb級(jí)別，所以為了保證生產(chǎn)出超大規(guī)模的集成電路，除高純?cè)牧?/div>
2021-10-28 14:12:24
氧化鋯基氧化鋁 - 半導(dǎo)體晶圓研磨粉 (AZ) 系列半導(dǎo)體晶圓研磨粉是一種細(xì)粉磨料，是作為需要高精度的包裹材料而開(kāi)發(fā)的。原材料粒度分布尖銳，粒度穩(wěn)定，形狀呈塊狀。再以熔融氧化鋁為原料，鋯英
2022-05-31 14:21:38
自制小型TEC1半導(dǎo)體電子冰箱(冷熱箱)：自制的小型電冰箱，其制冷部分是以新型的固體冷源半導(dǎo)體制冷器，取代了傳統(tǒng)的機(jī)械壓縮式制冷系統(tǒng)。由于制作方便，工藝要求也不高，所以十
2011-10-31 16:29:59
119 半導(dǎo)體清洗工藝全集 晶圓清洗是半導(dǎo)體制造典型工序中最常應(yīng)用的加工步驟。就硅來(lái)說(shuō)，清洗操作的化學(xué)制品和工具已非常成熟，有多年廣泛深入的研究以及重要的工業(yè)設(shè)備的支持。所
2011-12-15 16:11:44186 中國(guó)半導(dǎo)體制造行業(yè)的兩大企業(yè)，華虹半導(dǎo)體有限公司(簡(jiǎn)稱(chēng)“華虹”)和宏力半導(dǎo)體制造公司(簡(jiǎn)稱(chēng)“宏力”)于29日聯(lián)合宣布雙方已完成了合并交易。
2011-12-30 08:58:501867 Entegris 是半導(dǎo)體與其他高科技產(chǎn)業(yè)的領(lǐng)導(dǎo)供應(yīng)商，為這些產(chǎn)業(yè)在處理與制造中所用的關(guān)鍵材料，提供純化、保護(hù)和運(yùn)輸所需的多種產(chǎn)品。Entegris擁有廣泛的產(chǎn)品組合，涉及光刻、刻蝕、沉積、清洗、CMP、植入、工廠設(shè)施等多個(gè)領(lǐng)域，是整個(gè)IC晶圓制造工藝領(lǐng)域的市場(chǎng)領(lǐng)導(dǎo)者。
2016-03-23 09:11:01702 半導(dǎo)體制造刻蝕設(shè)備調(diào)度算法的研究_賈小恒
2017-03-19 11:28:162 作為業(yè)界領(lǐng)先的特種化學(xué)及先進(jìn)材料解決方案的領(lǐng)導(dǎo)企業(yè)，Entegris今天發(fā)布了2018年中國(guó)戰(zhàn)略，致力于將當(dāng)今全球一流制造商所使用的高端材料解決方案引進(jìn)中國(guó)市場(chǎng)。對(duì)于中國(guó)制造商而言，要與市場(chǎng)上現(xiàn)有
2018-04-17 05:31:001275 業(yè)界領(lǐng)先的特種化學(xué)及先進(jìn)材料解決方案的公司Entegris（納斯達(dá)克： ENTG）宣布正在上海建設(shè)中國(guó)技術(shù)中心，旨在支持所有技術(shù)制程，計(jì)劃于 2018 年底落成運(yùn)營(yíng)。該中心選址張江高科技園區(qū)，緊鄰
2018-09-09 02:05:00538 本文檔的主要內(nèi)容詳細(xì)介紹的是半導(dǎo)體制造技術(shù)之半導(dǎo)體的材料特性詳細(xì)資料免費(fèi)下載
2018-11-08 11:05:3077 本文檔的主要內(nèi)容詳細(xì)介紹的是半導(dǎo)體制造工藝教程的詳細(xì)資料免費(fèi)下載主要內(nèi)容包括了：1.1 引言 1.2基本半導(dǎo)體元器件結(jié)構(gòu) 1.3半導(dǎo)體器件工藝的發(fā)展歷史 1.4集成電路制造階段 1.5半導(dǎo)體制造企業(yè) 1.6基本的半導(dǎo)體材料 1.7 半導(dǎo)體制造中使用的化學(xué)品 1.8芯片制造的生產(chǎn)環(huán)境
2018-11-19 08:00:00200 此次簽約，針對(duì)傳感器半導(dǎo)體制造，矽赫科技與深圳大學(xué)半導(dǎo)體制造研究院展開(kāi)聯(lián)合研發(fā)和深度合作。
2020-12-31 10:10:004517 MEMS工藝——半導(dǎo)體制造技術(shù)說(shuō)明。
2021-04-08 09:30:41237 在晶圓制造的過(guò)程中，包括蝕刻、氧化、淀積、去光刻膠以及化學(xué)機(jī)械研磨等每一個(gè)步驟，都是造成晶圓表面污染的來(lái)源，因此需要反復(fù)地進(jìn)行清洗
2021-04-09 14:07:0027 作為半導(dǎo)體晶圓清洗技術(shù)國(guó)際會(huì)議，由美國(guó)電化學(xué)會(huì)（ECS）主辦的“International Synmposium on Semiconductor Cleaning Science
2021-06-29 18:14:152182 半導(dǎo)體制造是高端制造中信息化程度最高的代表，其中以晶圓制造最為復(fù)雜。
2021-07-04 15:34:562712 引言 化學(xué)機(jī)械拋光是實(shí)現(xiàn)14納米以下半導(dǎo)體制造的最重要工藝之一。此外，化學(xué)機(jī)械拋光后缺陷控制是提高產(chǎn)量和器件可靠性的關(guān)鍵工藝參數(shù)。由于亞14納米節(jié)點(diǎn)結(jié)構(gòu)器件的復(fù)雜性，化學(xué)機(jī)械拋光引起的缺陷需要固定
2022-01-11 16:31:39443 
摘要 在許多半導(dǎo)體器件的制造中，硅是最有趣和最有用的半導(dǎo)體材料。 在半導(dǎo)體器件制造中，各種加工步驟可分為四大類(lèi)，即沉積、去除、圖形化和電性能的修改。 在每一步中，晶片清洗都是開(kāi)發(fā)半導(dǎo)體電子器件的首要
2022-01-18 16:08:131000 
索引術(shù)語(yǔ)—清洗、化學(xué)機(jī)械拋光、乙二胺四乙酸、多晶硅、三氧化二氫。 摘要 本文為后化學(xué)機(jī)械拋光工藝開(kāi)發(fā)了新型清洗液，在稀釋的氫氧化銨(NH4OH+H2O)堿性水溶液中加入表面活性劑四甲基氫氧化銨
2022-01-26 17:21:18550 
半導(dǎo)體制造工業(yè)中的濕法清洗/蝕刻工藝用于通過(guò)使用高純化學(xué)品清洗或蝕刻來(lái)去除晶片上的顆?；蛉毕?。擴(kuò)散、光和化學(xué)氣相沉積(CVD)、剝離、蝕刻、聚合物處理、清潔和旋轉(zhuǎn)擦洗之前有預(yù)清潔作為濕法清潔/蝕刻
2022-02-22 13:47:511696 
清洗都是開(kāi)發(fā)半導(dǎo)體電子器件的首要和基本步驟。清洗過(guò)程是在不改變或損壞晶圓表面或基片的情況下去除化學(xué)物質(zhì)和顆粒雜質(zhì)。 介紹 半導(dǎo)體是一種固體物質(zhì)，其導(dǎo)電性介于絕緣體和導(dǎo)體之間。半導(dǎo)體材料的定義性質(zhì)是，它可以摻雜
2022-02-23 17:44:201427 的半導(dǎo)體芯片的結(jié)構(gòu)也變得復(fù)雜，包括從微粉化一邊倒到三維化，半導(dǎo)體制造工藝也變得多樣化。其中使用的材料也被迫發(fā)生變化，用于制造的半導(dǎo)體器件和材料的技術(shù)革新還沒(méi)有停止。為了解決作為半導(dǎo)體制造工藝之一的CMP
2022-03-21 13:39:083886 
隨著器件尺寸縮小到深亞微米級(jí)，半導(dǎo)體制造中有效的濕法清洗工藝對(duì)于去除硅晶片表面上的殘留污染物至關(guān)重要。GOI強(qiáng)烈依賴(lài)于氧化前的晶片清潔度，不同的污染物對(duì)器件可靠性有不同的影響，硅表面上的顆粒導(dǎo)致
2022-03-21 13:39:405472 
VLSI制造過(guò)程中，晶圓清洗球定義的重要性日益突出。這是當(dāng)晶片表面存在的金屬、粒子等污染物對(duì)設(shè)備的性能和產(chǎn)量(yield)產(chǎn)生深遠(yuǎn)影響時(shí)的門(mén)。在典型的半導(dǎo)體制造工藝中，清潔工藝在工藝前后反復(fù)進(jìn)行
2022-03-22 14:13:163580 
在許多半導(dǎo)體器件的制造中，硅是最有趣和最有用的半導(dǎo)體材料。 在半導(dǎo)體器件制造中，各種加工步驟可分為四大類(lèi)，即沉積、去除、圖形化和電性能的修改。 在每一步中，晶片清洗都是開(kāi)發(fā)半導(dǎo)體電子器件的首要和基本步驟。 清洗過(guò)程是在不改變或損壞晶圓表面或基片的情況下去除化學(xué)物質(zhì)和顆粒雜質(zhì)。
2022-04-01 14:25:332949 
CMP裝置被應(yīng)用于納米級(jí)晶圓表面平坦化的拋光工藝。拋光顆粒以各種狀態(tài)粘附到拋光后的晶片表面。必須確實(shí)去除可能成為產(chǎn)品缺陷原因的晶圓表面附著物，CMP后的清洗技術(shù)極為重要。在本文中，關(guān)于半導(dǎo)體制造工序
2022-04-18 16:34:342912 
在半導(dǎo)體和LED的制造中，需要研磨以使晶片的厚度變薄，以及拋光以使表面成為鏡面。在半導(dǎo)體器件的制造中，半導(dǎo)體制造工藝包括:（1）從晶體生長(zhǎng)開(kāi)始切割和拋光硅等，并將其加工成晶片形狀的工藝（晶片制造工藝
2022-04-20 16:09:4810872 
使用。在本文中，為了在半導(dǎo)體制造中的平坦化工藝，特別是在形成布線層的工程中實(shí)現(xiàn)CMP后的高清潔面，關(guān)于濕法清洗所要求的功能和課題，關(guān)于適用新一代布線材料時(shí)所擔(dān)心的以降低腐蝕及表面粗糙度為焦點(diǎn)的清洗技術(shù)，介紹了至今為止的成果和課題，以及今后的展望。
2022-04-20 16:11:292433 
來(lái)源：半導(dǎo)體芯科技 “晶芯研討，精華薈萃！”2022年7月5日，年度首場(chǎng)線下高峰技術(shù)論壇大咖云集，ACT雅時(shí)國(guó)際商訊與蘇州工業(yè)園強(qiáng)強(qiáng)聯(lián)合，主辦蘇州·晶芯研討會(huì)之“拓展摩爾定律——先進(jìn)半導(dǎo)體制造與封裝
2022-07-11 19:55:132080 
達(dá)到的水準(zhǔn)，因此單片式刻蝕、清洗設(shè)備開(kāi)始在半導(dǎo)體制造過(guò)程中發(fā)揮越來(lái)越大的作用。 ? 在全自動(dòng)單片清洗設(shè)備中，由于大而薄的硅片對(duì)夾緊力較為敏感，再加上硅片的翹曲率不同，因此對(duì)于硅片的抓取、傳輸提出了更高的要求。
2022-08-15 17:01:354061 
時(shí)間2022年11月2日地點(diǎn)上海國(guó)際會(huì)議中心，5樓，長(zhǎng)江廳 活動(dòng)簡(jiǎn)介 ? ? 芯和半導(dǎo)體受邀于11月2日參加在上海國(guó)際會(huì)議中心舉辦的“SEMICON 半導(dǎo)體制造與先進(jìn)封裝論壇”。 ? 2021
2022-11-01 18:49:301272 針對(duì)半導(dǎo)體制造工藝的UV-LED光源需求，虹科提供高功率的紫外光源解決方案，可適配步進(jìn)器和掩膜版設(shè)備，更換傳統(tǒng)工具中的傳統(tǒng)燈箱，實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量的半導(dǎo)體質(zhì)量控制。
2023-03-29 10:35:41712 
結(jié) 構(gòu)。 得益于LED的技術(shù)優(yōu)勢(shì)和成本優(yōu)勢(shì)，半導(dǎo)體制造領(lǐng)域正在擺脫長(zhǎng)期以來(lái)的傳統(tǒng)放電汞燈技術(shù)，進(jìn)而選擇 UVLED技術(shù) 作為一種理想解決方案。 虹科UVLED紫外光源 提供穩(wěn)定且超高功率的UV輻射輸出，最高 輸出功率可達(dá)80W ，具有長(zhǎng)壽命和成本優(yōu)勢(shì)，無(wú)需額外冷卻時(shí)間，即開(kāi)即用，取代了傳統(tǒng)的燈箱結(jié)構(gòu)
2023-04-20 09:32:24412 
結(jié) 構(gòu)。 得益于LED的技術(shù)優(yōu)勢(shì)和成本優(yōu)勢(shì)，半導(dǎo)體制造領(lǐng)域正在擺脫長(zhǎng)期以來(lái)的傳統(tǒng)放電汞燈技術(shù)，進(jìn)而選擇 UVLED技術(shù) 作為一種理想解決方案。 虹科UVLED紫外光源 提供穩(wěn)定且超高功率的UV輻射輸出，最高 輸出功率可達(dá)80W ，具有長(zhǎng)壽命和成本優(yōu)勢(shì)，無(wú)需額外冷卻時(shí)間，即開(kāi)即用，取代了傳統(tǒng)的燈箱結(jié)構(gòu)
2023-05-16 09:54:17533 隨著晶體管尺寸的不斷微縮，晶圓制造工藝日益復(fù)雜，對(duì)半導(dǎo)體濕法清洗技術(shù)的要求也越來(lái)越高。
2023-08-01 10:01:561652 
早些時(shí)期半導(dǎo)體常使用濕式清洗除塵方法，濕式清洗除塵通常使用超純水或者化學(xué)藥水來(lái)清洗除塵，優(yōu)點(diǎn)就是價(jià)格低廉，缺點(diǎn)是有時(shí)化學(xué)藥水或者超純水會(huì)把產(chǎn)品損害。隨著科技技術(shù)的進(jìn)步，人們對(duì)半導(dǎo)體的清洗除塵要求越來(lái)越高，不僅要保證產(chǎn)品的良率達(dá)到一定的標(biāo)準(zhǔn)，還需要清洗除塵的程度達(dá)到不錯(cuò)的水平
2023-08-22 10:54:45681 半導(dǎo)體制造工藝之光刻工藝詳解
2023-08-24 10:38:541223 
隨著科技的不斷發(fā)展，半導(dǎo)體技術(shù)在全球范圍內(nèi)得到了廣泛應(yīng)用。半導(dǎo)體設(shè)備在制造過(guò)程中需要經(jīng)過(guò)多個(gè)工藝步驟，而每個(gè)步驟都需要使用到各種不同的材料和設(shè)備。其中，華林科納的PFA管在半導(dǎo)體清洗工藝中扮演著
2023-10-16 15:34:34258 在芯片制造中，單純的物理研磨是不行的。因?yàn)閱渭兊奈锢?b class="flag-6" style="color: red">研磨會(huì)引入顯著的機(jī)械損傷，如劃痕和位錯(cuò)，且無(wú)法達(dá)到所需的平整度，因此不適用于芯片制造。
2023-11-29 10:03:32327 
化學(xué)機(jī)械研磨工藝操作的基本介紹以及其比單純物理研磨的優(yōu)勢(shì)介紹。
2023-11-29 10:05:09349 在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中，清洗機(jī)與PFA閥門(mén)扮演著至關(guān)重要的角色。它們是半導(dǎo)體制造過(guò)程中的關(guān)鍵設(shè)備，對(duì)于提高產(chǎn)品質(zhì)量、確保生產(chǎn)效率具有舉足輕重的作用。 半導(dǎo)體清洗機(jī)是一種專(zhuān)門(mén)用于清洗半導(dǎo)體的設(shè)備。在半導(dǎo)體制造
2023-12-26 13:51:35258 
。以下是
半導(dǎo)體制造中氣體混合的一些常見(jiàn)用途和相關(guān)操作。 1、
清洗:氣體混合用于制備
清洗氣體，例如氫氣和氮?dú)獾幕旌衔铮匀コ?b class="flag-6" style="color: red">制造設(shè)備和器件上的雜質(zhì)和殘留物，確保器件的純度。 2、退火:氣體混合物，通常是氫氣和氮?dú)獾幕?/div>
2024-03-05 14:23:0897 
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