發(fā)展國產(chǎn)芯片的核心技術(shù)裝備，國內(nèi)有家公司將使用最先進的光刻機裝備，鉆研7nm制程的芯片制造。。 有些朋友會詫異，咱們國產(chǎn)芯片怎樣會進展到7nm工藝呢，國際上有些廠商已拋卻了研發(fā)7nm制程芯片，中國臺灣的聯(lián)電科技宣告拋卻
2018-10-05 08:16:36
47845 光刻機是集成電路制造的關(guān)鍵核心設(shè)備，為了在更小的物理空間集成更多的電子元件，單個電路的物理尺寸越來越小，主流光刻機在硅片上投射的光刻電路分辨率達到50-90nm。
2016-12-13 02:04:1112251 EUV 作為現(xiàn)在最先進的光刻機，是唯一能夠生產(chǎn) 7nm 以下制程的設(shè)備，因為它發(fā)射的光線波長僅為現(xiàn)有設(shè)備的十五分之一，能夠蝕刻更加精細的半導(dǎo)體電路，所以 EUV 也被成為“突破摩爾定律的救星
2018-05-17 09:22:2010936 作為近乎壟斷的光刻機巨頭，ASML的EUV光刻機已經(jīng)在全球頂尖的晶圓廠中獲得了使用。無論是英特爾、臺積電還是三星，EUV光刻機的購置已經(jīng)是生產(chǎn)支出中很大的一筆，也成了7nm之下不可或缺的制造設(shè)備
2021-12-01 10:07:4110988 全新的開源SDK，SKY90-FD，對應(yīng)SkyWater的90nm FDSOI CMOS工藝。這對于開源芯片設(shè)計來說可是個大新聞，要知道
2022-08-04 08:34:001988 
隨著半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)技術(shù)的不斷發(fā)展，芯片制程工藝已從90nm、65nm、45nm、32nm、22nm、14nm升級到到現(xiàn)在比較主流的10nm、7nm，而最近據(jù)媒體報道，半導(dǎo)體的3nm工藝研發(fā)制作也啟動
2019-12-10 14:38:41
`光刻機MPA500FAb用光柵尺傳感器(掃描部位)供應(yīng)。型號：SONY SR-721 150mm SCALE UNIT with HK-105C`
2020-01-31 18:04:14
想知道為啥同一光源為什么可以衍生出這么多不同工藝節(jié)點，以Intel為例，2000年用的是180nm，而現(xiàn)在已經(jīng)是10nm了，其實光刻機決定了半導(dǎo)體工藝的制程工藝，光刻機的精度跟光源的波長、物鏡的數(shù)值孔徑
2020-07-07 14:22:55
把被攝物體的影像復(fù)制到底片上?！ 《鳤SML光刻機在做的光刻，我們稱之為微影制程，原理是將高能雷射光穿過光罩（reticle），將光罩上的電路圖形透過聚光鏡（projectionlens），將影像縮小
2020-09-02 17:38:07
電子報》記者解釋：“光刻是芯片制造技術(shù)的主要環(huán)節(jié)之一。目前主流的芯片制造是基于193nm光刻機進行的。然而193nm浸沒光刻技術(shù)很難支撐40nm以下的工藝生產(chǎn)，因此到了22/20nm及以下工藝節(jié)點，芯片廠商
2017-11-14 16:24:44
`現(xiàn)在處理一批MA-1200光刻機的零件，有需要的朋友請直接聯(lián)系我：137-3532-3169`
2020-02-06 16:24:39
總工藝時長的40%至60%，成本也占整個芯片制造成本的35%。有機光刻膠主要用于90nm到7nm的芯片制造，但隨著制程推進到5nm，將開始需要無機光刻膠。目前來看，中高端光刻膠產(chǎn)品主要還是掌控在日本
2020-03-09 10:13:54
當前，國內(nèi)單片機芯片加工精度已經(jīng)到了7nm，雖然三星吹牛說要燒到3nm，但是在芯片的研究道路上，是燒錢也燒時間呀。國內(nèi)單片機領(lǐng)域的刻蝕機設(shè)備在今年也實現(xiàn)了相應(yīng)的突破，讓國人甚是歡喜。國內(nèi)單片機的制程
2018-09-03 16:48:04
如果國家以兩彈一星的精神投入光刻機的研發(fā)制造，結(jié)果會怎樣？
2020-06-10 19:23:14
[td]如題，求smic 90nm 的PDK，用于本科畢設(shè)學習，郵箱zbdzjm@163.本來想設(shè)定10000，誰知道懸賞價格論壇限定在2000了，咋破？
2021-06-21 07:21:09
EUV主要用于7nm及以下制程的芯片制造，光刻機作為集成電路制造中最關(guān)鍵的設(shè)備，對芯片制作工藝有著決定性的影響，被譽為“超精密制造技術(shù)皇冠上的明珠”，根據(jù)之前中芯國際的公報，目...
2021-07-29 09:36:46
光刻膠（光敏膠）進行光刻，將圖形信息轉(zhuǎn)移到基片上，從而實現(xiàn)微細結(jié)構(gòu)的制造。光刻機的工作原理是利用光學系統(tǒng)將光線聚焦到光刻膠上，通過掩膜版（也稱為光刻掩膜）上的圖形
2023-07-07 11:46:07
威盛90nm CPU 冠名C7
臺灣芯片制造商威盛公司最近將其下一代x86 兼容處理器命名為C7。C7 的代碼名為Esther，將于2005 年上半年推出，
2009-08-21 10:56:03641 荷蘭作為光刻的生產(chǎn)大國，很多人紛紛都在問為什么荷蘭能生產(chǎn)二中國不行.本文主要分析了中國光刻機的發(fā)展分析以及與荷蘭之間的差距，詳細的說明了荷蘭光刻機為什么厲害，為何光刻機不賣給中國的原因。
2017-12-19 14:56:42124546 光刻機，被譽為人類20世紀的發(fā)明奇跡之一。我們?nèi)粘Ｊ褂檬謾C的CPU制造工藝都離不開光刻機。
2018-04-10 10:39:18129923 從2009年開始算起，中國研究團隊一路攻堅克難，國產(chǎn)首套90納米高端光刻機已于近期第一次成功曝光。2022年左右有望完成驗收。這意味著，中國半導(dǎo)體材料和設(shè)備（工藝技術(shù)）產(chǎn)業(yè)又向前跨出了關(guān)鍵一大步
2018-04-10 10:57:41239635 ”級別的“神器”我國能趕超歐美嗎？特別是最近某科技媒體稱，“是什么卡了我們的脖子—— 這些“細節(jié)”讓中國難望頂級光刻機項背”，筆者根據(jù)公開資料解析我國光刻機最新進展。所謂光刻機，原理實際上跟照相機差不多
2018-07-29 11:16:005435 現(xiàn)在的EUV光刻機使用的是波長13.5nm的極紫外光，而普通的DUV光刻機使用的是193nm的深紫外光，所以升級到EUV光刻機可以大幅提升半導(dǎo)體工藝水平，實現(xiàn)7nm及以下工藝。
2018-11-01 09:44:264269 的光刻機中，性能最好的是能用來加工90nm芯片的光刻機，與國外的技術(shù)差距說是鴻溝都不為過。正是因此，國內(nèi)晶圓廠所需的高端光刻機完全依賴進口。 在國內(nèi)，一直流傳著一種聲音，即受西方《瓦森納協(xié)議》的限制
2018-11-02 10:14:19834 在先進制程納米節(jié)點持續(xù)微縮下，光刻機是重要關(guān)鍵設(shè)備。12寸晶圓主要光刻機為ArF immersion機臺，可覆蓋45nm一路往下到7nm節(jié)點的使用范圍，其雷射光波長最小微縮到193nm；針對7nm
2019-06-10 16:56:366512 
格芯首席技術(shù)官Gary Patton表示，如果在5nm的時候沒有使用EUV光刻機，那么光刻的步驟將會超過100步，這會讓人瘋狂。所以所EUV光刻機無疑是未來5nm和3nm芯片的最重要生產(chǎn)工具，未來圍繞EUV光刻機的爭奪戰(zhàn)將會變得異常激烈。因為這是決定這些廠商未來在先進工藝市場競爭的關(guān)鍵。
2019-09-03 17:18:1812845 
近日，上海新陽在投資者互動平臺上表示，公司用于KRF248nm光刻膠配套的光刻機已完成廠內(nèi)安裝開始調(diào)試，ARF193nm光刻膠配套的光刻機預(yù)計12月底到貨。
2019-12-04 15:24:457942 光刻機是芯片制造最為重要的設(shè)備之一。目前，ASML壟斷了全世界的高端光刻機。中國一直以來都想掌握光刻機技術(shù)，但是上海微電子經(jīng)過17年的努力，才造出90nm的光刻機，這已經(jīng)十分不容易了，這可是0的突破。那么為什么光刻機這么難造呢？
2020-01-29 11:07:007799 眾所周知，說起芯片，大家就會想到光刻機，說起光刻機，大家就會想到ASML。因為在芯片生產(chǎn)中，光刻機特別重要，而ASML又是高端光刻機的壟斷者，占了85%以上的高端市場。
2020-02-20 20:30:455443 大家都知道，光刻機是芯片制造過程當中一個重要的環(huán)節(jié)，光刻機直接決定著芯片的質(zhì)量。而我國作為全球最大的芯片消費國之一，每年進口的芯片都達到幾萬億人民幣。
2020-03-08 16:42:008161 
據(jù)國外媒體報道，在芯片的制造過程中，光刻機是必不可少的設(shè)備，在芯片工藝提升到7nm EUV、5nm之后，極紫外光刻機也就至關(guān)重要。
2020-03-07 14:39:545045 光刻機是芯片制造的重要設(shè)備，內(nèi)部結(jié)構(gòu)精密復(fù)雜，它決定著芯片的制程工藝，是芯片生產(chǎn)中不可少的關(guān)鍵設(shè)備，而且光刻機的技術(shù)門檻極高，整個設(shè)備的不同部位采用了世界上最先進的技術(shù)，如德國的光學設(shè)備、美國的計量設(shè)備等，可以說是“集人類智慧大成的產(chǎn)物”，被譽為半導(dǎo)體工業(yè)皇冠上的明珠。
2020-03-14 10:58:4874615 ，中國最好的光刻機廠商上海微電子裝備有限公司（SMEE）已經(jīng)量產(chǎn)的光刻機中，性能最好的SSA600/20工藝只能達到90nm，相當于2004年上市的奔騰四CPU的水準。而國外的先進水平已經(jīng)達到了7納米，正因如此，國內(nèi)晶圓廠所需的高端光刻機完全依賴進口。
2020-03-18 10:52:1189226 光刻機是集成電路制造中最精密復(fù)雜、難度最高、價格最昂貴的設(shè)備，用于在芯片制造過程中的掩膜圖形到硅襯底圖形之間的轉(zhuǎn)移。集成電路在制作過程中經(jīng)歷材料制備、掩膜、光刻、刻蝕、清洗、摻雜、機械研磨等多個工序，其中以光刻工序最為關(guān)鍵，因為它是整個集成電路產(chǎn)業(yè)制造工藝先進程度的重要指標。
2020-03-18 11:00:4172452 光刻機是芯片制造的核心設(shè)備之一，作為目前世界上最復(fù)雜的精密設(shè)備之一，其實光刻機除了能用于生產(chǎn)芯片之外，還有用于封裝的光刻機，或者是用于LED制造領(lǐng)域的投影光刻機。目前，我國高端的光刻機，基本上是從荷蘭ASML進口的。
2020-03-18 11:12:0244388 我國的光刻機目前能做的只有90nm制程，而荷蘭的ASML 最新EUV工藝光刻機可以做到7nm制程、6nm制程、5nm制程，并且一臺頂級的光刻機需要上萬個零部件，需要不同國家的各個頂級部件，售價也高達7億人民幣。
2020-03-19 16:46:3821223 中芯國際接連取得突破，打破西方光刻機封鎖，勝利女神在招手！在我國半導(dǎo)體行業(yè)內(nèi)，一直存在著一個重大問題，那就是我國國產(chǎn)光刻機的精度僅為90nm，那么90nm精度的光刻機到底能夠干什么呢？
2020-04-10 17:52:0612529 眾所周知全球最大的兩個芯片代工廠是三星和臺積電，雖說臺積電和三星如果斷供，像華為麒麟高端芯片可能就會癱瘓，但三星和臺積電也沒有自己的光刻機，只能跟荷蘭ASML公司購買。
2020-04-13 17:22:3047934 大家都知道，目前我國光刻機技術(shù)至少落后荷蘭ASML15年，目前荷蘭ASML的頂級光刻機可以達到7nm工藝，目前他們正大研發(fā)5nm工藝光刻機。
2020-04-19 23:43:2610223 光刻機是中國在半導(dǎo)體設(shè)備制造上的大短板。 生產(chǎn)芯片的光刻機又根據(jù)工藝分為High End光刻機和Medium and low end光刻機，雖然在High End光刻機上被荷蘭的阿斯麥所壟斷，但在Medium and low end光刻機方面中國的技術(shù)已經(jīng)較為成熟，且不斷在向High End光刻機突破。
2020-06-15 08:05:54999 作為半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)過程中最重要的裝備，光刻機一直牽動人心。事實上，制程工藝越先進就要離不開先進光刻機。
2020-07-07 16:25:042769 芯片是半導(dǎo)體中的積分器，目前芯片的利用率很高，要想在技術(shù)領(lǐng)域有所突破，就必須在芯片領(lǐng)域發(fā)展。在芯片制造中，最受關(guān)注的是光刻機的發(fā)展。到目前為止，我國光刻機制造領(lǐng)域還比較缺乏機械。我們的光刻機技術(shù)相對
2020-08-02 10:32:3224155 中科院去年宣布進軍光刻機，相信在量子芯片、光子芯片、第三代半導(dǎo)體等領(lǐng)域中國可以實現(xiàn)彎道超車的。
2021-01-20 16:02:416072 
光刻機被美國制裁阻撓之后，中國企業(yè)發(fā)揮了曲線救芯的創(chuàng)新思維，從韓國代理商購買了二手ASML浸沒式光刻機，有望打破美日歐壟斷，實現(xiàn)12英寸國產(chǎn)芯片生產(chǎn)！ 受美國阻撓及新冠疫情影響，此前我國
2021-01-25 14:35:392218 芯片制程已經(jīng)推進到了7nm以下，這其中最關(guān)鍵的核心設(shè)備就要數(shù)EUV光刻機了，目前全世界只有荷蘭ASML（阿斯麥）可以制造。
2020-09-28 16:31:471631 光刻機又名：掩模對準曝光機，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等，是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術(shù)，把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。光刻機是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中最關(guān)鍵設(shè)備，光刻工藝決定了半導(dǎo)體線路的線寬，同時也決定了芯片的性能和功耗。
2020-09-30 16:17:135162 
荷蘭阿斯麥（ASML）公司的光刻機作為世界上最貴最精密的儀器，相信大家都有耳聞，它是加工芯片的設(shè)備。其最先進的EUV（極紫外光）光刻機已經(jīng)能夠制造7nm以下制程的芯片，據(jù)說一套最先進的7納米EUV
2020-10-15 09:20:054438 光刻機是半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)過程中的關(guān)鍵設(shè)備，光刻機所使用的光源波長直接決定著芯片的工藝級別。例如，目前最先進的芯片制程7nm\5nm等，都離不開EUV極紫外光刻機，而這種光刻機的全球唯一供應(yīng)商就是荷蘭
2020-10-16 11:01:542054 ASML的EUV光刻機是目前全球唯一可以滿足22nm以下制程芯片生產(chǎn)的設(shè)備，其中10nm及以下的芯片制造，EUV光刻機必不可缺。一臺EUV光刻機的售價為1.48億歐元，折合人民幣高達11.74億元
2020-10-19 12:02:499648 
下，都將全力支持。 IT之家昨日報道，ASML 在第三屆中國國際進口博覽會上展示了先進的 DUV 光刻機。據(jù)了解，該產(chǎn)品可生產(chǎn) 7nm 及以上制程芯片。 DUV ：深紫外線（Deep
2020-11-06 10:58:351586 11月5日，世界光刻機巨頭荷蘭阿斯麥ASML亮相第三屆進博會。作為全球唯一能生產(chǎn)EUV（極紫外光）光刻機的企業(yè)，由于ASML目前仍不能向中國出口EUV光刻機，所以此次展示的是其DUV（深紫外光）光刻機。據(jù)悉，該產(chǎn)品可生產(chǎn)7nm及以上制程芯片。
2020-11-06 11:18:552396 
11月5日，世界光刻機巨頭荷蘭阿斯麥ASML亮相第三屆進博會。作為全球唯一能生產(chǎn)EUV（極紫外光）光刻機的企業(yè)，由于ASML目前仍不能向中國出口EUV光刻機，所以此次展示的是其DUV（深紫外光）光刻機。據(jù)悉，該產(chǎn)品可生產(chǎn)7nm及以上制程芯片。
2020-11-06 11:27:465517 作為半導(dǎo)體制造中的核心設(shè)備，光刻機無疑是芯片產(chǎn)業(yè)皇冠上的明珠，特別是先進工藝的光刻機，7nm以下的都要依賴ASML公司，EUV光刻機他們還是獨一份。
2020-11-09 17:11:382195 ASML在光刻機領(lǐng)域幾乎是巨無霸的存在，而他們對于與中國企業(yè)合作也是非常歡迎，無奈一些關(guān)鍵細節(jié)上被美國卡死。 中國需要光刻機，尤其是支持先進制程的高端光刻機，特別是 EUV （極紫外光源）光刻機
2020-11-10 10:08:043056 中國需要光刻機，尤其是支持先進制程的高端光刻機。具體來說，就是 EUV （極紫外光源）光刻機。
2020-11-11 10:13:304278 
12月2日消息，據(jù)國外媒體報道，全球第一大芯片代工商臺積電，能夠獲得大量的芯片代工訂單，除了領(lǐng)先的制程工藝，還得益于阿斯麥所供應(yīng)的大量先進的光刻機，在第二代7nm和5nm所需要的極紫外光刻機方面，尤其如此，他們獲得的極紫外光刻機的數(shù)量，遠多于三星。
2020-12-02 10:21:09835 自從芯片工藝進入到7nm工藝時代以后，需要用到一臺頂尖的EUV光刻機設(shè)備，才可以制造7nm EUV、5nm等先進制程工藝的芯片產(chǎn)品，但就在近日，又有外媒豪言：這種頂尖的EUV極紫外光刻機，目前全球
2020-12-03 13:46:226379 ? ? 11月30日最新報道，近日荷蘭光刻機巨頭阿斯麥（ASML）又送來一則好消息，該司已經(jīng)與比利時半導(dǎo)體研究機構(gòu)IMEC共同完成了1nm光刻機的設(shè)計工作。 ? 據(jù)了解，先進制程的光刻機對于曝光設(shè)備
2020-12-09 09:35:594107 02專項光刻機項目二期曾設(shè)定，擬于2020年12月驗收由上海微電子設(shè)計集成的193nm ArF浸沒式DUV光刻機。 這一技術(shù)突破無疑極具重要意義。要知道，此前上海微電子能量產(chǎn)的最先進光刻機，已被卡在90nm制程上四年之久。但是，現(xiàn)在時間邁進12月中旬，我們卻并未
2020-12-27 11:26:066799 之前有消息稱，臺積電正在籌集更多的資金，為的是向ASML購買更多更先進制程的EUV光刻機，而這些都是為了新制程做準備。
2020-12-29 09:22:482192 在光刻機領(lǐng)域一家獨大的荷蘭光刻機巨頭ASML，占據(jù)著芯片行業(yè)的頂端，畢竟沒有了他們的設(shè)備，想要造出先進工藝制程的芯片是沒戲的。
2021-01-22 09:39:221931 
在光刻機領(lǐng)域一家獨大的荷蘭光刻機巨頭ASML，占據(jù)著芯片行業(yè)的頂端，畢竟沒有了他們的設(shè)備，想要造出先進工藝制程的芯片是沒戲的。
2021-01-22 09:34:001572 
%，凈利潤達到36億歐元。全球光刻機主要玩家有ASML、尼康和佳能三家，他們占到了全球市場90%。 ASML由于技術(shù)領(lǐng)先，一家壟斷了第五代光刻機EUV光刻機，這類光刻機用于制造7nm以下先進制程的芯片。 2020年ASML對外銷售了31臺EUV光刻機，帶來了45億歐元（折合352.52億
2021-01-22 10:38:164677 
臺積電折腰的公司，這一點也不夸張。阿斯麥所生產(chǎn)的光刻機，是半導(dǎo)體工廠生產(chǎn)芯片的最關(guān)鍵工具。畢竟，沒有刀，再好的師傅也雕不出來花。 如果有任何廠商的光刻機設(shè)備需要維修，阿斯麥的工程師從登上飛機那一刻，廠商就要付給他們以小時計的美金。 曾經(jīng)
2021-01-25 11:23:205568 據(jù)國外媒體報道，臺積電和三星電子的芯片制程工藝，均已提升到了 5nm，更先進的工藝研發(fā)也在推進，并在謀劃量產(chǎn)事宜。 在制程工藝提升到 5nm 之后，也就意味著臺積電、三星等廠商，對極紫外光刻機的需求
2021-01-25 17:10:181352 ，對極紫外光刻機的需求會不斷增加，而全球目前唯一能生產(chǎn)極紫外光刻機廠商的阿斯麥，也就大量供應(yīng)極紫外光刻機。 英文媒體在最新的報道中表示，在芯片制程工藝方面走在行業(yè)前列的臺積電，在今年預(yù)計可獲得 18 臺極紫外光刻機，三星和英特爾也將
2021-01-25 17:21:543321 EUV光刻機，一直是中國芯片制造無法進一步升級的掣肘。去年9月份，時任中國科學院院長白春禮公開表態(tài)稱，將集中精力攻克光刻機難題。不到半年時間，中國科學家就在這一“卡脖子”技術(shù)取得了關(guān)鍵性突破。
2021-02-26 09:06:185287 2月25日消息，據(jù)國外媒體報道，芯片制程工藝提升至5nm的臺積電和三星，已從阿斯麥購買了大量的極紫外光刻機，并且還在大量購買。
2021-02-26 09:22:011530 中芯國際的芯片工藝目前已發(fā)展至14nm，若想將芯片工藝進一步提升至7nm乃至3nm等先進制程，EUV光刻機設(shè)備就必不可少。那么，中芯國際此次12億美元的采購協(xié)議都有哪些類型的光刻機，包含EUV光刻機嗎？
2021-03-10 14:36:559465 5nm光刻技術(shù)與ASML光刻機有何區(qū)別？ EUV光刻機產(chǎn)能如何？ 大飛_6g（聽友） 請問謝博士，EUV光刻機的產(chǎn)能是怎樣的？比如用最先進的光刻機，滿負荷生產(chǎn)手機芯片麒麟990，每天能產(chǎn)多少片？中芯國際有多少臺投入生產(chǎn)的光刻機？是1臺、5臺還是10臺呢？謝謝 謝志
2021-03-14 09:46:3023476 、用途 光刻機是芯片制造的核心設(shè)備之一,按照用途可以分為好幾種:有用于生產(chǎn)芯片的光刻機;有用于封裝的
2021-03-27 10:00:371469 
用途 光刻機是芯片制造的核心設(shè)備之一,按照用途可以分為好幾種:有用于生產(chǎn)芯片的光刻機;有用于封裝的光刻機
2021-03-30 18:17:272075 
不會有我們現(xiàn)在的手機、電腦了。 光刻機是用于芯片制造的核心設(shè)備，按照用途可以分為用于生產(chǎn)芯片的光刻機、用于封裝的光刻機和用于LED制造領(lǐng)域的投影光刻機。 光刻機的核心原理就是一個透鏡組，在精度上首先咱們有個概念：我們現(xiàn)在芯片的
2021-07-07 14:31:18125772 光刻機原理怎么做芯片 光刻是集成電路中最重要的工藝，光刻機是制造芯片的核心裝備，在芯片的制作中，幾乎每個工藝的實施，都需要用到光刻技術(shù)?？梢哉f，光刻機是半導(dǎo)體界的一顆明珠。那么光刻機原理怎么做芯片
2021-08-07 14:54:5412869 因為在科技圈發(fā)生的各種問題，比如華為等企業(yè)被美國供斷芯片，國內(nèi)一度為芯片供應(yīng)問題而一籌莫展，很多人也因此知道了芯片的重要性的世界芯片的格局。在芯片的制作方面，傳統(tǒng)硅基芯片制造必定需要光刻機，納米制程
2021-08-31 09:40:0713616 電子發(fā)燒友網(wǎng)報道（文/周凱揚）作為近乎壟斷的光刻機巨頭，ASML的EUV光刻機已經(jīng)在全球頂尖的晶圓廠中獲得了使用。無論是英特爾、臺積電還是三星，EUV光刻機的購置已經(jīng)是生產(chǎn)支出中很大的一筆，也成了
2021-12-07 14:01:1010742 光刻機作為芯片的核心制造設(shè)備，也是當前最復(fù)雜的精密儀器之一。其實光刻機不僅可以用于芯片生產(chǎn)，還可以用于封裝和用于LED制造領(lǐng)域。
2022-01-03 16:43:0016302 光刻機是芯片制造的重要設(shè)備，內(nèi)部結(jié)構(gòu)精密復(fù)雜，它決定著芯片的制程工藝，是芯片生產(chǎn)中不可少的關(guān)鍵設(shè)備，而且光刻機的技術(shù)門檻極高，整個設(shè)備的不同部位采用了世界上最先進的技術(shù)
2021-12-30 09:46:534123 光刻機制作芯片過程非常復(fù)雜，而光刻機是制造芯片最重要的設(shè)備之一，由于先進光刻機的技術(shù)封鎖，中國芯片廠商的芯片制作工藝目前比較落后，也沒有優(yōu)秀的國產(chǎn)光刻機來掌握到最先進的光刻技術(shù)。
2021-12-30 11:23:2111145 光刻機是芯片制造的核心設(shè)備之一。目前有用于生產(chǎn)的光刻機，有用于LED制造領(lǐng)域的光刻機，還有用于封裝的光刻機。光刻機是采用類似照片沖印的技術(shù)，然后把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。
2022-02-05 16:03:0085813 按照光刻機的理想工作狀態(tài)，一臺光刻機一天能生產(chǎn)800×600顆芯片，也就是48萬顆芯片，除去產(chǎn)品中的一部分次品，一天剩下的大概在40萬顆芯片左右。
2022-02-05 16:15:00203950 光刻機又被稱為掩膜對準曝光機，在芯片生產(chǎn)中用于光刻工藝，而光刻工藝又是生產(chǎn)流程中最關(guān)鍵的一步，所以光刻機又是芯片生產(chǎn)中不可缺少的設(shè)備，總得來說光刻機是用來制造芯片的。
2022-02-06 07:25:0029436 Intel CEO基辛格第二次訪問臺積電，尋求臺積電90nm、65nm、40/45nm、28nm制程的代工。
2022-04-10 12:06:031881 ，預(yù)計投資4600億盧幣，可能在今年開始生產(chǎn)90nm制程工藝的芯片。 不過90nm制程的芯片技術(shù)早在2003年就被英特爾研發(fā)出來了，而28nm的技術(shù)也只相當于臺積電2011年的水平，由于基礎(chǔ)薄弱的原因，俄羅斯不得不投入大量資金和時間來彌補芯片上的技術(shù)缺失。 綜
2022-04-17 17:14:372831 現(xiàn)在全球芯片行業(yè)都聚焦在了2nm制程上，臺積電、三星、IBM等芯片巨頭也都相繼宣布了2nm制程技術(shù)的相關(guān)消息，臺積電和三星已經(jīng)著手3nm制程的量產(chǎn)了，而在中國大陸，芯片行業(yè)還停留在研發(fā)7nm制程
2022-06-22 10:40:5135066 在電子化程度如此高的現(xiàn)在，人們身邊的電子設(shè)備比比皆是，而它們又都離不開芯片?，F(xiàn)在芯片制程技術(shù)也處于飛速發(fā)展的階段，芯片巨頭臺積電和三星都將在今年下半年開始量產(chǎn)3nm制程芯片，2024或2025年實現(xiàn)
2022-06-22 14:44:161183 在芯片研發(fā)的過程中，光刻機是必不可少的部分，而隨著芯片制程工藝的不斷發(fā)展，普通的光刻機已經(jīng)不能滿足先進制程了，必須要用最先進的EUV光刻機才能完成7nm及其以下的先進制程，而目前臺積電和三星都在攻克
2022-06-28 15:07:126676 光刻機是制作芯片的關(guān)鍵設(shè)備，利用光刻機發(fā)出的紫外光源通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的硅片曝光，使光刻膠性質(zhì)變化、達到圖形刻印在硅片上形成電子線路圖。我國目前還是采用什深紫外光的193nm制程工藝，如上海微電子裝備公司（CMEE）制程90nm工藝的光刻機，那么90nm光刻機能生產(chǎn)什么芯片呢？
2022-06-30 09:46:2131257 眾所周知，光刻機一直處于壟斷地位，在光刻機領(lǐng)域，最有名的就是ASML公司了。
2022-07-04 11:21:15288331 隨著芯片制程工藝的更新迭代，芯片已進入納米時代，指甲蓋大小的芯片上集成的晶體管數(shù)量高達百億。然而芯片制造最大的困難是光刻機。
2022-07-05 10:57:265743 1、IBM的2nm芯片，所有關(guān)鍵功能都是使用EUV光刻機進行刻蝕。而7nm芯片只有在芯片生產(chǎn)的中間和后端環(huán)節(jié)使用EUV光刻機，意味著2nm工藝對EUV光刻機擁有更高的依賴性。
2022-07-05 17:26:497169 光刻機是制作芯片并不可少的重要工具，大家都知道，光刻機技術(shù)幾乎被荷蘭ASML所壟斷，那么全球最先進的光刻機是多少nm的？中國現(xiàn)在又能夠做出幾nm的芯片呢？
2022-07-06 10:07:15247354 大家都知道，芯片制造的核心設(shè)備之一就是光刻機了?，F(xiàn)在，全球最先進的光刻機是荷蘭ASML的EUV光刻機，那么euv光刻機目前幾納米呢？ 到現(xiàn)在，世界上最先進的光刻機能夠實現(xiàn)5nm的加工。也就是荷蘭
2022-07-10 11:17:4242766 說到芯片，估計每個人都知道它是什么，但說到光刻，許多人可能不知道它是什么。光刻機是制造芯片的機器和設(shè)備。沒有光刻機的話，就無法生產(chǎn)芯片，因此每個人都知道光刻機對芯片制造業(yè)的重要性。那么euv光刻機
2022-07-10 11:42:276977 可以生產(chǎn)出納米尺寸更小、功能更強大的芯片。 小于5 nm的芯片晶片只能由EUV光刻機生產(chǎn)。 EUV光刻機有光源系統(tǒng)、光學鏡頭、雙工作臺系統(tǒng)三大核心技術(shù)。 目前，最先進的光刻機是荷蘭ASML公司的EUV光刻機。預(yù)計在光路系統(tǒng)的幫助下，能
2022-07-10 14:35:066173 光刻機和euv光刻機區(qū)別是是什么呢？ duv光刻機和euv光刻機區(qū)別 1.基本上duv只能做到25nm，而euv能夠做到10nm以下晶圓的生產(chǎn)。 2. duv主要使用的是光的折射原理，而euv使用的光的反射原理，內(nèi)部必須是真空操作。 以上就是duv光刻機和euv光刻機區(qū)別了，現(xiàn)在基本都是euv光刻機
2022-07-10 14:53:1078127 euv光刻機原理是什么 芯片生產(chǎn)的工具就是紫外光刻機，是大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的核心設(shè)備，對芯片技術(shù)有著決定性的影響。小于5 nm的芯片只能由EUV光刻機生產(chǎn)。那么euv光刻機原理是什么呢？ EUV
2022-07-10 15:28:1015099 光刻機譽為“現(xiàn)代半導(dǎo)體行業(yè)皇冠上的明珠”，是一種高度復(fù)雜的設(shè)備。光刻機是通過紫外光作為“畫筆”，把預(yù)先設(shè)計好的芯片電路路線書寫在硅晶圓旋涂的光刻膠上，光刻工藝直接決定了芯片中晶體管的尺寸和性能，是芯片生產(chǎn)中最為關(guān)鍵的過程。
2022-10-27 09:39:024118 了。 ? 芯片制造離不開光刻機，特別是在先進制程上，EUV光刻機由來自荷蘭的ASML所壟斷。同時，盡管目前市面上，EUV光刻機客戶僅有三家，但需求不斷增加的情況底下，EUV光刻機依然供不應(yīng)求。 ? 針對后3nm時代的芯片制造工藝，High-NA（高數(shù)值孔徑）EUV光刻機
2022-06-29 08:32:004635
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