對于如今的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)而言，EUV光刻機(jī)是打造下一代邏輯和DRAM工藝技術(shù)的關(guān)鍵所在，為了在未來的工藝軍備競賽中保持優(yōu)勢，臺積電、三星和英特爾等廠商紛紛花重金購置EUV光刻機(jī)。 ? 然而，當(dāng)這些來自
2022-07-22 07:49:00
2403 “7納米是很重要的節(jié)點(diǎn)，是生產(chǎn)工藝第一次轉(zhuǎn)向EUV的轉(zhuǎn)折點(diǎn)。三星和臺積電都宣布了將采用EUV(極紫外光微影)技術(shù)在7納米，而EUV是摩爾定律能夠進(jìn)一步延續(xù)到5納米以下的關(guān)鍵?！?Gartner(中國
2017-01-19 10:15:491397 在三星決定7nm率先導(dǎo)入EUV后，讓EUV輸出率獲得快速提升，臺積電決定在7nm強(qiáng)化版提供客戶設(shè)計(jì)定案，5nm才決定全數(shù)導(dǎo)入。
2017-08-23 08:38:231779 韓媒BusinessKorea昨日報(bào)道，三星有意一口氣買下10臺單價(jià)為1.76億美元的EUV。三星如果真的這樣做，那就會提升其在7nm等先進(jìn)工藝上的領(lǐng)先優(yōu)勢。這一方面是由于EUV設(shè)備是未來集成電路
2017-10-24 06:47:006044 3月25日消息 三星電子（Samsung Electronics）宣布，已經(jīng)出貨100萬業(yè)界首款10nm EUV級（D1x）DDR4 DRAM模組。新的基于EUV的DRAM模塊已經(jīng)完成了全球客戶評估，并將為在高端PC、移動終端、企業(yè)級服務(wù)器等等應(yīng)用領(lǐng)域開啟新大門。
2020-03-26 09:12:563600 日前，據(jù)韓國媒體報(bào)道，三星電子和SK海力士都將在DRAM生產(chǎn)中導(dǎo)入EUV技術(shù)，以建立更高的技術(shù)壁壘。對此，美光（Micron）企業(yè)副總裁、中國臺灣美光董事長徐國晉表示，美光不打算跟進(jìn)，目前并無采用 EUV 計(jì)劃。
2020-10-09 10:34:452136 海力士總裁李石熙日前表示，該公司計(jì)劃將于明年下半年開始在利川廠區(qū)M16采用EUV光刻機(jī)生產(chǎn)第四代（1a nm）DRAM產(chǎn)品。 李石熙表示M16工廠將于今年底建成，明年上半年開始引入制造設(shè)備，目前實(shí)驗(yàn)室正在進(jìn)行準(zhǔn)備工作，預(yù)計(jì)明年開始量產(chǎn)。 對內(nèi)存來說，它跟CPU邏輯工
2020-10-31 06:47:001341 韓國三星近期積極將極紫外（EUV）曝光技術(shù)應(yīng)用在采用1z納米制程的DRAM記憶體生產(chǎn)上，并且完成了量產(chǎn)。而根據(jù)半導(dǎo)體分析機(jī)構(gòu)《TechInsights》拆解了分別采用EUV曝光技術(shù)和ArF-i曝光
2021-02-22 10:31:362510 由于西方的禁運(yùn)，中國芯片制造業(yè)無法得到EUV設(shè)備。但是全球能使用EUV的邏輯工藝制程制造商僅只有三家，分別是臺積電、三星及英特爾。
2021-02-23 18:09:474720 。 ? 圖源：SK海力士官網(wǎng) ? SK海力士將這一進(jìn)展定義為：意義非凡。 ? 激進(jìn)的三星和SK海力士 在談?wù)?b class="flag-6" style="color: red">EUV DRAM是否非凡之前，我們先了解一些關(guān)聯(lián)技術(shù)。從原理上說，光刻技術(shù)就是利用光化學(xué)反應(yīng)原理和化學(xué)、物理刻蝕方法將掩模板上的圖案傳遞到晶圓的工藝技術(shù)。近半個(gè)多世紀(jì)，半導(dǎo)
2021-07-13 06:36:582938 
作為近乎壟斷的光刻機(jī)巨頭，ASML的EUV光刻機(jī)已經(jīng)在全球頂尖的晶圓廠中獲得了使用。無論是英特爾、臺積電還是三星，EUV光刻機(jī)的購置已經(jīng)是生產(chǎn)支出中很大的一筆，也成了7nm之下不可或缺的制造設(shè)備
2021-12-01 10:07:4110988 水平。 ? 美光的1γ節(jié)點(diǎn) ? 在今年五月，美光宣布將在日本引入EUV光刻機(jī)，用于開發(fā)下一代DRAM，基于最先進(jìn)的1γ節(jié)點(diǎn)。此消息一出，美光也就成為第一個(gè)為日本引入EUV光刻機(jī)的企業(yè)，美光計(jì)劃在未來幾年內(nèi)，為位于廣島的設(shè)施投資5000億日元持續(xù)
2023-10-10 01:13:001438 `這幾年以來，國內(nèi)巨頭都在花大力氣研發(fā)內(nèi)存，以期打破壟斷，尤其是三星的壟斷。就移動DRAM而言，三星占了全球80%的份額，成為全球半導(dǎo)體領(lǐng)域的焦點(diǎn)。日前，三星一反常態(tài)，放緩了存儲器半導(dǎo)體業(yè)務(wù)的擴(kuò)張
2018-10-12 14:46:09
ofweek電子工程網(wǎng)訊 國際半導(dǎo)體制造龍頭三星、臺積電先后宣布將于2018年量產(chǎn)7納米晶圓制造工藝。這一消息使得業(yè)界對半導(dǎo)體制造的關(guān)鍵設(shè)備之一極紫外光刻機(jī)（EUV）的關(guān)注度大幅提升。此后又有媒體
2017-11-14 16:24:44
三星在第三個(gè)國家建設(shè)相關(guān)工廠。對在中國設(shè)立生產(chǎn)基地的原因，三星方面稱，“中國IT領(lǐng)域非?；钴S，全世界V-NAND芯片有一半銷量在中國消化。在西安投產(chǎn)后，我們將就地供應(yīng)，希望獲得好的成績”。 雖然韓國
2014-05-14 15:27:09
三星電子近日在國際學(xué)會“IEDM 2015”上就20nm工藝的DRAM開發(fā)發(fā)表了演講。演講中稱，三星此次試制出了20nm工藝的DRAM，并表示可以“采用同樣的方法，達(dá)到10nm工藝”。 國際電子器件
2015-12-14 13:45:01
解決方案，在未來的GDDR 6 DRAM、LPDDR 5 Mobile DRAM與邏輯芯片的封裝上，都非常關(guān)鍵。顯然臺積電與三星的戰(zhàn)火，在晶圓制造之外，已經(jīng)延燒到封測技術(shù)上。三星研發(fā)投入略顯不足據(jù)IC
2018-12-25 14:31:36
三星宣布將開發(fā)手持式裝置用的ＲＦＩＤ（ｒａｄｉｏ ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ ｉｄｅｎｔｉｆｉｃａｔｉｏｎ）讀取芯片，能讓使用者透過手機(jī)得知產(chǎn)品和服務(wù)信息，但三星并未透露產(chǎn)品何時(shí)上市。 三星指出，ＲＦＩＤ
2019-07-04 07:26:16
的半導(dǎo)體封裝。同年，三星電子成為世界第一個(gè)擁有4-GB半導(dǎo)體處理生產(chǎn)技術(shù)的廠商 1999年7月三星電子世界第一個(gè)1GDDRDRAM芯片實(shí)現(xiàn)商業(yè)化，并引入世界最快的3DGraphics圖形卡專用
2019-04-24 17:17:53
三星ic，大量求購三星ic，帝歐還長期回收ssd固態(tài)硬盤，回收服務(wù)器內(nèi)存條，回收硬盤，回收cpu,回收芯片，回收傳感器，收購連接器，收購鉭電容，回收sd卡，收購tf卡?；厥展S庫存ic，大量收購工廠庫存
2020-12-14 16:00:38
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2021-04-14 19:04:16
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2021-03-10 17:45:41
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2021-04-28 18:52:33
，光源是ArF（氟化氬）準(zhǔn)分子激光器，從45nm到10/7nm工藝都可以使用這種光刻機(jī)，但是到了7nm這個(gè)節(jié)點(diǎn)已經(jīng)的DUV光刻的極限，所以Intel、三星和臺積電都會在7nm這個(gè)節(jié)點(diǎn)引入極紫外光（EUV
2020-07-07 14:22:55
對DRAM芯片的強(qiáng)勁需求將繼續(xù)超過供應(yīng)，因三星和第二大記憶體芯片廠商SK海力士的新廠料在2019年前不會投產(chǎn)；此外，截至9月NAND閃存的需求則連續(xù)第六季超過供應(yīng)。供蘋果新手機(jī)使用的有機(jī)發(fā)光二極體（OLED）面板的銷售增長，也支撐了第四季獲利創(chuàng)紀(jì)錄新高的預(yù)期。
2017-10-13 16:56:04
/5nm等邏輯工藝，還會用在DRAM內(nèi)存芯片生產(chǎn)上。 早前，三星還宣布，其位于華城的V1工廠已經(jīng)開始量產(chǎn)。據(jù)悉，V1廠為三星第一條專門生產(chǎn)EUV技術(shù)的生產(chǎn)線，該工廠已經(jīng)開始量產(chǎn)的產(chǎn)品為7nm 7LPP
2020-02-27 10:42:16
華為三星蘋果高通的差異買IP做集成不宜包裝為掌握核心科技
2021-01-28 07:21:57
LPDDR5究竟是什么？有什么特點(diǎn)？同樣1ynm制程的LPDDR4X和LPDDR5在性能上兩者究竟有多大區(qū)別？
2021-06-18 06:48:12
年收購電子芯片，收購電子IC，收購DDR ,收購集成電路芯片，收購內(nèi)存芯片，大量回收SDRAM、DRAM、SRAM、DDR內(nèi)存芯片系列，三星，現(xiàn)代，閃迪，金士頓，鎂光，東芝，南亞，爾必達(dá)，華邦等各原裝品牌。帝
2021-08-20 19:11:25
回收
三星指紋模組收購
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2021-09-09 19:05:33
三星的K9F1G08U0A nand flash芯片，手冊說有Unique ID可以用，但是沒有說明具體怎么操作。另外在其他三星nor flash芯片手冊中有看到OTP區(qū)域，可以來保存Unique
2017-03-21 09:22:02
DNW軟件只能用于三星的ARM芯片嗎？
2019-08-05 22:52:59
請問一下RK3399芯片啟動需要像三星一樣的bl1嗎？求大神解答
2022-07-11 09:32:16
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2021-07-06 19:32:41
回收三星字庫，全國回收三星字庫。帝歐長期回收ssd固態(tài)硬盤，回收服務(wù)器內(nèi)存條，回收硬盤，回收cpu,回收芯片，回收傳感器，收購連接器，收購鉭電容，回收sd卡，收購tf卡?；厥展S庫存ic，大量收購工廠
2021-02-23 17:54:12
三星官網(wǎng)發(fā)布新聞稿，三星、高通宣布擴(kuò)大晶圓代工業(yè)務(wù)合作，包含高通下一代5G移動芯片，將采用三星7納米LPP（Low-Power Plus）極紫外光（EUV）制程。 新聞稿指出，通過7納米LPP
2018-02-23 07:31:561279 。 GlobalFoundries、英特爾、三星和臺積電希望將EUV光刻技術(shù)加入到7nm和5nm生產(chǎn)中。但就像以前一樣，EUV由幾部分組件組成，在芯片制造商能夠引入之前，它們必須整合在一起。
2018-03-31 11:52:005861 非EUV技術(shù)的7納米制程，直接上7納米LPP EUV制程技術(shù)的原因。如今，三星終于公布了7納米LPP制程已完成新思科技（Synopsys）物理認(rèn)證，意味著7納米EUV制程將可全球量產(chǎn)了。
2018-06-19 15:06:004522 今年臺積電、三星及Globalfoundries等公司都會量產(chǎn)7nm工藝，第一代7nm工藝將使用傳統(tǒng)的DUV光刻工藝，二代7nm才會上EUV光刻工藝，預(yù)計(jì)明年量產(chǎn)。那么存儲芯片行業(yè)何時(shí)會用上EUV
2018-06-07 14:49:006059 美光CEO Sanjay Mehrotra日前在參加伯恩斯坦年度戰(zhàn)略決策會上回答了有關(guān)的工藝問題，在EUV光刻工藝上，他認(rèn)為EUV光刻機(jī)在DRAM芯片制造上不是必須的，直到1α及1β工藝上都也不會用到它。
2018-06-08 14:29:075468 
傳三星電子（Samsung Electronics）啟動采用極紫外光（EUV）微影設(shè)備的DRAM生產(chǎn)研發(fā)，雖然三星目標(biāo)2020年前量產(chǎn)16納米DRAM，不過也有可能先推出17納米制程產(chǎn)品。
2018-08-17 17:07:22709 隨著三星宣布7nm EUV工藝的量產(chǎn)，2018年EUV光刻工藝終于商業(yè)化了，這是EUV工藝研發(fā)三十年來的一個(gè)里程碑。不過EUV工藝要想大規(guī)模量產(chǎn)還有很多技術(shù)挑戰(zhàn)，目前的光源功率以及晶圓產(chǎn)能輸出還沒有
2018-10-30 16:28:403376 就在臺積電與三星在邏輯芯片制程技術(shù)逐漸導(dǎo)入EUV技術(shù)之后，存儲器產(chǎn)業(yè)也將追隨。也就是全球存儲器龍頭三星在未來1Y納米制程的DRAM存儲器芯片生產(chǎn)上，也在研究導(dǎo)入EUV技術(shù)。而除了三星之外，韓國另一家
2018-10-29 17:03:243560 11月12日消息，SK Hynix（SK海力士）宣布研發(fā)完成基于1Ynm工藝的8Gb（1GB）容量DDR4 DRAM芯片。
2018-11-13 09:50:353097 在當(dāng)前全球晶圓制造的先進(jìn)制程領(lǐng)域中，只剩下臺積電、三星以及英特爾可以一較高下。三星雖然早在 2018 年 10 月份就已經(jīng)宣布量產(chǎn) 7 納米 EUV 制程，但實(shí)際情況并非如此。因?yàn)榫瓦B三星自己
2019-04-03 17:21:042839 由于三星去年就小規(guī)模投產(chǎn)了7nm EUV，同時(shí)ASML（荷蘭阿斯麥）將EUV光刻機(jī)的年出貨量從18臺提升到今年的預(yù)計(jì)30臺，顯然促使臺積電不得不加快腳步。
2019-04-30 17:30:037913 SK海力士近日宣布，將在提高第一代10nm級工藝(1xnm) DRAM內(nèi)存芯片產(chǎn)能的同時(shí)，今年下半年開始銷售基于第二代10nm級工藝(1ynm)的內(nèi)存芯片，并為下代內(nèi)存做好準(zhǔn)備。SK海力士
2019-05-14 10:40:002651 通過使用三星7nm EUV工藝代替臺積電的7nm工藝，Nvidia可能能夠獲得更多供應(yīng)。
2019-06-10 09:06:126225 繼臺積電、三星晶圓代工、英特爾等國際大廠在先進(jìn)邏輯制程導(dǎo)入極紫外光（EUV）微影技術(shù)后，同樣面臨制程微縮難度不斷增高的DRAM廠也開始評估采用EUV技術(shù)量產(chǎn)。三星電子今年第四季將開始利用EUV技術(shù)生產(chǎn)1z納米DRAM，SK海力士及美光預(yù)期會在1α納米或1β納米評估導(dǎo)入EUV技術(shù)。
2019-06-18 17:20:312438 DRAM廠商在面對DRAM價(jià)格不斷下跌的困境下，已經(jīng)在考慮導(dǎo)入EUV技術(shù)用于制造DRAM，主要目的是為了降低成本。
2019-06-21 09:10:012047 根據(jù)國外媒體報(bào)導(dǎo)，曾表示目前制程技術(shù)還用不上EUV技術(shù)的各大DRAM廠在目前DRAM價(jià)格直直落，短期看不到止跌訊號的情況下，也頂不住生產(chǎn)成本的壓力，開始考量導(dǎo)入EUV技術(shù)，以降低生產(chǎn)成本。南韓三星將在2019 年底前正式導(dǎo)入。
2019-06-21 10:13:343319 DRAM制造商采用EUVL工具很可能與邏輯生產(chǎn)商（臺積電，三星代工（邏輯芯片的合約制造商，而不是DRAM制造商）的采用類似）：最初的EUV設(shè)備將僅用于幾層，隨著工藝節(jié)點(diǎn)的增加，層數(shù)逐漸增加。ASML估計(jì)，對于DRAM，一個(gè)EUV層每月需要每100，000個(gè)晶圓啟動1.5到2個(gè)EUV系統(tǒng)。
2019-08-27 10:36:133458 近些年來EUV光刻這個(gè)詞大家應(yīng)該聽得越來越多，三星在去年發(fā)布的Exynos 9825 SoC就是首款采用7nm EUV工藝打造的芯片，臺積電的7nm+也是他們首次使用EUV光刻的工藝，蘋果的A13
2020-02-29 10:58:473149 近些年來EUV光刻這個(gè)詞大家應(yīng)該聽得越來越多，三星在去年發(fā)布的Exynos 9825 SoC就是首款采用7nm EUV工藝打造的芯片，臺積電的7nm+也是他們首次使用EUV光刻的工藝，蘋果的A13
2020-02-29 11:42:4529308 當(dāng)前在芯片制造中最先進(jìn)的EUV（極紫外光刻）工藝被三星率先用到了DRAM內(nèi)存顆粒的生產(chǎn)中。
2020-03-25 15:40:482003 據(jù)ZDnet報(bào)道，三星宣布，已成功將EUV技術(shù)應(yīng)用于DRAM的生產(chǎn)中。
2020-03-25 16:24:392783 三星電子（Samsung Electronics）今天宣布，已經(jīng)出貨100萬業(yè)界首款10nm EUV級（D1x）DDR4 DRAM模組。新的基于EUV的DRAM模塊已經(jīng)完成了全球客戶評估，并將為在高端PC、移動終端、企業(yè)級服務(wù)器等等應(yīng)用領(lǐng)域開啟新大門。
2020-03-25 16:53:572345 韓國三星電子于25日宣布,已經(jīng)成功出貨100 萬個(gè)極紫外光刻技術(shù)(EUV)生產(chǎn)的業(yè)界首款10nm級DDR4 DRAM 模組,將為高端PC、移動設(shè)備、企業(yè)服務(wù)器和數(shù)據(jù)中心應(yīng)用等提供更先進(jìn)EUV制程技術(shù)產(chǎn)品,開啟新里程碑。
2020-03-29 14:39:282443 
電子DRAM芯片產(chǎn)品與技術(shù)執(zhí)行副總裁指出，隨著以EUV技術(shù)所生產(chǎn)出的新型DRAM芯片量產(chǎn)，展示著三星對提供革命性的DRAM芯片解決方案以支援全球IT客戶需求的承諾。這項(xiàng)重大進(jìn)展也說明了三星將如何透過即時(shí)開發(fā)高端制程技術(shù)來生產(chǎn)高端存儲器芯片市場的下一代產(chǎn)品，繼續(xù)
2020-04-03 15:47:511009 芯片加工精度取決于光刻機(jī)光線的波長，光線波長越小，芯片精度越高。隨著摩爾定律發(fā)展，芯片制造邁進(jìn)10nm節(jié)點(diǎn)，波長13.4nm的EUV（極紫外光）就成為唯一的選擇。
2020-07-20 09:27:172241 EUV，依靠現(xiàn)有的DUV（深紫外光刻）是玩不轉(zhuǎn)的。 有意思的是，三星最近竟然將EUV與相對上古的10nm工藝結(jié)合，用于量產(chǎn)旗下首批16Gb容量的LPDDR5內(nèi)存芯片。 據(jù)悉，三星的新一代內(nèi)存芯片是基于第三代10nm級（1z）工藝打造，請注意16Gb容量的后綴，是Gb而不是GB，16Gb對應(yīng)的其實(shí)是
2020-09-01 14:00:292234 。 市調(diào)機(jī)構(gòu)集邦科技預(yù)計(jì)，明年動態(tài)隨機(jī)存取存儲器（DRAM）可能跨入 EUV 世代，將由三星搶先導(dǎo)入 EUV 技術(shù)，以提升成本結(jié)構(gòu)與生產(chǎn)效率。 據(jù)臺媒指出，徐國晉 7 日接受采訪時(shí)表示，美光目前采用浸潤式設(shè)備，配合其他制程可以達(dá)到一樣的效果，并無采用 EUV 計(jì)劃。
2020-10-12 09:36:181660 。媒體稱，臺積電采購的EUV光刻機(jī)已經(jīng)超過30臺，三星累計(jì)采購的EUV光刻機(jī)不到20臺。 圍繞芯片制造要用到的關(guān)鍵設(shè)備光刻機(jī)，一直不缺話題。 比如，一臺EUV光刻機(jī)賣多少錢？誰買走了這些EUV光刻機(jī)？大陸廠商還能買到光刻機(jī)嗎？為何三星高管最近跑去荷蘭拜訪ASML總部？ 上面這
2020-10-19 12:02:499648 
臺積電是第一家將EUV（極紫外）光刻工藝商用到晶圓代工的企業(yè)，目前投產(chǎn)的工藝包括N7+、N6和N5三代。
2020-10-22 14:48:561425 ASML公司的EUV光刻機(jī)全球獨(dú)一份，現(xiàn)在主要是用在7nm及以下的邏輯工藝上，臺積電、三星用它生產(chǎn)CPU、GPU等芯片。馬上內(nèi)存芯片也要跟進(jìn)了，SK海力士宣布明年底量產(chǎn)EUV工藝內(nèi)存。
2020-10-30 10:54:211646 據(jù)韓媒報(bào)道，三星副董事長李在镕在訪問荷蘭期間，在會議上要求ASML在一個(gè)月內(nèi)交付三星已購買的9臺EUV光刻設(shè)備。 報(bào)道稱，ASML正在審查三星的要求，這部分EUV設(shè)備最早可于11月運(yùn)往韓國。 據(jù)悉
2020-10-30 14:13:081269 1080處理器是三星首款基于最新的5nm EUV FinFET工藝制造的處理器，進(jìn)一步提高設(shè)備的電源效率和性能。 三星Exynos在11月12日在上海舉行首場國內(nèi)線下發(fā)布會；據(jù)介紹，vivo將首發(fā)搭載
2020-11-12 18:13:203186 目前，EUV光刻機(jī)的部署安裝主要在臺積電、三星的晶圓代工廠。不過，內(nèi)存廠商們也開始著手上馬了。
2020-11-27 09:09:091651 繼SK海力士日前宣布在M14和建設(shè)中的M16工廠均引入EUV光刻機(jī)后，三星也坐不住了。 按照三星的說法，自2014年以來，EUV光刻參與的晶圓超過了400萬片，公司積累了豐富的經(jīng)驗(yàn)，也比其它廠商掌握
2020-12-04 18:26:542201 繼SK海力士日前宣布在M14和建設(shè)中的M16工廠均引入EUV光刻機(jī)后，三星也坐不住了。
2020-12-05 09:14:061454 根據(jù)韓國媒體《Etnews》報(bào)導(dǎo)指出，目前全球3大DRAM存儲器中尚未明確表示采用EUV極紫外光刻機(jī)的美商美光（Micron），因日前招聘網(wǎng)站開始征求EUV工程師，揭露美光也在進(jìn)行EUV運(yùn)用于DRAM先進(jìn)制程，準(zhǔn)備與韓國三星、SK海力士競爭
2020-12-25 14:33:101459 美國美光科技開始提速
EUV DRAM。加入到
三星電子、SK海力士等全球第一、第二
EUV廠商選擇的
EUV陣營后，后續(xù)
EUV競爭或?qū)⒏鼮榧ち摇?/div>
2020-12-25 14:43:131642 荷蘭ASML生產(chǎn)的EUV光刻機(jī)使用由激光產(chǎn)生，并通過巨型鏡子聚焦的極紫外（EUV）光束，在硅片上鋪設(shè)非常狹窄的電路。這能讓廠商制造更快、更強(qiáng)大的微處理器、內(nèi)存芯片和其他先進(jìn)元件。這些元件無論是對消費(fèi)類電子產(chǎn)品，還是對軍事應(yīng)用來說都至關(guān)重要。
2021-01-08 10:25:322858 近期三星為爭搶EUV設(shè)備，高層頻頻傳出密訪ASML，EUV的重要性早已不言而喻。提到EUV，大家首先想到的就是ASML，ASML并不是一個(gè)家喻戶曉的名字，但他卻是現(xiàn)代技術(shù)的關(guān)鍵。因?yàn)樗峁┝?b class="flag-6" style="color: red">制造
2021-01-16 09:43:112542 近期三星為爭搶EUV設(shè)備，高層頻頻傳出密訪ASML，EUV的重要性早已不言而喻。提到EUV，大家首先想到的就是ASML，ASML并不是一個(gè)家喻戶曉的名字，但他卻是現(xiàn)代技術(shù)的關(guān)鍵。因?yàn)樗峁┝?b class="flag-6" style="color: red">制造半導(dǎo)體必不可少的“光刻”機(jī)器，在摩爾定律即將發(fā)展到盡頭的現(xiàn)在，可以說，得EUV者得先進(jìn)工藝。
2021-01-16 09:44:472137 近期三星為爭搶EUV設(shè)備，高層頻頻傳出密訪ASML，EUV的重要性早已不言而喻。提到EUV，大家首先想到的就是ASML，ASML并不是一個(gè)家喻戶曉的名字，但他卻是現(xiàn)代技術(shù)的關(guān)鍵。因?yàn)樗峁┝?b class="flag-6" style="color: red">制造半導(dǎo)體必不可少的“光刻”機(jī)器，在摩爾定律即將發(fā)展到盡頭的現(xiàn)在，可以說，得EUV者得先進(jìn)工藝。
2021-01-16 10:32:574386 經(jīng)過幾個(gè)月的等待，我們終于看到三星電子將極紫外（EUV）光刻技術(shù)應(yīng)用于D1z DRAM的大規(guī)模量產(chǎn)。
2021-02-21 09:20:362660 
三星一方面在積極向唯一的EUV光刻機(jī)廠商ASML爭取訂單，另外一方面也在增資為EUV產(chǎn)業(yè)鏈輸血。
2021-03-04 09:52:411757 三星一方面在積極向唯一的EUV光刻機(jī)廠商ASML爭取訂單，另外一方面也在增資為EUV產(chǎn)業(yè)鏈輸血。
2021-03-04 10:13:051665 因此除了臺積電、三星及英特爾等晶圓廠爭搶EUV，后續(xù)包含美光、SK海力士也需要大量EUV設(shè)備。乘著5G普及的“順風(fēng)”，半導(dǎo)體微縮化需求逐步高漲，半導(dǎo)體廠家加速導(dǎo)入EUV，EUV設(shè)備成為炙手可熱的產(chǎn)品。
2021-05-18 09:49:512182 
臺積電和三星從7nm工藝節(jié)點(diǎn)就開始應(yīng)用EUV光刻層了，并且在隨后的工藝迭代中，逐步增加半導(dǎo)體制造過程中的EUV光刻層數(shù)。
2022-05-13 14:43:202077 
媒體稱三星的目的是為了搶到ASML的EUV光刻機(jī)。 目前芯片短缺的現(xiàn)狀大家也都清楚，再加上7nm制程以下的高端芯片只有EUV光刻機(jī)才能打造，而本來EUV光刻機(jī)就稀少，因此先進(jìn)芯片發(fā)展頻頻受限，并且前段時(shí)間三星才剛剛和Intel洽談完芯片合作的事宜，因
2022-06-07 14:18:041176 EUV光刻機(jī)是在2018年開始出現(xiàn)，并在2019年開始大量交付，而臺積電也是在2019年推出了7nm EUV工藝。
2022-07-07 09:48:444523 說到芯片，估計(jì)每個(gè)人都知道它是什么，但說到光刻，許多人可能不知道它是什么。光刻機(jī)是制造芯片的機(jī)器和設(shè)備。沒有光刻機(jī)的話，就無法生產(chǎn)芯片，因此每個(gè)人都知道光刻機(jī)對芯片制造業(yè)的重要性。那么euv光刻機(jī)
2022-07-10 11:42:276977 EUV 光刻技術(shù)被視為先進(jìn)半導(dǎo)體制造的最大瓶頸，但這些價(jià)值超過 1.5 億美元的工具是沒有光掩模的paperweights。一個(gè)恰當(dāng)?shù)谋扔魇牵庋谀？梢员徽J(rèn)為是光刻工具對芯片層進(jìn)行圖案化所需的物理模板。
2022-08-26 10:49:47942 大多數(shù)人沒有意識到芯片制造是國家經(jīng)濟(jì)的核心。通過閱讀您的書，EUV 的開發(fā)過程始于美國的英特爾，然后完全脫離了英特爾。一家荷蘭公司如何擁有這項(xiàng)關(guān)鍵的芯片制造技術(shù)？
2023-02-15 10:34:06856 需要明確什么是EUV光刻機(jī)。它是一種采用極紫外線光源進(jìn)行曝光的設(shè)備。與傳統(tǒng)的ArF光刻機(jī)相比，EUV光刻機(jī)可以將曝光分辨率提高到7納米以下的超高級別，從而實(shí)現(xiàn)更高清晰度和更高性能的芯片制造。
2023-05-22 12:48:373985 asml是euv技術(shù)開發(fā)的領(lǐng)先者。asml公司是半導(dǎo)體領(lǐng)域光刻機(jī)生產(chǎn)企業(yè)的領(lǐng)頭羊，也是全球市場占有率最大的光刻機(jī)生產(chǎn)企業(yè)。2012年，asml推出了世界上第一個(gè)euv試制品，并于2016年推出了euv第一個(gè)商用顯卡制造機(jī)asmlnxe:3400b。
2023-06-08 09:37:553202 近20年來，EUV光源、EUV掩模和EUV光刻膠一直是EUV光刻的三大技術(shù)挑戰(zhàn)。
2023-09-14 09:45:12563 
EUV曝光是先進(jìn)制程芯片制造中最重要的部分，占據(jù)總時(shí)間、總成本的一半以上。由于這種光刻機(jī)極為復(fù)雜，因此ASML每年只能制造約60臺，而全球5家芯片制造商都依賴ASML的EUV光刻機(jī)，包括英特爾、美光、三星、SK海力士、臺積電。目前，AMSL約有70%的EUV光刻機(jī)被臺積電購買。
2023-11-22 16:46:56383 三星D1a nm LPDDR5X器件的EUV光刻工藝
2023-11-23 18:13:02579 
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