日韓貿(mào)易紛爭(zhēng)還在持續(xù)，有消息顯示，日方甚至有意擴(kuò)大出口限制，韓國(guó)可能遭受更多沖擊。根據(jù)韓國(guó)智庫(kù)韓亞金融經(jīng)營(yíng)研究所最新發(fā)布的一項(xiàng)報(bào)告預(yù)期，日本對(duì)韓國(guó)的經(jīng)濟(jì)報(bào)復(fù)恐將擴(kuò)大到包括半導(dǎo)體制造設(shè)備，南韓的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)將面臨直接打擊。

日本政府從本月初對(duì)起對(duì)南韓 3 項(xiàng)半導(dǎo)體材料，包含氟化聚酰亞胺、光阻劑和高純度氟化氫的出口到施加限制，對(duì)南韓半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)帶來(lái)巨大沖擊，包含三星電子和 SK 海力士的高層已陸續(xù)赴日商討相關(guān)應(yīng)對(duì)策略。

然而，這項(xiàng)紛爭(zhēng)似乎沒(méi)有停止的跡象，報(bào)告中表示，日本政府的下一個(gè)目標(biāo)可能是韓國(guó)的半導(dǎo)體和面板制造設(shè)備。目前韓國(guó)相關(guān)制造商嚴(yán)重依賴(lài)日本進(jìn)口的設(shè)備，日本進(jìn)口晶圓材料占韓國(guó)半導(dǎo)體制造商使用量的 50% 以上，意味著一旦日本政府限制晶圓出口，三星電子和 SK 海力士都將面臨停工的威脅。

目前，韓國(guó)半導(dǎo)體制造商已經(jīng)從東京威力科創(chuàng)、Canon、Nikon 等公司進(jìn)口了許多設(shè)備，包含曝光、沈積、蝕刻和測(cè)試相關(guān)半導(dǎo)體設(shè)備。有數(shù)據(jù)顯示，去年日本半導(dǎo)體設(shè)備占韓國(guó)整體設(shè)備進(jìn)口的 32%。

報(bào)告中寫(xiě)到：韓國(guó)國(guó)產(chǎn)的設(shè)備僅占整體半導(dǎo)體設(shè)備市場(chǎng)的 20%，日本設(shè)備的市占率則高達(dá) 46.9%。此外，在濕式蝕刻 (Wet Etching)、清洗 (Cleaning) 和運(yùn)輸 (Transport) 等設(shè)備方面，南韓對(duì)日本的依賴(lài)程度更高，達(dá)到 80% ~ 90%。

另一方面，面板領(lǐng)域的情況似乎更糟，日本設(shè)備占整體設(shè)備總量的 82.9%。尤其是干蝕刻設(shè)備和 OLED 圖案形成設(shè)備對(duì)日本設(shè)備的依賴(lài)度更是高達(dá) 100%。

縱觀全球半導(dǎo)體設(shè)備市場(chǎng)，核心裝備集中于日本、歐洲、美國(guó)、韓國(guó)四個(gè)地區(qū)。Gartner的數(shù)據(jù)顯示，列入統(tǒng)計(jì)的、規(guī)模以上全球晶圓制造設(shè)備商共計(jì)58家，其中，日本企業(yè)最多，達(dá)到21 家，占 36%。其次是歐洲的13家、北美10家、韓國(guó)7家，中國(guó)4家。

從半導(dǎo)體設(shè)備細(xì)分領(lǐng)域來(lái)看，日本企業(yè)在具有非常強(qiáng)的競(jìng)爭(zhēng)力，市場(chǎng)份額超過(guò)50%的半導(dǎo)體設(shè)備種類(lèi)當(dāng)中，日本就有10種之多。

日本企業(yè)壟斷半導(dǎo)體設(shè)備技術(shù)與市場(chǎng)，占全球半導(dǎo)體設(shè)備總體市場(chǎng)份額高達(dá)37%。在電子束描畫(huà)設(shè)備、涂布/顯影設(shè)備、清洗設(shè)備、氧化爐、減壓CVD設(shè)備等重要前端設(shè)備、以劃片機(jī)為代表的重要后道封裝設(shè)備和以探針器為代表的重要測(cè)試設(shè)備環(huán)節(jié)，日本企業(yè)處于壟斷地位，競(jìng)爭(zhēng)力非常強(qiáng)。

在前道15類(lèi)關(guān)鍵設(shè)備中，日本企業(yè)平均市場(chǎng)份額為38%，在6類(lèi)產(chǎn)品中市場(chǎng)份額占比超越40%，在電子束，涂布顯影設(shè)備市場(chǎng)份額超過(guò)90%；在后道9類(lèi)關(guān)鍵設(shè)備中，日本企業(yè)平均市場(chǎng)份額為41%，在劃片，成型，探針的市場(chǎng)份額都超過(guò)50%。

不過(guò)，在以極紫外光刻機(jī)EUV為代表的先進(jìn)光刻設(shè)備領(lǐng)域，荷蘭公司ASML處于絕對(duì)壟斷地位。而日本在光刻機(jī)方面則略遜一籌，進(jìn)入EUV時(shí)代以后，傳統(tǒng)雙雄尼康和佳能已無(wú)法硬撐。佳能直接退出了光刻機(jī)領(lǐng)域了，僅保留低端的i-line和Kr-F光刻機(jī)。