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回顧DARPA與摩爾定律交織的歷史分析

lC49_半導體 ? 來源:djl ? 2019-08-29 17:54 ? 次閱讀

來源:內容由 公眾號 半導體行業(yè)觀察(ID:icbank)翻譯自「DARPA」,作者 William Chappell,謝謝。

1965年,傳奇科技先驅戈登·摩爾(Gordon Moore)讓我們踏上了長達50年的漫長旅程,因此,將我們的時代視為“微電子時代”是有道理的。那一年,摩爾在《電子》(Electronics)雜志上發(fā)表了一篇題為“在集成電路上塞進更多元件”的文章,文中預言了技術的發(fā)展軌跡:集成電路的晶體管數(shù)量大約每兩年翻一番,而每個晶體管的成本則會降低。當這篇三頁紙的論文首次發(fā)表在這個小眾行業(yè)雜志上時,早期的讀者可能無法想象它對電子行業(yè)的影響。然而,這個卑微的開端展現(xiàn)了我們今天眾所周知的摩爾定律的進步路線。

摩爾不太可能想到,他會為數(shù)億美元聯(lián)邦研究資金的投資、甚至工業(yè)界的更巨額的投資規(guī)劃出一條路線。他和許多來自政府和工業(yè)領域的領導人一同預測了這一進步的終結。然而,通過獨創(chuàng)性、資金和合作伙伴關系,預言繼續(xù)得以實現(xiàn)。

與許多研究機構一樣,DARPA已將摩爾定律作為制定電子創(chuàng)新持續(xù)發(fā)展道路的一種手段。幾十年來,DARPA在電子技術的進步上投入了大量資金,產生了許多改變行業(yè)的技術,同時也實現(xiàn)了摩爾的預言。

DARPA自成立以來通常依賴于一種開放的研究模式,即與非國防導向的伙伴進行合作。相比于軍事研究中通常要求的保密制度,這種包容和合作的模式產生的結果是,DARPA在半導體基礎領域的投資讓美國的半導體技術一馬當先,成為引領者。我們幫助建立了社區(qū),讓創(chuàng)意得以嚴格發(fā)展,然后由行業(yè)完善和制造,從而產生技術進步,帶來經(jīng)濟和國防收益。正確導航摩爾定律一直是我們全球領導地位的決定性因素。

DARPA在集成電路技術方面的最早投資之一是“超大規(guī)模集成電路(VLSI)”計劃。在20世紀70~80年代,VLSI匯集了整個研究團體,在計算機體系結構和系統(tǒng)設計、微電子制造,以及設計制造、測試和評估的全周期方面取得了重大進展。這些研發(fā)承諾幫助克服了摩爾提出的晶體管微縮趨勢的早期障礙。VLSI技術的進步推動了計算機領域的發(fā)展,進一步增強了美國的軍事能力,加強了國家安全,同時也開創(chuàng)了商業(yè)應用的新時代【1】。

VLSI計劃的成果之一包括“精簡指令集計算(RISC)”處理器,這些處理器為超級計算機、美國宇航局火星探路者號探測器,以及今天的手機和移動設備【2】等提供了計算能力。由于RISC處理器的發(fā)展,圖形硬件的性能每年增長55%,基本上每18個月性能就能翻一番【3】。雖然摩爾的言論僅僅描述了晶體管數(shù)量的增加與成本之間的反比關系,但性能的提升很快成為晶體管微縮的代名詞,并成為持續(xù)微縮的主要動力。

VLSI計劃強調了DARPA同美國電子界持續(xù)合作的必要性,以及DARPA在為進一步創(chuàng)新打開大門方面可以發(fā)揮的作用。為了促進對新芯片設計的追求,DARPA于1981年1月建立了“金屬氧化物半導體執(zhí)行服務機構(MOSIS)”。MOSIS提供了短周期、低成本的能力來制造有限批量的定制和半定制微電子器件。這項服務為研究人員提供了機會,否則他們無法直接使用微電子制造設備。在超過35年的發(fā)展歷程中,MOSIS促進了微電子設計和制造領域的穩(wěn)步創(chuàng)新。

雖然美國在上世紀70年代至80年代初加快了微電子技術創(chuàng)新的步伐,但日本在上世紀80年代末在先進半導體生產和制造領域處于領先地位。為了重新獲得主導地位,“半導體制造技術聯(lián)盟(SEMATECH)”在DARPA和美國半導體產業(yè)的支持和資助下成立。在隨后的幾十年里,該聯(lián)盟促進了制造商和供應商之間的社區(qū)參與,并顯著提高了下一代生產工具和設備的研發(fā)。到1992年,美國占全球半導體產量的82%,這在一定程度上要歸功于這種跨社區(qū)的努力【4】。

在上世紀80年代末至90年代初,全新的和不斷發(fā)展的軍事和商業(yè)應用,包括先進武器系統(tǒng)、網(wǎng)絡、全球定位系統(tǒng)(GPS),繼續(xù)推動對高性能、低成本微電子的需求。當然,實現(xiàn)這一目標所需要的晶體管的持續(xù)微縮要求半導體材料、器件集成方案,以及其他技術領域持續(xù)出現(xiàn)更多的創(chuàng)新。

在此期間,DARPA資助了一個計劃,這項計劃開創(chuàng)了半導體光刻技術的先河。該計劃與學術界和工業(yè)界合作,推動了新型透鏡材料和光刻膠的開發(fā),新型透鏡材料和光刻膠突破了以往技術只能達到248nm光刻的技術壁壘,并支持新一代193nm光刻技術。這些微型化和電路密度方面的進展對半導體工業(yè)產生了巨大的影響。新的光刻技術迅速成為主流,業(yè)界人士將其應用于先進的商業(yè)和軍事微電子領域。

在20世紀90年代早期對新材料和集成方案的探索的基礎上,DARPA于1995年啟動了一項開發(fā)25nm以下的晶體管的計劃。在該項目下完成的研究工作導致了FinFET(鰭式場效應晶體管)的問世,F(xiàn)inFET基于一種新型3D晶體管設計,利用突出的鰭狀硅結構,允許多個柵極在一個晶體管上工作。今天,領先的芯片制造商繼續(xù)使用FinFET技術將晶體管縮小到7nm。

雖然摩爾的預測在過去50年里為晶體管微縮的發(fā)展指明了方向,但正是工業(yè)界、學術界和政府機構(如DARPA)的聰明才智和奉獻精神,才使摩爾定律成為了現(xiàn)實。DARPA的投資幫助工業(yè)界和國防部(DOD)克服了傳統(tǒng)晶體管微縮的障礙,通過發(fā)現(xiàn)新材料突破了目前的限制,并可以滿足未來的性能和效率要求。這只有通過圍繞新穎的設計方案和架構培育協(xié)作和創(chuàng)新的環(huán)境,以及在微電子制造和生產中開放實驗路徑才能實現(xiàn)。

正是由于VLSI、MOSIS和SEMATECH等計劃對半導體工業(yè)的商業(yè)與國防支持相互交織在一起的歷史,美國在微電子創(chuàng)新方面享有全球領導地位的獨特優(yōu)勢。這使得消費類電子產品受益于國防部的傳統(tǒng)組件,如GPS,以及利用尖端商業(yè)處理器和專用集成電路的處理能力的軍事系統(tǒng)。

回顧DARPA與摩爾定律交織的歷史分析

從1965年的雜志開始,幾乎沒有人會想到戈登·摩爾的預測會切實描繪出進入微電子時代50年的歷程——集成電路的晶體管數(shù)量大約每兩年翻一番,而每個晶體管的成本將會下降。

回首過去,展望未來:摩爾定律的拐點

美國半導體工業(yè)對美國經(jīng)濟的貢獻是獨一無二的,其貢獻遠遠超過國內其他主要制造業(yè)【5】。在過去的30年里,半導體行業(yè)的增長迅速增長,超過美國GDP增長率的6倍【6】。

然而,并非所有好事都能永遠持續(xù)下去。今天,根據(jù)摩爾定律,半導體技術仍在繼續(xù)進步,但這一進步正顯示出放緩的跡象。除了隨著器件尺寸的不斷縮小所帶來的工藝極限以外,繼續(xù)沿著這條道路走下去的經(jīng)濟學相關的意外后果正在浮出水面。不斷增加的電路復雜性和相關的開發(fā)成本使許多商業(yè)和政府組織無法參與電子研發(fā)的前沿。今天,美國電子產品開發(fā)和制造面臨三大挑戰(zhàn),威脅著行業(yè)未來的健康發(fā)展,也威脅著我們的軍事能力:

1 集成電路設計成本飛漲,限制了創(chuàng)新。只有擁有大量商業(yè)需求的大型全球跨國公司才能在當今的電子領域進行創(chuàng)新和競爭。這嚴重限制了資金短缺的初創(chuàng)公司和國防部設計人員可以制造的電路的復雜性。

2 外國投資正在扭曲市場,推動了向美國以外的轉移。中國投資1500億美元發(fā)展制造業(yè)的計劃吸引了外國的興趣。甚至到2015年,中國已經(jīng)開始建造26座新的300mm半導體代工廠【7】,并啟動了1300座無晶圓廠【8】。這些全球性的經(jīng)濟力量正在為變革性的半導體發(fā)明提供資金保障,以保持其領先地位。

3不斷走向一般化和抽象的趨勢正在扼殺硬件的潛在收益。管理現(xiàn)代電子系統(tǒng)的復雜性(從制造和設計電路到編程)的成本不斷上升,導致了抽象層的增加。從堆棧底部的發(fā)明(例如新材料)到計算堆棧更高處的賺錢部分的眾多步驟使得人們不愿意進行大投資。再加上晶體管持續(xù)微縮所帶來的可預見的好處,這就創(chuàng)造了一個生態(tài)系統(tǒng),在這個生態(tài)系統(tǒng)中,只有通用的電子硬件才能在經(jīng)濟上取得成功,而且大部分價值已經(jīng)向軟件堆棧更高層次的應用程序靠攏。因此,硬件已經(jīng)變得更接近于一種商品,將專業(yè)硬件在性能上的大部分潛在收益保留下來,只在特定的情況下使用。

在這種情況下,回到行業(yè)的起源,并從該領域的引領者那里尋找前進的線索,是很有啟發(fā)性的。甚至在1965年設定路線時,摩爾自己就預見到了微縮的終結。在他的開創(chuàng)性論文中,他傳達了我們所知道的摩爾定律,摩爾預測,除了技術和工程方面的挑戰(zhàn)之外,經(jīng)濟局限性最終可能成為微縮的障礙。同樣重要的是,在他的文章的第三頁,他預測,在我們今天所知的設計自動化、材料科學、封裝和架構專業(yè)化領域的進展,可以為日益強大的電子產品開辟道路。

根據(jù)摩爾50年前的觀察,他準確地預測了我們今天所達到的目標。為了紀念摩爾定律在電子領域的持續(xù)存在,DARPA將這一點稱為“摩爾定律的拐點”——在這一點上,我們今天確定的優(yōu)先事項將決定電子生態(tài)系統(tǒng)是會變得停滯、僵化和傳統(tǒng),還是會變得動態(tài)、靈活和創(chuàng)新。

電子復興計劃:對摩爾定律的拐點的回應

隨著摩爾定律的拐點的臨近,美國政府決定采取大規(guī)模行動,在未來五年內投資15億美元,用于DARPA牽頭的“電子復興計劃(ERI)”。ERI尋求建立一個專業(yè)、安全、高度自動化的創(chuàng)新周期,使美國電子界從通用硬件時代轉向專業(yè)系統(tǒng)。

基于DARPA的電子發(fā)明傳統(tǒng),ERI旨在促進前瞻性的合作和新方法,以迎來電路專業(yè)化的新時代。這項大規(guī)模的計劃將把DARPA的開放研究模式應用于微電子領域的未來,并將政府、學術界、工業(yè)、國防工業(yè)基地和國防部聯(lián)合起來,創(chuàng)造持續(xù)和巨大進步所需的環(huán)境。

根據(jù)摩爾1965年論文第三頁所提供的指導,ERI試圖創(chuàng)建一個生態(tài)系統(tǒng),在這個生態(tài)系統(tǒng)中,智能設計自動化工具能夠直接將邏輯圖轉換成物理芯片,中間不需要任何特殊的工程干預。這將使生產為特定功能設計的小批量定制電路(或加速器核心)在經(jīng)濟上可行,而不僅僅是生產大量通用電路。構建和連接定制電路陣列以形成更大的系統(tǒng)的能力可以讓我們快速高效地創(chuàng)建各種獨特的電子產品。

ERI由DARPA的若干項目組成,其中許多項目是在2017年6月正式宣布ERI計劃后啟動的,重點關注三個研究方向:架構、材料和集成,以及設計。設計方向的團隊尋求開發(fā)一個開放的框架,使研究人員和設計團隊能夠應用機器學習算法,這些算法能夠快速自動地將高級功能和要求轉換為定制電路的物理布局。為了確保各種定制電路、材料和器件技術可以一起用于構建更大的系統(tǒng),材料和集成推動力將研究新的互連標準以及新型存儲器和邏輯電路的集成。最后,架構推動力將探索電路級協(xié)調和硬件/軟件協(xié)同設計方法,以幫助創(chuàng)建模塊化和靈活的系統(tǒng),能夠適應并優(yōu)化新器件和加速器核心的組合,使之適應任何應用。

設計

“也許新設計的設計自動化程序無需任何特殊的工程就能從邏輯圖轉化為技術實現(xiàn)。”

——戈登·摩爾,1965年

雖然摩爾無法預測晶體管微縮會達到哪種程度,但他確實理解晶體管數(shù)量的增加最終會讓電路變得太過復雜,設計師無法手動布局,需要開發(fā)自動化工具。當摩爾發(fā)表他的言論時,集成電路有大約50個晶體管;如今,這個數(shù)字約為210億【9】。隨著晶體管數(shù)量的不斷增加,電子社區(qū)開始開發(fā)電子設計自動化(EDA)工具,以幫助實現(xiàn)這一過程自動化。雖然這些工具在幫助設計人員管理數(shù)十億晶體管布局的復雜性方面具有強大功能,但它們并沒有跟上物理制造能力和模擬電路的興起,這些電路仍然是手動設計的。結果,設計團隊的規(guī)模爆炸式增長,對專業(yè)技術的需求從未如此強烈。

模塊化設計方法的發(fā)展有助于減輕EDA的一些局限。設計師采用的一種技術是將經(jīng)常使用的電路功能放到離散的、模塊化的塊中,稱為知識產權(IP)塊,人們可以使用和重用IP塊來創(chuàng)建更大、更復雜的系統(tǒng)。相比之下,在2000年,超過90%的芯片必須進行專門設計。如今,這一數(shù)字發(fā)生了逆轉,設計師們將設計好的IP塊用于90%以上的芯片【10】。

然而,盡管IP塊的使用越來越多,但設計和驗證新硬件的成本迅速上升,這使得除了大公司以外,其余公司都無法獲得前沿電子產品?!皩崿F(xiàn)更快速的集成電路(CRAFT)”計劃旨在通過使用自動生成器快速創(chuàng)建新電路并加速設計周期來探索此問題的解決方案。最近,CRAFT計劃的研究人員展示了一種利用自動生成器生成數(shù)字電路的設計流程,比傳統(tǒng)方法快7倍。換言之,這些工具使小型設計團隊的生產效率提高了7倍。

要想在即將到來的摩爾定律的拐點之后保持持續(xù)的前進勢頭,就需要突破機器學習的極限,將自動化擴展到電路設計的各個方面。受摩爾先見之明的啟發(fā),ERI設計推進的兩個新項目旨在探索以機器為中心的硬件設計流程,這些設計流程可以支持復雜電子電路的物理布局生成,無需人工,而且在24小時內完成。為了促進電路塊的可靠重用和利用開源設計社區(qū)的集體智慧,這些工作尋求利用新的模擬技術和機器學習來對電路塊進行驗證并模擬。隨著這些增強的設計自動化工具的出現(xiàn),越來越多的創(chuàng)新者進入的門檻將降低,從而誕生出一個前所未有的電子技術專業(yè)化和高能力的時代。

回顧DARPA與摩爾定律交織的歷史分析

材料和集成

“……用較小的功能構建大型系統(tǒng),這些系統(tǒng)是分開封裝且互連的?!?/p>

——戈登·摩爾,1965年

管理模塊化的一個主要挑戰(zhàn)是如何在不影響性能的情況下正確地連接越來越多的功能塊。自2000年以來,每個芯片上的晶體管數(shù)量從4200萬個增加到210億個【11】,而同一芯片上的IP塊數(shù)量也增加了10倍以上【12】。此外,這些功能塊越來越多地成為數(shù)字電路和模擬電路的混合體,而且往往由完全不同的材料制成,這進一步加大了集成的難度。

為了實現(xiàn)摩爾用小功能塊構建大功能的愿景,我們需要找到各種不同的塊之間連接和通信的新方法。

摩爾對材料和集成的預測已經(jīng)在DARPA的“通用異構集成和IP重用策略(CHIPS)”計劃中實現(xiàn)。這項研究工作旨在開發(fā)模塊化芯片設計,通過集成各種IP模塊,以預制小芯片(chiplet)的形式進行快速組裝和重新配置。這些chiplet利用標準布局和接口輕松連接在一起。該計劃最近宣布,英特爾將向CHIPS計劃提供其專有接口及其相關IP,以用作該計劃的標準接口。英特爾的直接參與將有助于確保該計劃中的所有不同的IP塊能夠無縫連接在一起。這是朝著建立國家互聯(lián)標準邁出的一大步,該標準將實現(xiàn)大型模塊化系統(tǒng)的快速組裝。

在晶體管數(shù)量不斷增長的背后,常常被忽略的是在芯片之間來回傳輸數(shù)據(jù)所需的互連數(shù)量的平行增長。連線的激增不僅使設計過程變得復雜,還為數(shù)據(jù)傳輸創(chuàng)建了更長,更復雜的路徑。為了更直觀地體現(xiàn)這種規(guī)模,假想現(xiàn)代芯片中的所有連線首尾相連,它的長度將超過21英里。對于將中央處理單元(CPU)和存儲器分開的大多數(shù)計算體系結構而言,在日益復雜的線路之間移動數(shù)據(jù)嚴重限制了計算性能。這個難題甚至有自己的名字——“內存瓶頸”。例如,在前沿芯片上執(zhí)行機器學習算法,超過92%的執(zhí)行時間要花在等待訪問內存上。

由于新標準接口和當前互連的性能限制使得大量電路組合成為可能,我們必須提出一個問題:新材料和全新的體系結構在應對這些挑戰(zhàn)方面可以發(fā)揮什么作用?針對這個問題,ERI材料與集成計劃下的一個新項目計劃探索微系統(tǒng)組件的垂直而非平面集成的使用。通過利用第三維度,設計人員可以顯著減小基本組件(如CPU和內存)之間的連線長度。仿真結果表明,使用較舊的90nm節(jié)點制造的3D芯片比使用平面集成在7nm節(jié)點上制造的電路性能好50倍。此外,另一個項目將研究新材料和架構,重新考慮處理器和內存之間的數(shù)據(jù)流,為處理日益增加的科學、傳感器、社會、環(huán)境和許多其他類型的數(shù)據(jù)提供新的解決方案。

架構

“大型功能的可用性,結合功能設計和結構,應該可以使大型系統(tǒng)的制造商快速并經(jīng)濟地設計和構建各種各樣的器件?!?/p>

——戈登·摩爾,1965年

摩爾定律的不懈步伐確保了通用計算機成為過去50年的主導架構。與摩爾定律所取得的性能提升相比,探索新的計算機架構、投入多年和數(shù)億美元的開發(fā)成本毫無經(jīng)濟效益。然而,隨著摩爾定律的趨勢開始放緩,從通用硬件中擠出性能變得越來越困難,這為專業(yè)架構的復興奠定了基礎。

在設想未來會是什么樣子時,摩爾提出了一個框架,通過專注于“功能設計和構造”來提供專業(yè)架構,人們會得到具有經(jīng)濟意義的可制造系統(tǒng)。換言之,他在設想靈活的架構,可以利用專門的硬件更快速更高效地解決特定的計算問題。

去年,DARPA啟動了“分層識別驗證漏洞(HIVE)”計劃,目的是探索專用集成電路的優(yōu)化,優(yōu)化后的集成電路可以分析大型數(shù)據(jù)集中數(shù)據(jù)點之間的各種關系,例如社交媒體、傳感器饋送和科學研究。通過與高通、英特爾等行業(yè)合作伙伴合作,HIVE計劃旨在開發(fā)一種能夠處理大規(guī)模數(shù)據(jù)分析的專用集成電路,其速度比現(xiàn)有處理技術快1000倍。這種先進的硬件能夠分析由物聯(lián)網(wǎng)、不斷擴展的社交網(wǎng)絡和未來的傳感器系統(tǒng)產生的數(shù)以十億計和萬億計的邊緣數(shù)據(jù)集。

雖然HIVE是當前進步的一個例子,但需要更多的創(chuàng)新才能實現(xiàn)摩爾的專業(yè)硬件愿景。采用更專業(yè)化的關鍵挑戰(zhàn)之一是通用處理器的靈活性和專用處理器的效率之間的矛盾。如果設計人員發(fā)現(xiàn)專用硬件難以使用或難以編程,他們可能會放棄硬件能夠提供的效率。

這兩個新的ERI的架構計劃試圖證明靈活性和效率之間不一定是對立的。這些計劃旨在開發(fā)確定合適數(shù)量和專業(yè)類型的方法,同時使系統(tǒng)盡可能具有可編程性和靈活性。

其中一個計劃是研究可重新配置的計算架構和軟件環(huán)境,它們在不犧牲通用性或可編程性的前提下,使數(shù)據(jù)密集型應用的性能接近專用于處理的單一應用實現(xiàn)的性能。由此產生的功能將實現(xiàn)基于對輸入數(shù)據(jù)的實時處理的計算資源的實時優(yōu)化。該計劃將實現(xiàn)優(yōu)于最先進的通用處理500~1000倍的處理性能,并提供針對應用的專用處理性能,同時保持靈活性和可編程性。

ERI架構支柱下的第二個計劃將探索組合大量加速器核心的方法。盡管用加速器內核可以比在通用處理器上運行軟件更快、更高效地執(zhí)行特定功能,但是在許多異構內核上編程和協(xié)調應用程序一直是巨大的挑戰(zhàn)。一種解決方案是采用計算堆棧的垂直視圖,從應用軟件到操作系統(tǒng),一直到底層硬件。通過探索域驅動方法(domain-driven approach)的概念來確定適當?shù)募铀倨?;此外,致力于更好的語言和編譯器,以優(yōu)化這些加速器的代碼;為了在這樣一個復雜的處理器上運行的應用程序實現(xiàn)智能調度,該計劃正在研究定制芯片的新概念,它可以快速利用無數(shù)加速器來處理多個應用程序。

邁向更具創(chuàng)新性的未來

摩爾定律帶來的收益并沒有保證,而是通過商業(yè)界、學術界和政府之間的獨創(chuàng)性和密切合作實現(xiàn)的。如今,集成電路設計成本的不斷上升、外國投資的不斷增加,以及硬件的商品化威脅著一個富于創(chuàng)新且充滿活力的國內微電子產業(yè)的未來的健康發(fā)展。面對這些挑戰(zhàn),“電子復興計劃(ERI)”將建立在政府與行業(yè)成功合作的悠久傳統(tǒng)基礎上,營造下一波美國半導體創(chuàng)新所需的環(huán)境。

CHIPS計劃正在推動一種新的微系統(tǒng)架構,該架構基于將小型單功能的chiplet混合并匹配到芯片大小的系統(tǒng)中,其能力相當于整塊PCB上的芯片和元件。

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    發(fā)表于 02-26 11:28 ?1621次閱讀

    摩爾定律_摩爾定律是什么

    電子發(fā)燒友網(wǎng)為大家整理了摩爾定律專題,講述了摩爾定律的定義,摩爾定律的由來與發(fā)展,深入全面的講解了摩爾定律是什么。供大家認識學習
    發(fā)表于 05-21 16:19
    <b class='flag-5'>摩爾定律</b>_<b class='flag-5'>摩爾定律</b>是什么

    摩爾定律的歷程

    摩爾定律是指IC上可容納的晶體管數(shù)目,約每隔18個月便會增加一倍,性能也將提升一倍。摩爾定律是由英特爾(Intel)名譽董事長戈登·摩爾(Gordon Moore)經(jīng)過長期觀察發(fā)現(xiàn)得之。
    發(fā)表于 10-24 16:59 ?2455次閱讀
    <b class='flag-5'>摩爾定律</b>的歷程

    摩爾定律是什么_摩爾定律提出者及含義

     摩爾定律是由英特爾(Intel)創(chuàng)始人之一戈登·摩爾(GordonMoore)提出來的。
    的頭像 發(fā)表于 03-09 09:18 ?3.1w次閱讀

    盤點DARPA摩爾定律長日將盡時分的未雨綢繆

    DARPA今年會議聚焦于集成線路設計,為美國半導體產業(yè)在摩爾定律走向極限后做未雨綢繆。
    的頭像 發(fā)表于 07-30 09:37 ?3685次閱讀

    摩爾定律為什么會消亡?摩爾定律是如何消亡的?

    雖然摩爾定律的消亡是一個日益嚴重的問題,但每年都會有關鍵參與者的創(chuàng)新。
    的頭像 發(fā)表于 08-14 11:03 ?2787次閱讀
    <b class='flag-5'>摩爾定律</b>為什么會消亡?<b class='flag-5'>摩爾定律</b>是如何消亡的?

    功能密度定律是否能替代摩爾定律?摩爾定律和功能密度定律比較

    眾所周知,隨著IC工藝的特征尺寸向5nm、3nm邁進,摩爾定律已經(jīng)要走到盡頭了,那么,有什么定律能接替摩爾定律呢?
    的頭像 發(fā)表于 02-21 09:46 ?848次閱讀
    功能密度<b class='flag-5'>定律</b>是否能替代<b class='flag-5'>摩爾定律</b>?<b class='flag-5'>摩爾定律</b>和功能密度<b class='flag-5'>定律</b>比較