光刻膠概念股南大光電10月23日公告，擬投資新建光刻膠材料以及配套原材料項目。

光刻膠項目是南大光電最大的看點。在此前A股光刻膠概念炒作中，公司股票也受到了資金追捧。此番，南大光電宣布加碼光刻膠產(chǎn)業(yè)值得關(guān)注。

擬投建光刻膠材料配套項目

南大光電公告稱，公司與寧波經(jīng)濟技術(shù)開發(fā)區(qū)管理委員會簽署了《投資協(xié)議書》。按照協(xié)議，上市公司擬在寧波經(jīng)濟技術(shù)開發(fā)區(qū)投資開發(fā)高端集成電路制造用各種先進光刻膠材料以及配套原材料和底部抗反射層等高純配套材料，形成規(guī)模化生產(chǎn)能力，建立配套完整的國產(chǎn)光刻膠產(chǎn)業(yè)鏈。

項目計劃總投資6億元，預(yù)計總用地50畝。項目完全達產(chǎn)后，預(yù)計實現(xiàn)約10億元的年銷售額，年利稅預(yù)計約2億元。

資料顯示，南大光電主要從事高純電子材料研發(fā)、生產(chǎn)和銷售，通過承擔(dān)國家重大技術(shù)攻關(guān)項目并實現(xiàn)產(chǎn)業(yè)化。目前，公司形成MO源、電子特氣、ALD/CVD前驅(qū)體材料等業(yè)務(wù)板塊。

《每日經(jīng)濟新聞》記者注意到，2017年，南大光電承擔(dān)了集成電路芯片制造用關(guān)鍵核心材料之一的“193nm光刻膠材料的研發(fā)與產(chǎn)業(yè)化項目”（以下簡稱193nm光刻膠項目）。

南大光電2019年半年報表示，公司組建了包括高級光刻膠專業(yè)人才的獨立研發(fā)團隊，建成1500平方米的研發(fā)中心和百升級光刻膠中試生產(chǎn)線。目前，南大光電“193nm光刻膠及配套材料關(guān)鍵技術(shù)研究項目”的研發(fā)工作已經(jīng)完成，正在等待驗收。同時，公司設(shè)立了光刻膠事業(yè)部，并成立了全資子公司寧波南大光電材料，推進“193nm光刻膠項目”的落地實施。在2019年半年報中，南大光電預(yù)計其將在2019年底在寧波建成一條光刻膠生產(chǎn)線。

對于此番投建的項目，南大光電特別在公告中強調(diào)，項目與公司正在推進的“193nm光刻膠項目”系兩個獨立的項目。公司稱，投建新項目是為加大對先進光刻膠材料以及配套原材料的建設(shè)。

曾因光刻膠概念股身份受捧

光刻膠被認為是半導(dǎo)體光刻領(lǐng)域必不可少的關(guān)鍵材料。光刻膠的質(zhì)量和性能直接決定集成電路的性能、良率。廣發(fā)證券曾表示，伴隨著先進節(jié)點所需光刻膠分辨率的提升以及多次圖形化技術(shù)的應(yīng)用，光刻膠的成本占比以及市場規(guī)模呈現(xiàn)不斷提升趨勢，根據(jù)國際半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)協(xié)會的數(shù)據(jù)，2018年光刻膠占晶圓制造材料比例約為5.4%，對應(yīng)全球半導(dǎo)體光刻膠市場總規(guī)模為17.3億美元，預(yù)計2019年市場規(guī)模可達17.7億美元。

由于半導(dǎo)體光刻膠技術(shù)壁壘很高，供應(yīng)廠商目前主要集中在美國和日本。目前來看，國內(nèi)僅有晶瑞股份、科華微電子、南大光電、容大感光、上海新陽等企業(yè)在進行半導(dǎo)體光刻膠生產(chǎn)與研發(fā)。

《每日經(jīng)濟新聞》記者注意到，今年下半年，日本與韓國發(fā)生貿(mào)易摩擦，日本對韓國進行出口限制，其中便包含光刻膠材料。在此情況下，A股相關(guān)光刻膠概念股也一度受到資金追捧，這便包括了南大光電。7月中旬，公司股價曾連續(xù)漲停，8月15日~9月5日，公司股價在16個交易日里累計上漲64.70%。

國海證券曾指出，“193nm光刻膠項目”是南大光電未來最值得期待的看點。在國海證券看來，南大光電研發(fā)的ArF光刻膠是目前僅次于EUV光刻膠以外難度最高，制程最先進的光刻膠，也是集成電路22nm、14nm乃至10nm制程的關(guān)鍵。國海證券認為，掌握這項核心技術(shù)，不僅具有經(jīng)濟價值，更具有重大戰(zhàn)略意義。