EUV光刻機的價值 芯片廠商造不出7nm以下工藝芯片
作為半導體芯片生產(chǎn)過程中最重要的裝備，光刻機一直牽動人心。事實上，制程工藝越先進就要離不開先進光刻機。
光刻是半導體芯片制造中最費時間也是最費成本的環(huán)節(jié)之一，而且它決定了芯片的工藝水平，常說的XXnm工藝主要是看光刻機水平，10nm工藝之后難度越來越大，光刻機也需要升級到EUV級別。
ASML副總裁Anthony Yen日前表態(tài)，如果沒有EUV光刻機，那么芯片廠商是造不出7nm以下工藝芯片的。
目前ASML公司是唯一一個能生產(chǎn)EUV光刻機的公司，他們做出這樣的表態(tài)其實也不讓人意外，畢竟這是一臺售價高達1.2億歐元、約合10億一臺的高端設(shè)備，全球半導體制造廠商都要看ASML的臉色。
臺積電在第一代7nm工藝上沒有使用EUV光刻機，但是7nm之后的工藝就很難避開EUV光刻機了，理論上可以用多重曝光的方式制造5nm級別的芯片，但是成本、良率都是個問題，無法拒絕EUV光刻機。
聲明：本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人，不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用，如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題，請聯(lián)系本站處理。
舉報投訴
-
ASML
+關(guān)注
關(guān)注
7文章
722瀏覽量
41373 -
EUV光刻機
+關(guān)注
關(guān)注
2文章
128瀏覽量
15191
發(fā)布評論請先 登錄
相關(guān)推薦
光刻機巨頭ASML業(yè)績暴雷，芯片迎來新一輪“寒流”？
電子發(fā)燒友網(wǎng)報道（文/黃山明）作為芯片制造過程中的核心設(shè)備，光刻機決定著芯片工藝的制程。尤其是EUV光刻
芯片制造:光刻工藝原理與流程
光刻是芯片制造過程中至關(guān)重要的一步，它定義了芯片上的各種微細圖案，并且要求極高的精度。以下是光刻過程的詳細介紹，包括原理和具體步驟。??
組成光刻機的各個分系統(tǒng)介紹
? 本文介紹了組成光刻機的各個分系統(tǒng)。 光刻技術(shù)作為制造集成電路芯片的重要步驟，其重要性不言而喻。光刻機是實現(xiàn)這一工藝的核心設(shè)備，它的工作原
日本首臺EUV光刻機就位
據(jù)日經(jīng)亞洲 12 月 19 日報道，Rapidus 成為日本首家獲得極紫外 (EUV) 光刻設(shè)備的半導體公司，已經(jīng)開始在北海道芯片制造廠內(nèi)安裝極紫外光刻系統(tǒng)。 它將分四個階段進行安裝，
用來提高光刻機分辨率的浸潤式光刻技術(shù)介紹
? 本文介紹了用來提高光刻機分辨率的浸潤式光刻技術(shù)。 芯片制造：光刻技術(shù)的演進 過去半個多世紀，摩爾定律一直推動著半導體技術(shù)的發(fā)展，但當光刻機
光刻機的工作原理和分類
? 本文介紹了光刻機在芯片制造中的角色和地位，并介紹了光刻機的工作原理和分類。? ? ? ?? 光刻機：芯片制造的關(guān)鍵角色 ? ?
今日看點丨 2011億元!比亞迪單季營收首次超過特斯拉；三星將于2025年初引進High NA EUV光刻機
1. 三星將于2025 年初引進High NA EUV 光刻機，加快開發(fā)1nm 芯片 ? 據(jù)報道，三星電子正準備在2025年初引入其首款High NA
發(fā)表于 10-31 10:56
?871次閱讀
所謂的7nm芯片上沒有一個圖形是7nm的
最近網(wǎng)上因為光刻機的事情，網(wǎng)上又是一陣熱鬧。好多人又開始討論起28nm/7nm的事情了有意無意之間，我也看了不少網(wǎng)上關(guān)于國產(chǎn)自主7nm工藝的
俄羅斯首臺光刻機問世
的一部分，目前正在對其進行測試，該設(shè)備可確保生產(chǎn)350nm的芯片。什帕克還指出，到2026年將獲得130nm的國產(chǎn)光刻機，下一步將是開發(fā)90nm
俄羅斯推出首臺光刻機：350nm
的芯片。Shpak表示，“我們組裝并制造了第一臺國產(chǎn)光刻機。作為澤廖諾格勒技術(shù)生產(chǎn)線的一部分，目前正在對其進行測試?！倍砹_斯接下來的目標是在2026年制造可以支持130nm工藝的
臺積電A16制程采用EUV光刻機，2026年下半年量產(chǎn)
據(jù)臺灣業(yè)內(nèi)人士透露，臺積電并未為A16制程配備高數(shù)值孔徑（High-NA）EUV光刻機，而選擇利用現(xiàn)有的EUV光刻機進行生產(chǎn)。相較之下，英特爾和三星則計劃在此階段使用最新的High-N
光刻機的發(fā)展歷程及工藝流程
光刻機經(jīng)歷了5代產(chǎn)品發(fā)展，每次改進和創(chuàng)新都顯著提升了光刻機所能實現(xiàn)的最小工藝節(jié)點。按照使用光源依次從g-line、i-line發(fā)展到KrF、ArF和EUV；按照工作原理依次從接觸接近式
發(fā)表于 03-21 11:31
?6879次閱讀
2024年全球與中國7nm智能座艙芯片行業(yè)總體規(guī)模、主要企業(yè)國內(nèi)外市場占有率及排名
市場分析、供應(yīng)鏈分析、主要企業(yè)情況、市場份額、并購、擴張等
如果您有興趣查閱詳情和報價，請薇?: chenyu-youly確認。
報告摘要
本文側(cè)重研究全球7nm智能座艙芯片總體規(guī)模及主要廠商占有率
發(fā)表于 03-16 14:52
ASML 首臺新款 EUV 光刻機 Twinscan NXE:3800E 完成安裝
EUV 光刻機持續(xù)更新升級，未來目標在 2025 年推出 NXE:4000F 機型。 上兩代 NXE 系列機型 3400C 和 3600D 分別適合 7~5、5~3 納米節(jié)點生產(chǎn)，德媒 ComputerBase 因此預測 38
工商網(wǎng)監(jiān)
評論