集成電路是信息社會的根基，其制造技術(shù)代表著當今世界微細制造的最高水平。對極大規(guī)模集成電路行業(yè)而言，高純度含氟電子氣體是必需的清洗和蝕刻氣體，在芯片制作過程中能夠保障極大規(guī)模集成電路的生成，確保電路有效發(fā)揮作用。

隨著極大規(guī)模集成電路技術(shù)的提升，芯片制程向14納米甚至7納米邁進，對電子氣體的純度要求越來越高。

國務院國資委網(wǎng)站8月14日消息，由中國化工黎明化工研究設(shè)計院（下稱：黎明院）承擔的國家科技重大專項“極大規(guī)模集成電路制造裝備與成套工藝”子項目“高純四氟化碳和六氟化硫研發(fā)與中試”日前通過國家重大專項項目組的測試與評審，標志著我國極大規(guī)模集成電路行業(yè)所需高純度含氟電子氣體實現(xiàn)國產(chǎn)化。

據(jù)介紹，黎明院于2013年開始“高純四氟化碳和六氟化硫研發(fā)與中試”的課題研究，借助國家科技重大專項平臺，潛心攻關(guān)，在多項關(guān)鍵技術(shù)上取得突破

。其中高純度四氟化碳和六氟化硫制備過程中微量雜質(zhì)的純化、分析等技術(shù)難題得以攻克，制備出的產(chǎn)品純度達99.999％，推廣使用后取得了良好的市場效果。

此外，該項目在知識產(chǎn)權(quán)指標、人才建設(shè)、產(chǎn)業(yè)化指標和經(jīng)費使用等多個維度也達到立項要求。黎明院也由此進一步加快了科技創(chuàng)新和產(chǎn)業(yè)化發(fā)展步伐，成功實現(xiàn)由工業(yè)級向高純級、多品種等高性能、高附加值產(chǎn)品的轉(zhuǎn)型升級和結(jié)構(gòu)調(diào)整。

目前，黎明院高純四氟化碳和六氟化硫的年產(chǎn)能可達2000噸，價格與進口同類產(chǎn)品相當，但性價比高，可完全實現(xiàn)對進口產(chǎn)品的替代。