模擬IC設(shè)計與數(shù)字IC設(shè)計有很大不同。在數(shù)字IC設(shè)計大多是在抽象的層次上完成的系統(tǒng)和過程中,確定柵極/晶體管級布局和布線的細(xì)節(jié)的地方,模擬IC設(shè)計通常將更多的個性化焦點集中在每個電路上,甚至包括每個電路的尺寸和細(xì)節(jié)。
晶體管。
同樣,許多鑄造工藝主要是為具有模擬功能的數(shù)字IC開發(fā)的,這就要求模擬IC設(shè)計人員應(yīng)對工藝限制和更適合數(shù)字IC的功能進行工作。
模擬設(shè)計團隊通常從一組規(guī)范和功能入手,就像數(shù)字IC設(shè)計一樣。從那里開始,可以使用各種功能的功能模型進一步縮小約束條件,并做出有關(guān)設(shè)備尺寸,類型和其他過程功能的決策。這可能包括晶體管的選擇,高層布局,電感器和電容器技術(shù)的加入以及IC和子電路的理想品質(zhì)因數(shù)。
諸如VHDL-AMS之類的體系結(jié)構(gòu)硬件描述語言(AHDL)用于執(zhí)行高層仿真并確定子塊的約束。雖然模擬設(shè)計人員也經(jīng)常為其子電路設(shè)計開發(fā)測試臺,但也可以在此階段開發(fā)一個測試臺,隨后將其用于仿真。
電路設(shè)計,物理布局和仿真
有了這些詳細(xì)信息并根據(jù)模擬電路的復(fù)雜性,模擬設(shè)計團隊通常會將子電路設(shè)計分配給個人。進行了理想的宏級測量,可以進一步確定子電路的約束和性能期望。
然后,將這些宏示意圖分解為示意圖,并使用從鑄造過程中建模的電路元件。對這些電路進行仿真和優(yōu)化,然后開始物理布局過程。在進行寄生提取和布局后仿真之前,先進行布局和布線,然后進行設(shè)計規(guī)則檢查(DRC)和布局與原理圖。
布局后的仿真可能會揭示設(shè)計中的缺陷,并且可能需要重新設(shè)計,布局和仿真的迭代過程才能達到最終的設(shè)計目標(biāo),并將IC提交流片。子電路也可能在整個芯片布局和仿真之前經(jīng)歷其自己的設(shè)計,布局和仿真過程,盡管這兩種方法都可能導(dǎo)致需要在流片之前重新設(shè)計電路。
模擬抽象水平
以下是模擬IC設(shè)計過程的抽象級別:
- 功能性
- 行為的
- 巨集
- 電路圖
- 晶體管
- 物理布局
- 模擬IC設(shè)計流程
與模擬IC設(shè)計相關(guān)的具體步驟可以分為以下幾類:
- 設(shè)計規(guī)范
- 技術(shù)指標(biāo)
- 約束條件
- 拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)
- 測試臺開發(fā)
- 原理圖流程
- 系統(tǒng)級原理圖輸入
- 架構(gòu)HDL仿真
- 塊HDL規(guī)范
- 電路級原理圖輸入
- 電路仿真與優(yōu)化
- 物理流量
- 基于PCell的布局條目
- 設(shè)計規(guī)則檢查(DRC)
- 布局與原理圖(LVS)
- 寄生提取
- 布局后模擬
- 出帶
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