據(jù)說1nm光刻機(jī)已經(jīng)被設(shè)計出來了，預(yù)計2022年即可商用
據(jù)日媒近日消息，IMEC公司（比利時的一家微電子研究機(jī)構(gòu)，總部在比利時魯汶，是一個專注于納米科技的世界級研究中心）在ITF Japan 2020大會上公布了3nm、2nm、1．5nm以及1nm以下的邏輯器件小型化路線圖。
根據(jù)IMEC首席執(zhí)行官兼總裁Luc Van den hove透露，IMEC公司與ASML緊密合作，將推進(jìn)下一代高分辨率EUV光刻技術(shù)商用。目前，ASML已完成作為NXE：5000系列的高NA EUV曝光系統(tǒng)的基本設(shè)計，將應(yīng)用于1nm光刻機(jī)，預(yù)計2022年即可商用。
責(zé)任編輯：xj
聲明：本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人，不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用，如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題，請聯(lián)系本站處理。
舉報投訴
-
邏輯器件
+關(guān)注
關(guān)注
0文章
88瀏覽量
20160 -
ASML
+關(guān)注
關(guān)注
7文章
722瀏覽量
41370 -
1nm
+關(guān)注
關(guān)注
0文章
16瀏覽量
3930
發(fā)布評論請先 登錄
相關(guān)推薦
光刻機(jī)巨頭ASML業(yè)績暴雷，芯片迎來新一輪“寒流”？
電子發(fā)燒友網(wǎng)報道（文/黃山明）作為芯片制造過程中的核心設(shè)備，光刻機(jī)決定著芯片工藝的制程。尤其是EUV光刻機(jī)已經(jīng)成為高端芯片（7nm及以下）芯片量產(chǎn)的關(guān)鍵，但目前EUV
如何提高光刻機(jī)的NA值
本文介紹了如何提高光刻機(jī)的NA值。 為什么光刻機(jī)希望有更好的NA值？怎樣提高？ ? 什么是NA值？ ? 如上圖是某型號的光刻機(jī)配置，每代光刻機(jī)的NA值會比上一代更大一些。NA，又名
光刻機(jī)的分類與原理
，但是由于面板光刻機(jī)針對的是薄膜晶體管，芯片光刻機(jī)針對的是晶圓，面板光刻機(jī)精度要求遠(yuǎn)低于芯片光刻機(jī)，只要達(dá)到pm級別即可。后道
組成光刻機(jī)的各個分系統(tǒng)介紹
? 本文介紹了組成光刻機(jī)的各個分系統(tǒng)。 光刻技術(shù)作為制造集成電路芯片的重要步驟，其重要性不言而喻。光刻機(jī)是實(shí)現(xiàn)這一工藝的核心設(shè)備，它的工作原理類似于傳統(tǒng)攝影中的曝光過程，但精度要求極高，能夠達(dá)到
用來提高光刻機(jī)分辨率的浸潤式光刻技術(shù)介紹
時，摩爾定律開始面臨挑戰(zhàn)。一些光刻機(jī)巨頭選擇了保守策略，寄希望于F2準(zhǔn)分子光源157nm波長的干式光刻技術(shù)。2002年，浸潤式光刻的構(gòu)想
光刻機(jī)的工作原理和分類
? 本文介紹了光刻機(jī)在芯片制造中的角色和地位，并介紹了光刻機(jī)的工作原理和分類。? ? ? ?? 光刻機(jī)：芯片制造的關(guān)鍵角色 ? ? 光刻機(jī)在芯片制造中占據(jù)著至關(guān)重要的地位，被譽(yù)為芯片制
今日看點(diǎn)丨 2011億元!比亞迪單季營收首次超過特斯拉；三星將于2025年初引進(jìn)High NA EUV光刻機(jī)
1. 三星將于2025 年初引進(jìn)High NA EUV 光刻機(jī)，加快開發(fā)1nm 芯片 ? 據(jù)報道，三星電子正準(zhǔn)備在2025年初引入其首款High NA EUV（極紫外）
發(fā)表于 10-31 10:56
?868次閱讀
俄羅斯首臺光刻機(jī)問世
的一部分，目前正在對其進(jìn)行測試，該設(shè)備可確保生產(chǎn)350nm的芯片。什帕克還指出，到2026年將獲得130nm的國產(chǎn)光刻機(jī)，下一步將是開發(fā)90nm
俄羅斯推出首臺光刻機(jī)：350nm
的芯片。Shpak表示，“我們組裝并制造了第一臺國產(chǎn)光刻機(jī)。作為澤廖諾格勒技術(shù)生產(chǎn)線的一部分，目前正在對其進(jìn)行測試?！倍砹_斯接下來的目標(biāo)是在2026年制造可以支持130nm工藝的光刻機(jī)
荷蘭阿斯麥稱可遠(yuǎn)程癱瘓臺積電光刻機(jī)
disable）臺積電相應(yīng)機(jī)器，而且還可以包括最先進(jìn)的極紫外光刻機(jī)（EUV）。 這就意味著阿斯麥（ASML）留了后門，隨時有能力去遠(yuǎn)程癱瘓制造芯片的光刻機(jī)。 要知道我國大陸市場已經(jīng)連續(xù)三個季度成為阿斯麥（ASML）最大市場，而
臺積電A16制程采用EUV光刻機(jī)，2026年下半年量產(chǎn)
據(jù)臺灣業(yè)內(nèi)人士透露，臺積電并未為A16制程配備高數(shù)值孔徑（High-NA）EUV光刻機(jī)，而選擇利用現(xiàn)有的EUV光刻機(jī)進(jìn)行生產(chǎn)。相較之下，英特爾和三星則計劃在此階段使用最新的High-NA EUV光刻機(jī)。
光刻機(jī)的常見類型解析
光刻機(jī)有很多種類型，但有時也很難用類型進(jìn)行分類來區(qū)別設(shè)備，因為有些分類僅是在某一分類下的分類。
發(fā)表于 04-10 15:02
?2132次閱讀
光刻機(jī)的發(fā)展歷程及工藝流程
光刻機(jī)經(jīng)歷了5代產(chǎn)品發(fā)展，每次改進(jìn)和創(chuàng)新都顯著提升了光刻機(jī)所能實(shí)現(xiàn)的最小工藝節(jié)點(diǎn)。按照使用光源依次從g-line、i-line發(fā)展到KrF、ArF和EUV；按照工作原理依次從接觸接近式光刻機(jī)發(fā)展到浸沒步進(jìn)式投影
發(fā)表于 03-21 11:31
?6858次閱讀
光刻膠和光刻機(jī)的區(qū)別
光刻膠是一種涂覆在半導(dǎo)體器件表面的特殊液體材料，可以通過光刻機(jī)上的模板或掩模來進(jìn)行曝光。
工商網(wǎng)監(jiān)
評論