ASML已完成先進極紫外光刻機的設計
對于阿斯麥（ASML）來說，他們正在研發(fā)更先進的***，這也是推動芯片工藝繼續(xù)前行的重要動力。
ASML是全球目前唯一能制造極紫外***的廠商，其在推出TWINSCAN NXE:3400B和NXE:3400C這兩款極紫外***之后，還在研發(fā)更先進、效率更高的極紫外***。
從外媒的報道來看，除了NXE:3600D，阿斯麥還在研發(fā)高數(shù)值孔徑的極紫外***NXE:5000系列，設計已經(jīng)基本完成。
外媒在報道中也表示，雖然阿斯麥NXE:5000高數(shù)值孔徑極紫外***的設計已基本完成，但商用還需時日，預計在2022年開始商用。
作為一款高數(shù)值孔徑的極紫外***，NXE:5000系列的數(shù)值孔徑，將提高到0.55，阿斯麥目前已推出的TWINSCAN NXE:3400B和NXE:3400C這兩款極紫外***，數(shù)值孔徑為0.33。
在不久前舉辦的線上活動中，歐洲微電子研究中心IMEC首席執(zhí)行官兼總裁Luc Van den hove在線上演講中表示，在與ASML公司的合作下，更加先進的***已經(jīng)取得了進展。
Luc Van den hove表示，IMEC的目標是將下一代高分辨率EUV光刻技術高NA EUV光刻技術商業(yè)化。由于此前得***競爭對手早已經(jīng)陸續(xù)退出市場，目前ASML把握著全球主要的先進***產(chǎn)能，近年來，IMEC一直在與ASML研究新的EUV***，目前目標是將工藝規(guī)?？s小到1nm及以下。
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發(fā)表于 03-05 11:26
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