5nm光刻機搶破頭：臺積電下達18臺光刻機需求
如今全球芯片短缺，不僅僅已經(jīng)嚴重營銷到了科技數(shù)碼產(chǎn)業(yè)，就連汽車產(chǎn)業(yè)也深受其害。
為了滿足2021年的需求激增，目前有國外媒體稱臺積電一口氣向荷蘭ASML下達了18臺最先進的極紫外光刻機需求，如此之大的需求令可以說是史上的天量，三星英特爾急了。
因為目前全球能夠提供最先進極紫外光刻機的只有荷蘭ASML一家，在剛剛過去的2020年當中，ASML面向全球客戶一共才交付了31臺極紫外光刻機，也就是說臺積電如果一口氣吞掉了18臺的話，就占盡了全球半導體新工藝產(chǎn)能的半數(shù)以上還要多。
而對于正在步入主流的全新5nm工藝而言，需求巨大的不僅僅是臺積電一家，三星最近基于5nm工藝也可以說是風生水起。
另外今年英特爾也有提升工藝水平的計劃，用一句通俗的話來講，5nm的EUV光刻機真的是“狼多肉少”的局面。
不得不說，盡管最近出現(xiàn)一些5nm芯片“翻車”事件，但是當歷史的洪流沖破5nm這道堤壩的時刻，絕對是一發(fā)不可收拾的迅猛發(fā)展。
新一輪的芯片工藝競爭已經(jīng)展開，多家芯片巨頭紛紛參戰(zhàn)目前仍難言輸贏。但光刻機仍就是重中之重，得光刻機者得天下！
責任編輯：PSY
聲明：本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人，不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用，如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題，請聯(lián)系本站處理。
舉報投訴
-
臺積電
+關(guān)注
關(guān)注
44文章
5693瀏覽量
167028 -
光刻機
+關(guān)注
關(guān)注
31文章
1159瀏覽量
47606 -
5nm
+關(guān)注
關(guān)注
1文章
342瀏覽量
26147
發(fā)布評論請先 登錄
相關(guān)推薦
如何提高光刻機的NA值
本文介紹了如何提高光刻機的NA值。 為什么光刻機希望有更好的NA值？怎樣提高？ ? 什么是NA值？ ? 如上圖是某型號的光刻機配置，每代光刻機的NA值會比上一代更大一些。NA，又名
光刻機的分類與原理
本文主要介紹光刻機的分類與原理。 ? 光刻機分類 光刻機的分類方式很多。按半導體制造工序分類，光刻設(shè)備有前道和后道之分。前道光刻機包括芯片
組成光刻機的各個分系統(tǒng)介紹
? 本文介紹了組成光刻機的各個分系統(tǒng)。 光刻技術(shù)作為制造集成電路芯片的重要步驟，其重要性不言而喻。光刻機是實現(xiàn)這一工藝的核心設(shè)備，它的工作原理類似于傳統(tǒng)攝影中的曝光過程，但精度要求極高，能夠達到
用來提高光刻機分辨率的浸潤式光刻技術(shù)介紹
? 本文介紹了用來提高光刻機分辨率的浸潤式光刻技術(shù)。 芯片制造：光刻技術(shù)的演進 過去半個多世紀，摩爾定律一直推動著半導體技術(shù)的發(fā)展，但當光刻機的光源波長卡在193
光刻機的工作原理和分類
? 本文介紹了光刻機在芯片制造中的角色和地位，并介紹了光刻機的工作原理和分類。? ? ? ?? 光刻機：芯片制造的關(guān)鍵角色 ? ? 光刻機在芯片制造中占據(jù)著至關(guān)重要的地位，被譽為芯片制
一文看懂光刻機的結(jié)構(gòu)及雙工件臺技術(shù)
，光刻機作為IC制造裝備中最核心、技術(shù)難度最大的設(shè)備，其重要性日益凸顯。本文將從光刻機的發(fā)展歷程、結(jié)構(gòu)組成、關(guān)鍵性能參數(shù)以及雙工件臺技術(shù)展開介紹。 一、光刻機發(fā)展歷程
俄羅斯首臺光刻機問世
據(jù)外媒報道，目前，俄羅斯首臺光刻機已經(jīng)制造完成并正在進行測試。 俄羅斯聯(lián)邦工業(yè)和貿(mào)易部副部長瓦西里-什帕克（Vasily Shpak）表示，已組裝并制造了第一臺國產(chǎn)光刻機，作為澤廖諾格勒技術(shù)生產(chǎn)線
俄羅斯推出首臺光刻機：350nm
的芯片。Shpak表示，“我們組裝并制造了第一臺國產(chǎn)光刻機。作為澤廖諾格勒技術(shù)生產(chǎn)線的一部分，目前正在對其進行測試?！倍砹_斯接下來的目標是在2026年制造可以支持130nm工藝的光刻機
買臺積電都嫌貴的光刻機，大力推玻璃基板，英特爾代工的野心和危機
電子發(fā)燒友網(wǎng)報道（文/吳子鵬）此前，臺積電高級副總裁張曉強在技術(shù)研討會上表示，“ASML最新的高數(shù)值孔徑極紫外光刻機（high-NA EUV）價格實在太高了，
后門！ASML可遠程鎖光刻機！
來源：國芯網(wǎng)，謝謝 編輯：感知芯視界 Link 5月22日消息，據(jù)外媒報道，臺積電從ASML購買的EUV極紫外光刻機，暗藏后門，可以在必要的
荷蘭阿斯麥稱可遠程癱瘓臺積電光刻機
disable）臺積電相應(yīng)機器，而且還可以包括最先進的極紫外光刻機（EUV）。 這就意味著阿斯麥（ASML）留了后門，隨時有能力去遠程癱瘓制造芯片的
臺積電A16制程采用EUV光刻機，2026年下半年量產(chǎn)
據(jù)臺灣業(yè)內(nèi)人士透露，臺積電并未為A16制程配備高數(shù)值孔徑（High-NA）EUV光刻機，而選擇利用現(xiàn)有的EUV光刻機進行生產(chǎn)。相較之下，英特
光刻機的發(fā)展歷程及工藝流程
光刻機經(jīng)歷了5代產(chǎn)品發(fā)展，每次改進和創(chuàng)新都顯著提升了光刻機所能實現(xiàn)的最小工藝節(jié)點。按照使用光源依次從g-line、i-line發(fā)展到KrF、ArF和EUV；按照工作原理依次從接觸接近式光刻機
發(fā)表于 03-21 11:31
?6844次閱讀
工商網(wǎng)監(jiān)
評論