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臺積電或?qū)⑻崆巴懂a(chǎn)3nm工藝 Intel、三星望塵莫及

lhl545545 ? 來源:快科技 ? 作者:上方文Q ? 2021-03-03 10:25 ? 次閱讀

在新制程工藝推進速度上,臺積電已經(jīng)徹底無敵,Intel、三星都已經(jīng)望塵莫及。

據(jù)最新消息,臺積電將在今年下半年提前投產(chǎn)3nm工藝,雖然只是風險性試產(chǎn)和小規(guī)模量產(chǎn),但也具有里程碑式的意義。

很自然的,臺積電會在明年大規(guī)模量產(chǎn)3nm,初期產(chǎn)能每月大約3萬塊晶圓,到了2023年可達每月10.5萬塊晶圓,趕上目前5nm的產(chǎn)能,而后者在去年第四季度的產(chǎn)能為每月9萬塊晶圓。

根據(jù)臺積電數(shù)據(jù),3nm雖然繼續(xù)使用FinFET晶體管,但是相比于5nm晶體管密度增加70%,性能可提升11%,或者功耗可降低27%。

據(jù)悉,蘋果將是臺積電3nm的核心客戶之一,預計會用于A17系列芯片,而有趣的是,Intel也會將部分處理器外包給臺積電3nm。

AMD、聯(lián)發(fā)科、賽靈思(已被AMD收購)、Marvell、博通、高通等,自然也都會跟上臺積電3nm。

相比之下,三星3nm激進地采用了GAA環(huán)繞柵極晶體管,如能順利實現(xiàn)提升更大,但是難度也大得多,預計要明年才能投產(chǎn)。
責任編輯:pj

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