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DLP無掩膜數(shù)字曝光是如何降低成本并增加PCB可靠性的

電子設計 ? 來源:電子設計 ? 作者:電子設計 ? 2021-11-10 09:39 ? 次閱讀
Other Parts Discussed in Post: DLP9000X

作者: Carey Ritchey,德州儀器TI

自18世紀在德國被發(fā)明以來,被稱為“數(shù)字曝光”的打印方法經歷了一段很長的發(fā)展歷程。今天,數(shù)字曝光可以在多種表面上打印文字和圖片,包括書本和T恤。

這項打印技術的變化也不斷地激發(fā)出新的創(chuàng)新。被稱為“直接成像數(shù)字曝光”的技術被設計人員用來快速、輕松地“打印”多種電子產品,所使用的方法是將感光材料暴露在紫外光(UV)之下。

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現(xiàn)在,直接成像數(shù)字曝光可被用于制作印刷電路板(PCB)、球柵陣列(BGA)、芯片尺寸封裝(CSP)、平板顯示、實時條形碼標刻,以及計算機直接制版印刷——這項打印工藝可直接將一副數(shù)字圖像從計算機發(fā)送至一塊印板上。

與傳統(tǒng)數(shù)字曝光技術相比,直接成像數(shù)字曝光的優(yōu)勢有很多,其中包括更高的材料靈活性、更低的成本和更快的打印速度。

TI實現(xiàn)的直接成像數(shù)字曝光

在TI,我們的DLP?高速數(shù)字微鏡器件(DMD)為那些對精度要求達到微米級的直接成像數(shù)字曝光開發(fā)人員提供了一個強大工具,從而能夠在批量生產情況下實現(xiàn)快速曝光,以及更低的運營成本。

通過使用可編程光控制的DLP技術,開發(fā)人員可以將圖形直接曝光在光阻膠片上,而無需接觸掩膜,這樣做降低了材料成本,提高了生產率,并且可實現(xiàn)圖形的快速變化,使得這項技術非常適用于最小外形尺寸需要兩次曝光的情況。

TI高度靈活的芯片組架構還提供多系統(tǒng)控制和連通性選項,諸如針對電機同步、傳感器和其它外設的觸發(fā)器。

DLP直接成像數(shù)字曝光的典型系統(tǒng)方框圖

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觀看視頻了解DLP無掩膜數(shù)字曝光是如何降低成本并增加PCB可靠性的

進一步了解數(shù)字曝光

我們有多款適用于數(shù)字曝光應用的DLP數(shù)字微鏡器件。DLP6500FLQDLP7000、DLP9000、和DLP9500芯片系列全都支持低至400納米的波長。最近,我們在ti.com上推出了DLP7000UVDLP9500UV,以支持低至363納米的波長。

TI提供針對所有這些DMD的評估模塊產品庫,以及針對數(shù)字曝光的輔助性TI Designs參考設計,其中包括電路原理圖、布局布線文件、物料清單和一份測試報告。

TI Design特有一塊系統(tǒng)級的DLP開發(fā)板,由于集成了DLP9000X——由超過4百萬個微鏡制成的、擁有最高分辨率的DLP數(shù)字微鏡器件,該開發(fā)板具有最大的數(shù)據(jù)吞吐量;這塊開發(fā)板還裝備有我們速度最快的數(shù)字控制器,即支持每秒高達60千兆像素數(shù)據(jù)速率的DLPC910。DLPC910數(shù)字控制器還為設計人員提供了高級像素控制,在全幀輸入功能的基礎上,支持隨機行尋址。

如需閱讀更多與DLP技術在數(shù)字曝光領域應用相關的內容,請訪問這個網頁。

審核編輯:符乾江

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