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芯片制造都需要什么過(guò)程?

倩倩 ? 來(lái)源:ASML,尋芯問(wèn)料,世聯(lián)芯科 ? 作者:ASML,尋芯問(wèn)料,世 ? 2021-12-08 13:45 ? 次閱讀

芯片種類很多,不單單指手機(jī)、電腦等常見(jiàn)集成芯片。按照功能可以分為:集成電路,光電子,分立器件和傳感器,而且集成電路占到83%,所以大部分人都把集成電路看成半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)。

在半導(dǎo)體的新聞中,總是會(huì)提到以尺寸標(biāo)示的晶圓廠,如 8 寸或是 12 寸晶圓廠,然而,所謂的晶圓到底是什么東西?

晶圓(wafer),是制造各式電腦芯片的基礎(chǔ)。我們可以將芯片制造比擬成用樂(lè)高積木蓋房子,藉由一層又一層的堆疊,完成自己期望的造型(也就是各式芯片)。然而,如果沒(méi)有良好的地基,蓋出來(lái)的房子就會(huì)歪來(lái)歪去,不合自己所意,為了做出完美的房子,便需要一個(gè)平穩(wěn)的基板。對(duì)芯片制造來(lái)說(shuō),這個(gè)基板就是晶圓。

芯片的制造,分為4個(gè)階段:原料制作、單晶生長(zhǎng)和晶圓的制造、集成電路晶圓的生產(chǎn)、集成電路的封裝。

芯片制造企業(yè)使用4種最基本的工藝方法,通過(guò)大量的工藝順序和工藝變化制造出特定的芯片。

這些基本的工藝方法是:增層、光刻、摻雜和熱處理。

芯片是如何制作出來(lái)的?

制造芯片的第一步,通常是將材料薄膜沉積到晶圓上。材料可以是導(dǎo)體、絕緣體或半導(dǎo)體。

進(jìn)行光刻前,首先要在晶圓上涂覆光敏材料“光刻膠”或“光阻”,然后將晶圓放入光刻機(jī)。

在掩模版上制作需要印刷的圖案藍(lán)圖。晶圓放入光刻機(jī)后,光束會(huì)通過(guò)掩模版投射到晶圓上。光刻機(jī)內(nèi)的光學(xué)元件將圖案縮小并聚焦到光刻膠涂層上。在光束的照射下,光刻膠發(fā)生化學(xué)反應(yīng),光罩上的圖案由此印刻到光刻膠涂層。

光刻期間產(chǎn)生的物理、化學(xué)效應(yīng)可能造成圖案形變,因此需要事先對(duì)掩模版上的圖案進(jìn)行調(diào)整,確保最終光刻圖案的準(zhǔn)確。ASML將現(xiàn)有光刻數(shù)據(jù)及圓晶測(cè)試數(shù)據(jù)整合,制作算法模型,精確調(diào)整圖案。

晶圓離開(kāi)光刻機(jī)后,要進(jìn)行烘烤及顯影,使光刻的圖案永久固定。洗去多余光刻膠,部分涂層留出空白部分。

顯影完成后,使用氣體等材料去除多余的空白部分,形成3D電路圖案。

芯片生產(chǎn)過(guò)程中,始終對(duì)晶圓進(jìn)行計(jì)量和檢驗(yàn),確保沒(méi)有誤差。檢測(cè)結(jié)果反饋至光刻系統(tǒng),進(jìn)一步優(yōu)化、調(diào)整設(shè)備。

在去除剩余的光刻膠之前,可以用正離子或負(fù)離子轟擊晶圓,對(duì)部分圖案的半導(dǎo)體特性進(jìn)行調(diào)整。

從薄膜沉積到去除光刻膠,整個(gè)流程為晶圓片覆蓋上一層圖案。而要在晶圓片上形成集成電路,完成芯片制作,這一流程需要不斷重復(fù),可多達(dá)100次。

最后一步,切割晶圓,獲得單個(gè)芯片,封裝在保護(hù)殼中。這樣,成品芯片就可以用來(lái)生產(chǎn)電視、平板電腦或者其他數(shù)字設(shè)備了!

ASML,尋芯問(wèn)料,世聯(lián)芯科技綜合整理

責(zé)任編輯:李倩

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