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RCA清洗中晶片表面的顆粒粘附和去除

華林科納半導(dǎo)體設(shè)備制造 ? 來源:華林科納半導(dǎo)體設(shè)備制造 ? 作者:華林科納半導(dǎo)體設(shè) ? 2022-07-13 17:18 ? 次閱讀

引言

溶液中顆粒和晶片表面之間發(fā)生的基本相互作用是范德華力(分子相互作用)和靜電力(雙電層的相互作用)。近年來,與符合上述兩種作用的溶液中的晶片表面上的顆粒粘附機(jī)制相關(guān)的研究蓬勃發(fā)展,并為闡明顆粒粘附機(jī)制做了大量工作。

大多數(shù)物質(zhì)在與溶液接觸時(shí),會(huì)獲得表面電荷,膠體化學(xué)中就是這么說的。據(jù)認(rèn)為,這種電荷是由固體表面電離、離子吸附到固體表面和離子溶解引起的。溶液中的帶電固體表面影響界面周圍區(qū)域的離子分布;與帶電固體表面符號(hào)相反的離子被拉向界面,而符號(hào)相同的離子被迫離開界面。這樣,在溶液中的帶

電界面形成雙電層,并隨后影響與晶片表面相關(guān)的顆粒吸附和去除。

接下來,將簡(jiǎn)要說明ζ電勢(shì)。如果一個(gè)固體浸入溶液中時(shí),在固-液界面上存在雙電層。圖10.1顯示了一個(gè)固體—液體界面的結(jié)構(gòu)模型,它是基于斯特恩的理論,適用于帶正電荷的表面。

在這個(gè)雙電層中,在幾乎是固體的部分,有一個(gè)吸收相反離子的斯特恩層。此外,擴(kuò)散層存在于其外部。船尾層外側(cè)存在一個(gè)滑移面。這個(gè)滑移面的電勢(shì)稱為ζ電勢(shì)?;泼嫖挥谝后w中的某處,而不是正好在固-液相邊界。ζ電勢(shì)用于解釋顆粒對(duì)晶片表面的粘附和去除。

圖10.2顯示了溶液中顆粒和晶片表面的示意圖。例如,由于吸收H”離子,推測(cè)兩個(gè)表面都帶正電。在帶電表面附近,負(fù)離子受靜電引力和不規(guī)則布朗運(yùn)動(dòng)的影響,形成雙電層。在這種情況下

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審核編輯:湯梓紅

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