雖然此類設(shè)備已被證明在上述應(yīng)用中有效，但它們體積龐大、笨重、單色且僅限于某些波段。后者是一個(gè)主要的技術(shù)限制，因?yàn)?a target="_blank">光電陰極僅在以下范圍之一中起作用：400~1000nm，1000~2500nm或>2500nm。然而，Z. Zheng及其同事在本文中展示了一種能夠覆蓋所有這些頻段的薄膜，而無(wú)需將光轉(zhuǎn)換為電子，反之亦然。

通過(guò)控制納米孔陣列的對(duì)稱性，研究人員展示了一種用于調(diào)整光波長(zhǎng)和強(qiáng)度的多功能工具，最終用于近紅外成像。上圖說(shuō)明了任意物體的近紅外成像概念。作為演示，電信波長(zhǎng)（1512nm）周圍的NIR光穿過(guò)扇形星目標(biāo)，并通過(guò)超表面轉(zhuǎn)換為可見光信號(hào)（504nm）。圖1中（bii和cii）顯示的圖像在CCD相機(jī)上形成。