欧美性猛交xxxx免费看_牛牛在线视频国产免费_天堂草原电视剧在线观看免费_国产粉嫩高清在线观看_国产欧美日本亚洲精品一5区

0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學習在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認識你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

知識分享---光刻模塊標準步驟

華林科納半導體設(shè)備制造 ? 來源:華林科納半導體設(shè)備制造 ? 作者:華林科納半導體設(shè) ? 2023-06-02 16:30 ? 次閱讀

通常,光刻是作為特性良好的模塊的一部分執(zhí)行的,其中包括晶圓表面制備、光刻膠沉積、掩模和晶圓的對準、曝光、顯影和適當?shù)目刮g劑調(diào)節(jié)。光刻工藝步驟需要按順序進行表征,以確保模塊末端剩余的抗蝕劑是掩模的最佳圖像,并具有所需的側(cè)壁輪廓。

光刻模塊中的標準步驟是:脫水烘烤、HMDS prime、抗蝕劑旋轉(zhuǎn)/噴涂、軟烘烤、對準、曝光、曝光后烘烤、顯影硬烘烤和除渣。并非所有光刻模塊都包含所有工藝步驟。為了完整起見,對過程步驟的簡要說明。

1、脫水烘烤 - 將晶圓脫水以幫助抵抗粘附。

2、HMDS prime - 在晶圓表面涂上附著力促進劑。并非所有表面都需要。

3、抗蝕劑旋轉(zhuǎn)/噴涂——通過旋轉(zhuǎn)或噴涂在晶圓上涂上抗蝕劑。通常需要一件制服外套。

4、軟烘烤 - 去除抗蝕劑中的一些溶劑,可能導致抗蝕劑質(zhì)量(和厚度)的顯著損失。使抗蝕劑更粘稠。

5、對齊 - 將掩模上的圖案與晶圓上的特征對齊。

6、曝光——將掩模圖像投影到抗蝕劑上以引起選擇性化學性質(zhì)變化。

7、曝光后烘烤——烘烤抗蝕劑以去除更多的溶劑含量。使抗蝕劑更耐蝕刻劑(顯影劑除外)。

8、顯影 - 曝光后選擇性去除抗蝕劑(如果抗蝕劑為正,則暴露抗蝕劑,如果抗蝕劑為正,則未曝光抗蝕劑)。通常是濕法工藝(盡管存在干法工藝)。

9、硬烤 - 從抗蝕劑中去除大部分剩余溶劑。

10、Descum - 去除可能遮擋圖案中開放區(qū)域的薄層抗蝕劑浮渣,有助于打開角落。

wKgaomR5qfCAPREHAAFUS3Fe37g436.png


設(shè)計師通過選擇材料、形貌和幾何形狀來影響光刻工藝。沉積抗蝕劑的材料很重要,因為它會影響抗蝕劑的附著力。光刻膠下方層的反射率和粗糙度決定了曝光期間存在的反射光和散射光的量。很難在具有高形貌的表面上獲得漂亮均勻的抗蝕劑涂層,這會使曝光和顯影變得復(fù)雜,因為抗蝕劑在不同位置具有不同的厚度。如果晶圓表面有許多不同高度的特征,大多數(shù)光刻曝光工具的有限焦深將成為一個問題(如圖所示)。

審核編輯:湯梓紅

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
  • 模塊
    +關(guān)注

    關(guān)注

    7

    文章

    2736

    瀏覽量

    47787
  • 晶圓
    +關(guān)注

    關(guān)注

    52

    文章

    4984

    瀏覽量

    128361
  • 光刻
    +關(guān)注

    關(guān)注

    8

    文章

    324

    瀏覽量

    30254
收藏 人收藏

    評論

    相關(guān)推薦

    芯片制造:光刻工藝原理與流程

    光刻是芯片制造過程中至關(guān)重要的一步,它定義了芯片上的各種微細圖案,并且要求極高的精度。以下是光刻過程的詳細介紹,包括原理和具體步驟。?? 光刻原理??????
    的頭像 發(fā)表于 01-28 16:36 ?225次閱讀
    芯片制造:<b class='flag-5'>光刻</b>工藝原理與流程

    光刻機的分類與原理

    本文主要介紹光刻機的分類與原理。 ? 光刻機分類 光刻機的分類方式很多。按半導體制造工序分類,光刻設(shè)備有前道和后道之分。前道光刻機包括芯片
    的頭像 發(fā)表于 01-16 09:29 ?565次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻</b>機的分類與原理

    組成光刻機的各個分系統(tǒng)介紹

    ? 本文介紹了組成光刻機的各個分系統(tǒng)。 光刻技術(shù)作為制造集成電路芯片的重要步驟,其重要性不言而喻。光刻機是實現(xiàn)這一工藝的核心設(shè)備,它的工作原理類似于傳統(tǒng)攝影中的曝光過程,但精度要求極高
    的頭像 發(fā)表于 01-07 10:02 ?454次閱讀
    組成<b class='flag-5'>光刻</b>機的各個分系統(tǒng)介紹

    光刻掩膜技術(shù)介紹

    膠。 掩膜版對下游行業(yè)生產(chǎn)線的作用主要體現(xiàn)為,利用掩膜版上已設(shè)計好的圖案,通過透光與非透光的方式進行圖像(電路圖形)復(fù)制,將電路圖案精確地轉(zhuǎn)移到硅片上的光刻膠層。隨后,經(jīng)過蝕刻、摻雜等步驟,在硅片上形成所需的電路結(jié)構(gòu),從而實現(xiàn)批量生產(chǎn)。
    的頭像 發(fā)表于 01-02 13:46 ?625次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻</b>掩膜技術(shù)介紹

    一文看懂光刻膠的堅膜工藝及物理特性和常見光刻

    共讀好書關(guān)于常用光刻膠型號也可以查看這篇文章:收藏!常用光刻膠型號資料大全,幾乎包含所有芯片用光刻膠歡迎掃碼添加小編微信掃碼加入知識星球,領(lǐng)取公眾號資料
    的頭像 發(fā)表于 11-01 11:08 ?1238次閱讀

    簡述光刻工藝的三個主要步驟

    光刻作為半導體中的關(guān)鍵工藝,其中包括3大步驟的工藝:涂膠、曝光、顯影。三個步驟有一個異常,整個光刻工藝都需要返工處理,因此現(xiàn)場異常的處理顯得尤為關(guān)鍵”
    的頭像 發(fā)表于 10-22 13:52 ?870次閱讀

    電源升壓模塊電路安裝操作步驟

    電源升壓模塊電路的安裝操作步驟主要包括以下幾個關(guān)鍵步驟: 一、準備階段 確認模塊規(guī)格 :首先,需要確認升壓模塊的輸入電壓范圍、輸出電壓、最大
    的頭像 發(fā)表于 09-29 16:44 ?830次閱讀

    光刻掩膜版制作流程

    光刻掩膜版的制作是一個復(fù)雜且精密的過程,涉及到多個步驟和技術(shù)。以下是小編整理的光刻掩膜版制作流程: 1. 設(shè)計與準備 在開始制作光刻掩膜版之前,首先需要根據(jù)電路設(shè)計制作出掩模的版圖。這
    的頭像 發(fā)表于 09-14 13:26 ?858次閱讀

    光刻工藝的基本知識

    在萬物互聯(lián),AI革命興起的今天,半導體芯片已成為推動現(xiàn)代社會進步的心臟。而光刻(Lithography)技術(shù),作為先進制造中最為精細和關(guān)鍵的工藝,不管是半導體芯片、MEMS器件,還是微納光學元件都離不開光刻工藝的參與,其重要性不言而喻。本文將帶您一起認識
    的頭像 發(fā)表于 08-26 10:10 ?1019次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻</b>工藝的基本<b class='flag-5'>知識</b>

    微流控光刻掩膜制作

    微流控光刻掩膜的制作過程涉及多個步驟,?包括設(shè)計、?制版、?曝光、?顯影、?刻蝕等,?最終形成具有特定圖形結(jié)構(gòu)的掩膜版。? 首先,?設(shè)計階段是制作掩膜版的關(guān)鍵一步。?設(shè)計人員需要使用標準的CAD
    的頭像 發(fā)表于 08-08 14:56 ?380次閱讀

    光刻膠的硬烘烤技術(shù)

    根據(jù)光刻膠的應(yīng)用工藝,我們可以采用適當?shù)姆椒▽σ扬@影的光刻膠結(jié)構(gòu)進行處理以提高其化學或物理穩(wěn)定性。通常我們可以采用烘烤步驟來實現(xiàn)整個光刻膠結(jié)構(gòu)的熱交聯(lián),稱為硬烘烤或者堅膜?;蛲ㄟ^低劑量
    的頭像 發(fā)表于 07-10 13:46 ?1101次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻</b>膠的硬烘烤技術(shù)

    光刻膠后烘技術(shù)

    一般光刻過程文章中簡單介紹過后烘工藝但是比較簡單,本文就以下一些應(yīng)用場景下介紹后烘的過程和作用。 化學放大正膠 機理 當使用“正?!闭z時,曝光完成后光反應(yīng)也就完成了,但是化學放大的光刻膠需要隨后的烘烤步驟。光反應(yīng)在曝光期間開始
    的頭像 發(fā)表于 07-09 16:08 ?1645次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻</b>膠后烘技術(shù)

    光刻膠的保存和老化失效

    通常要考慮光刻膠是否過期失效了。接下來我們將介紹一下光刻膠保存和老化失效的基礎(chǔ)知識。 光刻膠的保存 光刻膠對光敏感,在光照或高溫條件下其性能
    的頭像 發(fā)表于 07-08 14:57 ?1278次閱讀

    ASML考慮推出通用EUV光刻平臺

    范登布林克指出,更高的數(shù)值孔徑能提高光刻分辨率。他進一步解釋說,Hyper NA 光刻機將簡化先進制程生產(chǎn)流程,避免因使用 High NA 光刻機進行雙重圖案化導致的額外步驟及風險。
    的頭像 發(fā)表于 05-23 09:51 ?501次閱讀

    光刻膠和光刻機的區(qū)別

    光刻膠是一種涂覆在半導體器件表面的特殊液體材料,可以通過光刻機上的模板或掩模來進行曝光。
    的頭像 發(fā)表于 03-04 17:19 ?4970次閱讀