半導體生產過程中的某些工藝涉及氣體與半導體基片的反應，比如沉積工藝和刻蝕工藝，氣體的流量將對工藝結果產生重要影響。為了使生產的半導體獲得較高的良品率，必須對流入反應腔室的氣體流量進行精確控制，尤其是隨著半導體工藝集成度的不斷提高，對氣體流量的誤差要求也進一步提高。

質量流量控制器MFC，是一種用于對氣體流量進行精確測量和控制的器件，其不但具有質量流量計的功能，更重要的是能自動控制氣體流量，即用戶可根據(jù)需要進行流量設定，MFC自動地將流量恒定在設定值上，即使系統(tǒng)壓力有波動或環(huán)境溫度有變化，也不會使其偏離設定值。簡單地說，質量流量控制器就是一個穩(wěn)流裝置，是一個可以手動設定或與計算機聯(lián)接自動控制的氣體穩(wěn)流裝置。這種儀表在不同的使用條件下，指示的流量均是標準狀態(tài)下的流量。半導體設備基本上都會配備MFC來控制工藝氣體流量，以滿足工藝的要求。

我國工業(yè)發(fā)展起步還是比較晚的，現(xiàn)代化程度也相對比較低，所以MFC未來在我國還是有比較大的發(fā)展空間的。AS200系列產品是奧松電子采用先進的MEMS技術研發(fā)，在傳感器的驅動，零點漂移的控制和閥控等諸多方面都采用了獨特的技術，保證了產品的高性能、高品質和高可靠性，是目前市場上一款穩(wěn)定性好、精度高、泄漏率低、耐壓高的優(yōu)質儀器。

AS200系列氣體質量流量控制器在半導體集成電路工藝、特種材料、化學工業(yè)、石油工業(yè)、醫(yī)藥、環(huán)保和真空等多種領域的科研和生產中有著重要的應用。其典型的應用場景包括:集成電路工藝設備, 如外延爐、擴散爐、CVD、等離子刻蝕機、濺射臺、離子注入機; 以及鍍膜設備、光纖熔煉設備、微反應裝置、混氣配氣系統(tǒng)、氣體取樣裝置、毛細管測量儀、氣相色譜儀及其它分析儀器。

審核編輯 黃宇