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中微投資!芯元基Micro LED印章巨量轉(zhuǎn)移重大突破

PKB2_Wit_Displa ? 來源:Wit Display ? 2023-12-10 09:39 ? 次閱讀

上海芯元基在其獨(dú)有的化學(xué)剝離Micro LED的技術(shù)基礎(chǔ)上,成功開發(fā)出了晶圓級(jí)印章巨量轉(zhuǎn)移工藝,達(dá)到了轉(zhuǎn)移芯片位置零偏差。

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芯元基由行業(yè)資深專家郝茂盛博士于2014年創(chuàng)辦,上海創(chuàng)徒、張江科投、中微半導(dǎo)體等先后進(jìn)行了投資,并在上海臨港建設(shè)了中試生產(chǎn)線。經(jīng)過5年多的潛心研發(fā),芯元基已經(jīng)形成了以藍(lán)寶石復(fù)合圖形襯底技術(shù)(DPSS)、化學(xué)剝離技術(shù)和晶圓級(jí)批量轉(zhuǎn)移技術(shù)等為核心的完整技術(shù)體系,這些技術(shù)是制造高端光電子器件的核心技術(shù),是Micro LED 批量轉(zhuǎn)移的最優(yōu)方案。芯元基的主要技術(shù)在中國、美國、日本、中國臺(tái)灣等均已獲專利授權(quán),打破了該領(lǐng)域核心技術(shù)的國外壟斷,其技術(shù)水平位于全球前列。

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原文標(biāo)題:中微投資!芯元基Micro LED印章巨量轉(zhuǎn)移重大突破

文章出處:【微信號(hào):Wit_Display,微信公眾號(hào):Wit Display】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請注明出處。

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