今天這篇,我們繼續(xù)往下講,說說芯片的誕生過程——從真空管、晶體管到集成電路,從BJT、MOSFET到CMOS,芯片究竟是如何發(fā)展起來的,又是如何工作的。
█真空管(電子管)
愛迪生效應(yīng)
1883年,著名發(fā)明家托馬斯·愛迪生(Thomas Edison)在一次實(shí)驗(yàn)中,觀察到一種奇怪現(xiàn)象。
當(dāng)時(shí),他正在進(jìn)行燈絲(碳絲)的壽命測(cè)試。在燈絲旁邊,他放置了一根銅絲,但銅絲并沒有接在任何電極上。也就是說,銅絲沒有通電。
碳絲正常通電后,開始發(fā)光發(fā)熱。過了一會(huì),愛迪生斷開電源。他無意中發(fā)現(xiàn),銅絲上竟然也產(chǎn)生了電流。
愛迪生沒有辦法解釋出現(xiàn)這種現(xiàn)象的原因,但是,作為一個(gè)精明的“商人”,他想到的第一件事,就是給這個(gè)發(fā)現(xiàn)申請(qǐng)專利。他還將這種現(xiàn)象,命名為“愛迪生效應(yīng)”。
現(xiàn)在我們知道,“愛迪生效應(yīng)”的本質(zhì),是熱電子發(fā)射。也就是說,燈絲被加熱后,表面的電子變得活躍,“逃”了出去,結(jié)果被金屬銅絲捕獲,從而產(chǎn)生了電流。
愛迪生申請(qǐng)專利之后,并沒有想到這個(gè)效應(yīng)有什么用途,于是將其束之高閣。
1884年,英國(guó)物理學(xué)家約翰·安布羅斯·弗萊明(John Ambrose Fleming)訪問美國(guó),與愛迪生進(jìn)行會(huì)面。愛迪生向弗萊明展示了愛迪生效應(yīng),給弗萊明留下了深刻的印象。
等到弗萊明真正用到這個(gè)效應(yīng),已經(jīng)是十幾年后的事情了。
1901年,無線電報(bào)發(fā)明人伽利爾摩·馬可尼(Guglielmo Marconi)啟動(dòng)了橫跨大西洋的遠(yuǎn)程無線電通信實(shí)驗(yàn)。弗萊明加入了這場(chǎng)實(shí)驗(yàn),幫助研究如何增強(qiáng)無線信號(hào)的接收。
簡(jiǎn)單來說,就是研究如何在接收端檢波信號(hào)、放大信號(hào),讓信號(hào)能夠被完美解讀。
放大信號(hào)大家都懂,那什么是檢波信號(hào)呢?
所謂信號(hào)檢波,其實(shí)就是信號(hào)篩選。天線接收到的信號(hào),是非常雜亂的,什么信號(hào)都有。我們真正需要的信號(hào)(指定頻率的信號(hào)),需要從這些雜亂信號(hào)中“過濾”出來,這就是檢波。
想要實(shí)現(xiàn)檢波,單向?qū)ㄐ裕▎蜗驅(qū)щ姡┦顷P(guān)鍵。
無線電磁波是高頻振蕩,每秒高達(dá)幾十萬次的頻率。無線電磁波產(chǎn)生的感應(yīng)電流,也隨著“正、負(fù)、正、負(fù)”不斷變化,如果我們用這個(gè)電流去驅(qū)動(dòng)耳機(jī),一正一負(fù)就是零,耳機(jī)就沒辦法準(zhǔn)確地識(shí)別出信號(hào)。
采用單向?qū)щ娦?,正弦波的?fù)半周就沒有了,全部是正的,電流方向一致。把高頻過濾掉之后,耳機(jī)就能夠輕松感應(yīng)出電流的變化。
去掉負(fù)半周,電流方向變成一致的,容易解讀
為了檢波信號(hào),弗萊明想到了“愛迪生效應(yīng)”——是不是可以基于愛迪生效應(yīng)的電子流動(dòng),設(shè)計(jì)一個(gè)新型的檢波器呢?
就這樣,1904年,世界上第一支真空電子二極管,在弗萊明的手下誕生了。當(dāng)時(shí),這個(gè)二極管也叫做“弗萊明閥”。(真空管,vacuum tube,也就是電子管,有時(shí)候也叫“膽管”。)
弗萊明的二極管,結(jié)構(gòu)其實(shí)非常簡(jiǎn)單,就是真空玻璃燈泡里,塞了兩個(gè)極:一個(gè)陰極(Cathode),加熱后可以發(fā)射電子(陰極射線);一個(gè)陽極(Anode),可以接收電子。
旁熱式二極管
玻璃管里之所以要抽成真空,是為了防止發(fā)生氣體電離,對(duì)正常的電子流動(dòng)造成影響,破壞特性曲線。(抽成真空,還可以有效降低燈絲的氧化損耗。)
三極管
二極管的出現(xiàn),解決了檢波和整流需求,當(dāng)時(shí)是一個(gè)重大突破。但是,它還有改進(jìn)的空間。
1906年,美國(guó)科學(xué)家德·福雷斯特(De Forest Lee)在真空二極電子管里,巧妙地加了一個(gè)柵板(“柵極”),發(fā)明了真空三極電子管。
加了柵極之后,當(dāng)柵極的電壓為正,它就會(huì)吸引更多陰極發(fā)出的電子。大部分電子穿過柵極,到達(dá)陽極,將大大增加陽極上的電流。
如果柵極的電壓為負(fù),陰極上的電子就沒有動(dòng)力前往柵極,更不會(huì)到達(dá)陽極。
柵極上很小的電流變化,能引起陽極很大的電流變化。而且,變化波形與柵極電流完全一致。所以,三極管有信號(hào)放大的作用。
一開始的三極管是單柵,后來變成了兩塊板子夾在一起的雙柵,再后來,干脆變成了整個(gè)包起來的圍柵。
圍柵
真空三極管的誕生,是電子工業(yè)領(lǐng)域的里程碑事件。
這個(gè)小小的元件,真正實(shí)現(xiàn)了用電控制電(以往都是用機(jī)械開關(guān)控制電,存在頻率低、壽命短、易損壞的問題),用“小電流”控制“大電流”。
它集檢波、放大和振蕩三種功能于一體,為電子技術(shù)的發(fā)展奠定了基礎(chǔ)。
基于它,我們才有了性能越來越強(qiáng)的廣播電臺(tái)、收音機(jī)、留聲機(jī)、電影、電臺(tái)、雷達(dá)、無線電對(duì)講等。這些產(chǎn)品的廣泛普及,改變了人們的日常生活,推動(dòng)了社會(huì)進(jìn)步。
1919年,德國(guó)的肖特基提出在柵極和正極間加一個(gè)簾柵極的想法。這個(gè)想法被英國(guó)的朗德在1926年實(shí)現(xiàn)。這就是后來的四極管。再后來,荷蘭的霍爾斯特和泰萊根又發(fā)明了五極管。
20世紀(jì)40年代,計(jì)算機(jī)技術(shù)研究進(jìn)入高潮。人們發(fā)現(xiàn),電子管的單向?qū)ㄌ匦?,可以用于設(shè)計(jì)一些邏輯電路(例如與門電路、或門電路)。
于是,他們開始將電子管引入計(jì)算機(jī)領(lǐng)域。那時(shí)候,包括埃尼阿克(ENIAC,使用了18000多只電子管)在內(nèi)的幾乎所有電子計(jì)算機(jī),都是基于電子管制造的。
埃尼阿克 這里我們簡(jiǎn)單說說門電路。
我們學(xué)習(xí)計(jì)算機(jī)基礎(chǔ)的時(shí)候,肯定學(xué)過基本的邏輯運(yùn)算,例如與、或、非、異或、同或、與非、或非等。 ?
計(jì)算機(jī)只認(rèn)識(shí)0和1。它進(jìn)行計(jì)算,就是基于這些邏輯運(yùn)算規(guī)則。
例如2+1,就是二進(jìn)制下的0010+0001,做“異或運(yùn)算”,等于0011,也就是3。
?
實(shí)現(xiàn)上面這些邏輯門功能的電路,就是邏輯門電路。而單向?qū)щ姷碾娮庸埽ㄕ婵展埽?,可以組建變成各種邏輯門電路。
例如下面的“或門電路”和“與門電路”。
A、B為輸入,F(xiàn)為輸出
█晶體管
電子管高速發(fā)展和應(yīng)用的同時(shí),人們也逐漸發(fā)現(xiàn),這款產(chǎn)品存在一些弊端:
一方面,電子管容易破損,故障率高;另一方面,電子管需要加熱使用,很多能量都浪費(fèi)在發(fā)熱上,也帶來了極高的功耗。
所以,人們開始思考——是否有更好的方式,可以實(shí)現(xiàn)電路的檢波、整流和信號(hào)放大呢?
方法當(dāng)然是有的。這個(gè)時(shí)候,一種偉大的材料就要登場(chǎng)了,它就是——半導(dǎo)體。
半導(dǎo)體的萌芽
我們將時(shí)間繼續(xù)往前撥,回到更早的18世紀(jì)。
1782年,意大利著名物理學(xué)家亞歷山德羅·伏特(Alessandro Volta),經(jīng)過實(shí)驗(yàn)總結(jié),發(fā)現(xiàn)固體物質(zhì)大致可以分為三種:
第一種,像金銀銅鐵等這樣的金屬,極易導(dǎo)電,稱為導(dǎo)體;
第二種,像木材、玻璃、陶瓷、云母等這樣的材料,不易導(dǎo)電,稱為絕緣體;
第三種,介于導(dǎo)體和絕緣體之間,會(huì)緩慢放電。
第三種材料的奇葩特性,伏特將其命名為“Semiconducting Nature”,也就是“半導(dǎo)體特性”。這是人類歷史上第一次出現(xiàn)“半導(dǎo)體(semiconductor)”這一稱呼。
亞歷山德羅·伏特 后來,陸續(xù)有多位科學(xué)家,有意或無意中,發(fā)現(xiàn)了一些半導(dǎo)體特性現(xiàn)象。例如:
1833年,邁克爾·法拉第(Michael Faraday)發(fā)現(xiàn),硫化銀在溫度升高時(shí),電阻反而會(huì)降低(半導(dǎo)體的熱敏特性)。
1839年,法國(guó)科學(xué)家亞歷山大·貝克勒爾(Alexandre Edmond Becquerel)發(fā)現(xiàn),光照可以使某些材料的兩端產(chǎn)生電勢(shì)差(半導(dǎo)體的光伏效應(yīng))。
1873年,威勒畢·史密斯(Willoughby Smith)發(fā)現(xiàn),在光線的照射下,硒材料的電導(dǎo)率會(huì)增加(半導(dǎo)體的光電導(dǎo)效應(yīng))。
這些現(xiàn)象,當(dāng)時(shí)沒有人能夠解釋,也沒有引起太多關(guān)注。
1874年,德國(guó)科學(xué)家卡爾·布勞恩(Karl Ferdinand Braun)發(fā)現(xiàn)了天然礦石(金屬硫化物)的電流單向?qū)ㄌ匦?。這是一個(gè)巨大的里程碑。
卡爾·布勞恩 1906年,美國(guó)工程師格林里夫·惠特勒·皮卡德(Greenleaf Whittier Pickard),基于黃銅礦石晶體,發(fā)明了著名的礦石檢波器(crystal detector),也被稱為“貓胡須檢波器”(檢波器上有一根探針,很像貓的胡須,因此得名)。
礦石檢波器 礦石檢波器是人類最早的半導(dǎo)體器件。它的出現(xiàn),是半導(dǎo)體材料的一次“小試牛刀”。
盡管它存在一些缺陷(品控差,工作不穩(wěn)定,因?yàn)榈V石純度不高),但有力推動(dòng)了電子技術(shù)的發(fā)展。當(dāng)時(shí),基于礦石檢波器的無線電接收機(jī),促進(jìn)了廣播和無線電報(bào)的普及。
能帶理論的問世
人們使用著礦石檢波器,卻始終想不明白它的工作原理。在此后的30余年里,科學(xué)家們反復(fù)思考——為什么會(huì)有半導(dǎo)體材料?為什么半導(dǎo)體材料可以實(shí)現(xiàn)單向?qū)щ姡?
早期的時(shí)候,很多人甚至懷疑半導(dǎo)體材料是否真的存在。著名物理學(xué)家泡利(Pauli)曾經(jīng)表示:“人們不應(yīng)該研究半導(dǎo)體,那是一個(gè)骯臟的爛攤子,有誰知道是否有半導(dǎo)體的存在?!? 后來,隨著量子力學(xué)的誕生和發(fā)展,半導(dǎo)體的理論研究終于有了突破。
1928年,德國(guó)物理學(xué)家、量子力學(xué)創(chuàng)始人之一,馬克斯·普朗克(Max Karl Ernst Ludwig Planck),在應(yīng)用量子力學(xué)研究金屬導(dǎo)電問題中,首次提出了固體能帶理論。
量子理論之父,普朗克 他認(rèn)為,在外電場(chǎng)作用下,半導(dǎo)體導(dǎo)電分為“空穴”參與的導(dǎo)電(即P型導(dǎo)電)和電子參與的導(dǎo)電(即N型導(dǎo)電)。半導(dǎo)體的許多奇異特性,都是由“空穴”和電子所共同決定的。
后來,能帶理論被進(jìn)一步完善成型,系統(tǒng)地解釋了導(dǎo)體、絕緣體和半導(dǎo)體的本質(zhì)區(qū)別。
我們來簡(jiǎn)單了解一下能帶理論。
大家在中學(xué)物理里學(xué)過,物體由分子、原子組成,原子的外層是電子。
固體物體的原子之間,靠得比較緊,電子就會(huì)混到一起。量子力學(xué)認(rèn)為,電子沒法待在一個(gè)軌道上,會(huì)“撞車”。于是,軌道就硬生生分裂成了好幾個(gè)細(xì)軌道。 在量子力學(xué)里,這種細(xì)軌道,叫能級(jí)。而多個(gè)細(xì)軌道擠在一起變成的寬軌道,叫能帶。
在兩個(gè)能帶中,處于下方的是價(jià)帶,上方的是導(dǎo)帶,中間的是禁帶。價(jià)帶和導(dǎo)帶之間是禁帶。禁帶的距離,是帶隙(能帶間隙)。
?
電子在寬軌道上移動(dòng),宏觀上就表現(xiàn)為導(dǎo)電。電子太多,擠滿了,動(dòng)不了,宏觀上就表現(xiàn)為不導(dǎo)電。
有些滿軌道和空軌道距離很近,電子可以輕松地從滿軌道跑到空軌道上,發(fā)生自由移動(dòng),這就是導(dǎo)體。
兩條軌道離得太遠(yuǎn),空隙太大,電子跑不過去,就沒有辦法導(dǎo)電。但是,如果從外界加一個(gè)能量,就能改變這種狀態(tài)。 ?
如果帶隙在5電子伏特(5ev)之內(nèi),給電子加一個(gè)額外能量,電子能完成跨越并自由移動(dòng),即發(fā)生導(dǎo)電。這種屬于半導(dǎo)體。(硅的帶隙大約是1.12eV,鍺大約是0.67eV。)
如果帶隙超過5電子伏特(5ev),正常情況下電子無法跨越,就屬于絕緣體。(如果外界加很大的能量,也可以強(qiáng)行幫助它跨越過去。例如空氣,空氣是絕緣體,但是高壓電也可以擊穿空氣,形成電流。)
值得一提的是,我們現(xiàn)在經(jīng)常聽說的“寬禁帶半導(dǎo)體”,就是包括碳化硅(SiC)、氮化鎵(GaN)、氧化鋅(ZnO)、金剛石、氮化鋁(AlN)等在內(nèi)的第三代半導(dǎo)體材料。
它們的優(yōu)點(diǎn)是禁帶寬度大(>2.2ev)、擊穿電場(chǎng)高、熱導(dǎo)率高、抗輻射能力強(qiáng)、發(fā)光效率高、頻率高,可用于高溫、高頻、抗輻射及大功率器件,是行業(yè)目前大力發(fā)展的方向。
前面我們提到了電子和空穴。半導(dǎo)體中有兩種載流子:自由電子和空穴。自由電子大家比較熟悉,什么是空穴呢? 空穴又稱電洞(Electron hole)。
常溫下,由于熱運(yùn)動(dòng),少量在價(jià)帶頂部的能量大的電子,可能越過禁帶,升遷到導(dǎo)帶中,成為“自由電子”。
電子跑了之后,留下一個(gè)“洞”。其余未升遷的電子,就可以進(jìn)入這個(gè)“洞”,由此產(chǎn)生電流。大家注意,空穴本身是不動(dòng)的,但是由空穴“填洞”過程產(chǎn)生了一種正電在流動(dòng)的效果,所以也被視為一種載流子。 ?
1931年,英國(guó)物理學(xué)家查爾斯·威爾遜(Charles Thomson Rees Wilson)在能帶論的基礎(chǔ)上,提出半導(dǎo)體的物理模型。
1939年,蘇聯(lián)物理學(xué)家А.С.達(dá)維多夫(А.С.Давыдов)、英國(guó)物理學(xué)家內(nèi)維爾·莫特(Nevill Francis Mott)、德國(guó)物理學(xué)家華特?肖特基(Walter Hermann Schottky),紛紛為半導(dǎo)體基礎(chǔ)理論添磚加瓦。達(dá)維多夫首先認(rèn)識(shí)到半導(dǎo)體中少數(shù)載流子的作用,而肖特基和莫特提出了著名的“擴(kuò)散理論”。
基于這些大佬們的貢獻(xiàn),半導(dǎo)體的基礎(chǔ)理論大廈,逐漸奠基完成。
晶體管的誕生
礦石檢波器誕生之后,科學(xué)家們發(fā)現(xiàn),這款檢波器的性能,和礦石純度有極大的關(guān)系。礦石純度越高,檢波器的性能就越好。
因此,很多科學(xué)家們進(jìn)行了礦石材料(例如硫化鉛、硫化銅、氧化銅等)的提純研究,提純工藝不斷精進(jìn)。 20世紀(jì)30年代,貝爾實(shí)驗(yàn)室的科學(xué)家羅素·奧爾(Russell Shoemaker Ohl)提出,使用提純晶體材料制作的檢波器,將會(huì)完全取代電子二極管。(要知道,當(dāng)時(shí)電子管處于絕對(duì)的市場(chǎng)統(tǒng)治地位。)
羅素·奧爾,他還是現(xiàn)代太陽能電池之父 經(jīng)過對(duì)100多種材料的逐一測(cè)試,他認(rèn)為,硅晶體是制作檢波器的最理想材料。為了驗(yàn)證自己的結(jié)論,他在同事杰克·斯卡夫(Jack Scaff)的幫助下,提煉出了高純度的硅晶體熔合體。
因?yàn)樨悹枌?shí)驗(yàn)室不具備硅晶體的切割能力,奧爾將這塊熔合體送到珠寶店,切割成不同大小的晶體樣品。
沒想到,其中一塊樣品,在光照后,一端表現(xiàn)為正極(positive),另一端表現(xiàn)為負(fù)極(negative),奧爾將其分別命名為P區(qū)和N區(qū)。就這樣,奧爾發(fā)明了世界上第一個(gè)半導(dǎo)體PN結(jié)(P–N Junction)。
二戰(zhàn)期間,AT&T旗下的西方電氣公司,基于提純的半導(dǎo)體晶體,制造了一批硅晶體二極管。這些二極管體積小巧、故障率低,大大改善了盟軍雷達(dá)系統(tǒng)的工作性能和可靠性。
奧爾的PN結(jié)發(fā)明,以及硅晶體二極管的優(yōu)異表現(xiàn),堅(jiān)定了貝爾實(shí)驗(yàn)室發(fā)展晶體管技術(shù)的決心。
1945年,貝爾實(shí)驗(yàn)室的威廉·肖克利(William Shockley)在與羅素·奧爾交流后,基于能帶理論,繪制了P型與N型半導(dǎo)體的能帶圖,并在此基礎(chǔ)上,提出了“場(chǎng)效應(yīng)設(shè)想”。
肖克利的場(chǎng)效應(yīng)設(shè)想 他假設(shè)硅晶片的內(nèi)部電荷可以自由移動(dòng),如果晶片足夠薄,在施加電壓的影響下,硅片內(nèi)的電子或空穴會(huì)涌現(xiàn)表面,大幅提升硅晶片的導(dǎo)電能力,從而實(shí)現(xiàn)電流放大的效果。
根據(jù)這個(gè)設(shè)想,1947年12月23日,貝爾實(shí)驗(yàn)室的約翰·巴丁和沃爾特·布拉頓做成了世界上第一只半導(dǎo)體三極管放大器。也就是下面這個(gè)看上去非常奇怪且簡(jiǎn)陋的東東:
晶體管的電路模型 根據(jù)實(shí)驗(yàn)記錄,這個(gè)晶體管可以實(shí)現(xiàn)“電壓增益100,功率增益40,電流損失1/2.5……”,表現(xiàn)非常出色。
在命名時(shí),巴丁和布拉頓認(rèn)為,這個(gè)裝置之所以能夠放大信號(hào),是因?yàn)樗碾娮枳儞Q特性,即信號(hào)從“低電阻的輸入”到“高電阻的輸出”。于是,他們將其取名為trans-resistor(轉(zhuǎn)換電阻)。后來,縮寫為transistor。
多年以后,我國(guó)著名科學(xué)家錢學(xué)森,將其中文譯名定為:晶體管。
我歸納一下,半導(dǎo)體特性是一種特殊的導(dǎo)電能力(受外界因素)。具有半導(dǎo)體特性的材料,叫半導(dǎo)體材料。硅和鍺,是典型的半導(dǎo)體材料。
微觀上,按照一定規(guī)律排列整齊的物質(zhì),叫做晶體。硅晶體就有單晶、多晶、無定型結(jié)晶等形態(tài)。 ?
晶體形態(tài)決定了能帶結(jié)構(gòu),能帶結(jié)構(gòu)決定了電學(xué)特性。所以,硅(鍺)晶體作為半導(dǎo)體材料,才有這么大的應(yīng)用價(jià)值。
二極管、三極管、四極管,是從功能上進(jìn)行命名。電子管(真空管)、晶體管(硅晶體管、鍺晶體管),是從原理上進(jìn)行命名。
巴丁和布拉頓發(fā)明的晶體管,實(shí)際上應(yīng)該叫做點(diǎn)接觸式晶體管。從下圖中也可以看出,這種設(shè)計(jì)過于簡(jiǎn)陋。雖然它實(shí)現(xiàn)了放大功能,但結(jié)構(gòu)脆弱,對(duì)外界震動(dòng)敏感,也不易制造,不具備商業(yè)應(yīng)用的能力。
肖克利看準(zhǔn)了這個(gè)缺陷,開始閉關(guān)研究新的晶體管設(shè)計(jì)。
1948年1月23日,經(jīng)過一個(gè)多月的努力,肖克利提出了一種具有三層結(jié)構(gòu)的新型晶體管模型,并將其名為結(jié)式晶體管(Junction Transistor)。
肖克利的結(jié)式晶體管設(shè)計(jì)
?
幫助肖克利完成最終成品制作的,是摩根·斯帕克(Morgan Sparks)和高登·蒂爾(GordonKidd Teal)。
需要特別說一下這個(gè)高登·蒂爾。
他發(fā)現(xiàn)采用單晶半導(dǎo)體替換多晶,可以帶來顯著的性能提升。而且,也是他發(fā)現(xiàn)直拉法可以用于提純金屬單晶。這種方法后來一直沿用,是半導(dǎo)體行業(yè)最主要的單晶制作方法。
晶體管的誕生,對(duì)于人類科技發(fā)展擁有極為重要的意義。
它擁有電子管的能力,卻克服了電子管體積大、能耗高、放大倍數(shù)小、壽命短、成本高等全部缺點(diǎn)。從它誕生的那一刻,就決定了它將實(shí)現(xiàn)對(duì)電子管的全面取代。
正在生產(chǎn)晶體管的工人 在無線通信領(lǐng)域,晶體管和電子管一樣,可以實(shí)現(xiàn)對(duì)電磁波的發(fā)射、檢波以及信號(hào)放大。在數(shù)字電路領(lǐng)域,晶體管也可以更方便地實(shí)現(xiàn)邏輯電路。它為電子工業(yè)的騰飛打下了堅(jiān)實(shí)的基礎(chǔ)。
█集成電路
晶體管的出現(xiàn),使得電路的小型化成為可能。
1952年,英國(guó)皇家雷達(dá)研究所的著名科學(xué)家杰夫·達(dá)默(Geoffrey Dummer),在一次會(huì)議上指出: “隨著晶體管的出現(xiàn)和對(duì)半導(dǎo)體的全面研究,現(xiàn)在似乎可以想象,未來電子設(shè)備是一種沒有連接線的固體組件?!?
1958年8月,德州儀器公司的新員工基爾比發(fā)現(xiàn),由很多器件組成的極小的微型電路,是可以在一塊晶片上制作出來的。也就是說,可以在硅片上制作不同的電子器件(例如電阻、電容、二極管和三極管),再把它們用細(xì)線連接起來。
不久后,9月12日,基爾比基于自己的設(shè)想,成功制造出了一塊長(zhǎng)7/16英寸、寬1/16英寸的鍺片電路,也是世界上第一塊集成電路(Integrated Circuit)。
這個(gè)電路是一個(gè)帶有RC反饋的單晶體管振蕩器,整個(gè)是用膠水粘在玻璃載片上的,看上去非常簡(jiǎn)陋。電路的器件,則是用零亂的細(xì)線相連。
基爾比發(fā)明集成電路的同時(shí),另一個(gè)人也在這個(gè)領(lǐng)域取得了突破。這個(gè)人,就是仙童半導(dǎo)體(Fairchild Semiconductor)的羅伯特·諾伊斯(Robert Norton Noyce,后來創(chuàng)辦了英特爾Intel)。
仙童是硅谷“八叛徒”聯(lián)合創(chuàng)立的公司(詳見:仙童傳奇),在半導(dǎo)體技術(shù)上擁有極強(qiáng)的實(shí)力。
“八叛徒”之一的讓·阿梅德·霍爾尼(Jean Hoerni),發(fā)明了非常重要的平面工藝(Planner Process)。
這個(gè)工藝,就是在硅片上加上一層氧化硅作為絕緣層。然后,在這層絕緣氧化硅上打洞,用鋁薄膜將已用硅擴(kuò)散技術(shù)做好的器件連接起來。
平面工藝的誕生,使得仙童能夠制造出極小尺寸的高性能硅晶體三極管,也使集成電路中器件間的連接成了可能。
1959年1月23日,諾伊斯在他的工作筆記上寫到: “將各種器件制作在同一硅晶片上,再用平面工藝將其連接起來,就能制造出多功能的電子線路。這一技術(shù)可以使電路的體積減小、重量減輕、并使成本下降。”
諾伊斯 得知基爾比提交了集成電路專利后,諾伊斯十分懊悔,認(rèn)為自己晚了一步。然而,很快他又發(fā)現(xiàn),基爾比的發(fā)明其實(shí)存在缺陷。
基爾比的集成電路采用飛線連接,根本無法進(jìn)行大規(guī)模生產(chǎn),缺乏實(shí)用價(jià)值。
諾伊斯的設(shè)想是:
將電子設(shè)備的所有電路和一個(gè)個(gè)元器件都制成底版,然后刻在一個(gè)硅片上。這個(gè)硅片一旦刻好了,就是全部的電路,可以直接用于組裝產(chǎn)品。此外,采用蒸發(fā)沉積金屬的方式,可以代替熱焊接導(dǎo)線,徹底消滅飛線。
仙童的硅晶體集成電路 1959年7月30日,諾伊斯基于自己的想法,申請(qǐng)了一項(xiàng)專利:“半導(dǎo)體器件——導(dǎo)線結(jié)構(gòu)” 。
嚴(yán)格來說,諾伊斯的發(fā)明更接近于現(xiàn)代意義上的集成電路。諾伊斯的設(shè)計(jì)基于硅基底平面工藝,而基爾比的設(shè)計(jì)基于鍺基底擴(kuò)散工藝。諾伊斯依托仙童的硅工藝優(yōu)勢(shì),做出的電路確實(shí)比基爾比更先進(jìn)。
1966年,法庭最終裁定將集成電路想法(混合型集成電路)的發(fā)明權(quán)授予了基爾比,將今天使用的封裝到一個(gè)芯片中的集成電路(真正意義上的集成電路),以及制造工藝的發(fā)明權(quán)授予了諾伊斯。
基爾比被譽(yù)為“第一塊集成電路的發(fā)明家”,而諾伊斯則是“提出了適合于工業(yè)生產(chǎn)的集成電路理論”的人。
1960年3月,德州儀器依據(jù)杰克.基爾比的設(shè)計(jì),正式推出了全球第一款商用化的集成電路產(chǎn)品——502型硅雙穩(wěn)態(tài)多諧振二進(jìn)制觸發(fā)器,銷售價(jià)格為450美元。
集成電路誕生之后,最先應(yīng)用的是軍事領(lǐng)域(當(dāng)時(shí)是冷戰(zhàn)最敏感的時(shí)期)。
1961年,美國(guó)空軍推出了第一臺(tái)由集成電路驅(qū)動(dòng)的計(jì)算機(jī)。1962年,美國(guó)人又將集成電路用于民兵彈道導(dǎo)彈(Minuteman)的制導(dǎo)系統(tǒng)。
后來,著名的阿波羅登月計(jì)劃,更是采購(gòu)了上百萬片的集成電路,讓德州儀器和仙童公司賺得盆滿缽滿。
軍用市場(chǎng)的成功,帶動(dòng)了民用市場(chǎng)的拓展。1964年,Zenith公司將集成電路用到了助聽器上,算是集成電路在民用領(lǐng)域的首次落地。
那之后的故事,大家應(yīng)該都比較熟悉了。在材料、工藝和制程的共同努力下,集成電路的晶體管數(shù)量不斷增加,性能持續(xù)提升,成本逐步下降,我們進(jìn)入了摩爾定律時(shí)代。
摩爾定律:集成電路上可容納的晶體管數(shù)目,約每隔18個(gè)月便會(huì)增加一倍,性能也將提升一倍。
基于集成電路發(fā)展起來的大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路,為半導(dǎo)體存儲(chǔ)、微處理器的出現(xiàn)鋪平了道路。
1970年,英特爾推出世界上第一款DRAM(動(dòng)態(tài)隨機(jī)存儲(chǔ)器)集成電路1103。次年,他們又推出世界上第一款包括運(yùn)算器、控制器在內(nèi)的可編程序運(yùn)算芯片——Intel 4004。 IT技術(shù)的黃金時(shí)代,正式開始了。
█晶體管的演進(jìn)
我們回過頭來,再說一下晶體管。
晶體管問世至今,形態(tài)發(fā)生過多次重大改變。概括來說,就是從雙極型為主,到單極型為主。單極型的話,從FET到MOSFET。從結(jié)構(gòu)的角度來,又是從PlanarFET到FinFET,再到GAAFET。
縮略語有點(diǎn)多,而且比較接近,所以容易看暈。大家耐心一點(diǎn),一個(gè)個(gè)來看。
雙極型、單極型
肖克利在1948年發(fā)明的結(jié)型晶體管,因?yàn)槭褂每昭ㄅc電子兩種載流子參與導(dǎo)電,被稱為雙極結(jié)型晶體管(Bipolar Junction Transistor,BJT)。
BJT晶體管有NPN和PNP兩種結(jié)構(gòu)形式:
我們可以看出,BJT晶體管是在一塊半導(dǎo)體基片上,制作兩個(gè)相距很近的PN結(jié)。兩個(gè)PN結(jié)把整塊半導(dǎo)體分成三部分,中間部分是基極(Base),兩側(cè)部分是發(fā)射極(Emitter)和集電極(Collector)。
BJT晶體管的工作原理較為復(fù)雜,且現(xiàn)在很少用到,限于篇幅,我就不多介紹了。從本質(zhì)來說,這個(gè)晶體管的主要作用,就是通過基極微小的電流變化,讓集電極產(chǎn)生較大的電流變化,有一個(gè)放大的作用。
前面小棗君提到過邏輯電路。由二極管與BJT晶體管組合而成的,被稱為DTL (Diode-Transistor Logic)電路。后來,出現(xiàn)了全部由晶體管搭建的TTL(Transistor-Transistor Logic)電路。
BJT晶體管的優(yōu)點(diǎn)是工作頻率高、驅(qū)動(dòng)能力強(qiáng)。但是,它也有缺點(diǎn),例如功耗大、集成度低。它的制造工藝也比較復(fù)雜,采用平面工藝存在一些弊端。
于是,隨著時(shí)間的推移,一種新的晶體管開始出現(xiàn),也就是場(chǎng)效應(yīng)晶體管(Field Effect Transistor,F(xiàn)ET)。
1953年,貝爾實(shí)驗(yàn)室的伊恩·羅斯(Ian Ross)和喬治·達(dá)西(George Dacey)合作,制作了世界上第一個(gè)結(jié)型場(chǎng)效應(yīng)晶體管(Junction Field Effect Transistor,JFET)原型。
JFET(結(jié)型場(chǎng)效應(yīng)晶體管),此為N溝道
JFET是一種三極(三端)結(jié)構(gòu)的半導(dǎo)體器件,包含源極(Source)、漏極(Drain)、柵極(Gate)。
JFET分為N溝道(N-Channel)JFET和P溝道(P-Channel)JFET。前者是一塊N形半導(dǎo)體兩邊制作兩個(gè)P型半導(dǎo)體(如上圖)。后者是一塊P形半導(dǎo)體兩邊制作兩個(gè)N型半導(dǎo)體。
JFET的工作原理,簡(jiǎn)單來說,就是通過控制柵極G和源極S之間的電壓(圖中VGS),以及漏極D和源極S之間的電壓(圖中VDS),從而控制柵極和溝道之間的PN結(jié),進(jìn)而控制耗盡層。
耗盡層越寬,溝道就越窄,溝道電阻越大,能夠通過的漏極電流(圖中ID)就越小。溝道被耗盡層全部覆蓋的狀態(tài),就叫做夾斷狀態(tài)。
JFET晶體管工作時(shí),只需要一種載流子,因此被稱為單極型晶體管。
1959年,又有一種新的晶體管誕生了,那就是大名鼎鼎的MOSFET(Metal-Oxide-Semiconductor FET,金屬氧化物半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)晶體管)。
它的發(fā)明人,是埃及裔科學(xué)家默罕默德·埃塔拉(Mohamed Atala,改名為Martin Atala)與韓裔科學(xué)家姜大元(Dawon Kahng,也翻譯為江大原)。
MOSFET同樣由源極、漏極與柵極組成。“MOS”里的“M”,指柵極最初使用金屬(metal)實(shí)現(xiàn)?!癘”,是指柵極與襯底使用氧化物(Oxide)隔離?!癝”,則是指MOSFET整體由半導(dǎo)體(semiconductor)實(shí)現(xiàn)。
MOSFET晶體管,也稱為IGFET(In-sulated Gate FET,絕緣柵場(chǎng)效應(yīng)晶體管)。
MOSFET(N型)
這種MOSFET晶體管,也分為“N型”與“P型” 兩種,即NMOS與PMOS。按操作類型的話,也分為增強(qiáng)型和耗盡型。
以上圖的N型MOS(更常用)為例。用P型硅半導(dǎo)體材料作襯底,在其面上擴(kuò)散了兩個(gè)N型區(qū),再在上面覆蓋一層二氧化硅(SiO2)絕緣層。最后,在N區(qū)上方,用腐蝕的方法做成兩個(gè)孔。用金屬化的方法分別在絕緣層上及兩個(gè)孔內(nèi)做成三個(gè)電極: G(柵極)、S(源極)、D(漏極)。
P型硅襯底有一個(gè)端子(B),通過引線和源極S相連。
MOSFET的工作原理較為簡(jiǎn)單:
正常情況下,N區(qū)和襯底P之間因?yàn)檩d流子的自然復(fù)合會(huì)形成一個(gè)中性的耗盡區(qū)。
給柵極提供正向電壓后,P區(qū)的電子會(huì)在電場(chǎng)的作用下聚集到柵極氧化硅下,形成一個(gè)以電子為多子的區(qū)域,也就是一個(gè)溝道。
現(xiàn)在,如果在漏極和源極之間施加電壓,電流將在源極和漏極之間自由流動(dòng),實(shí)現(xiàn)導(dǎo)通狀態(tài)。
柵極G類似于一個(gè)控制電壓的閘門,若給柵極G施加電壓,閘門打開,電流就能從源極S通向漏極D。撤掉柵極上的電壓,閘門關(guān)上,電流就無法通過。
特別需要指出,1967年,姜大元又和華裔科學(xué)家施敏合作,共同發(fā)明了“浮柵”FGMOS(Floating Gate MOSFET)結(jié)構(gòu),奠定了半導(dǎo)體存儲(chǔ)技術(shù)的基礎(chǔ)。后來所有的閃存、FLASH、EEPROM等,都是基于這個(gè)技術(shù)。
剛才介紹了BJT、JFET、MOSFET,我先畫個(gè)圖,大家思路不要亂:
1963年,仙童半導(dǎo)體的弗蘭克.萬拉斯(Frank Wanlass)和薩支唐(Chih-Tang Sah,華裔)首次提出了CMOS晶體管。
他們將PMOS與NMOS晶體管組合在一起,連接成互補(bǔ)結(jié)構(gòu),幾乎沒有靜態(tài)電流。這也是CMOS晶體管的“C(Complementary,互補(bǔ))”的由來。
CMOS的最大特點(diǎn),就是功耗遠(yuǎn)低于其它類型的晶體管。伴隨著摩爾定律的不斷發(fā)展,集成電路的晶體管數(shù)量不斷增加,使得對(duì)功耗的要求也不斷增加?;诘凸牡奶攸c(diǎn),CMOS開始成為主流。
今天,95%以上的集成電路芯片,都是基于CMOS工藝制造。
換句話說,從1960年代開始,晶體管的核心架構(gòu)原理就已經(jīng)基本定型了。以CMOS、硅(硅的自然存量遠(yuǎn)超過鍺,且耐熱性能比鍺更好,因此成為主流)、平面工藝為代表的集成電路生態(tài),支撐了整個(gè)產(chǎn)業(yè)長(zhǎng)達(dá)數(shù)十年的高速發(fā)展。
PlanarFET、FinFET、GAAFET
核心架構(gòu)原理雖然沒變,但形態(tài)還是有變化的。
集成電路不斷升級(jí),工藝和制程持續(xù)演進(jìn)。當(dāng)晶體管數(shù)量達(dá)到一定規(guī)模后,工藝會(huì)倒逼晶體管發(fā)生“變形”,以此適應(yīng)發(fā)展的需要。
早期的時(shí)候,晶體管主要是平面型晶體管(PlanarFET)。
隨著晶體管體積變小,柵極的長(zhǎng)度越做越短,源極和漏極的距離逐漸靠近。
當(dāng)制程(也就是我們現(xiàn)在常說的7nm、3nm,一般指柵極的寬度)小于20nm時(shí),麻煩出現(xiàn)了:MOSFET的柵極難以關(guān)閉電流通道,躁動(dòng)的電子無法被阻攔,漏電現(xiàn)象屢屢出現(xiàn),功耗也隨之變高。
為了解決這個(gè)問題,1999年,美籍華裔科學(xué)家胡正明教授,正式發(fā)明了鰭式場(chǎng)效應(yīng)晶體管(FinFET)。
相比PlanarFET的平面設(shè)計(jì),F(xiàn)inFET直接變成了3D設(shè)計(jì)、立體結(jié)構(gòu)。
它的電流通道變成了像魚鰭一樣的薄豎片,三面都用柵極包夾起來。這樣一來,就有了比較強(qiáng)大的電場(chǎng),提升了控制通道的效率,可以更好地控制電子能否通過。
技術(shù)繼續(xù)演進(jìn),等到了5nm時(shí),F(xiàn)inFET也不行了。這時(shí),又有了GAAFET(環(huán)繞式柵極技術(shù)晶體管)。
GAAFET英文全稱是Gate-All-Around FET。相比FinFET,GAAFET把柵極和漏極從鰭片又變成了一根根“小棍子”,垂直穿過柵極。
這樣的話,從三接觸面到四接觸面,并且還被拆分成好幾個(gè)四接觸面,柵極對(duì)電流的控制力又進(jìn)一步提高了。
韓國(guó)三星也設(shè)計(jì)出另一種GAA形式──MBCFET(多橋-通道場(chǎng)效應(yīng)管)。
MBCFET采用多層納米片替代GAA中的納米線,更大寬度的片狀結(jié)構(gòu)增加了接觸面,在保留了所有原有優(yōu)點(diǎn)的同時(shí),還實(shí)現(xiàn)了復(fù)雜度最小化。
目前,行業(yè)里的各大芯片企業(yè),仍然在深入研究晶體管的形態(tài)升級(jí),以期找到更好的創(chuàng)新,支撐未來的芯片技術(shù)發(fā)展。
█ 結(jié)語
好了,終于寫完了,累死了。能看到這里的,都是真愛。
總的來說,不管是電子管(真空管),還是晶體管,都是用電來控制電的小元件。晶體管基于半導(dǎo)體材料,所以能做得足夠小。這是芯片(集成電路)能做到“極小身材,極大能力”的本因。
半導(dǎo)體材料的特性,以及晶體管的作用,看上去都非常簡(jiǎn)單。正是億萬個(gè)這種簡(jiǎn)單的“小玩意”,支撐了人類整個(gè)數(shù)字技術(shù)的發(fā)展,推動(dòng)我們邁向數(shù)智時(shí)代。
審核編輯:劉清
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原文標(biāo)題:半導(dǎo)體芯片,到底是如何工作的?
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