在被超60億美元收購后,日本光刻膠巨頭JSR積極尋求擴大規(guī)模,以適應(yīng)全球芯片制造行業(yè)的快速發(fā)展。
此次收購由日本政府支持的投資公司(JIC)主導(dǎo),旨在通過整合行業(yè)資源,推動JSR在光刻膠領(lǐng)域的領(lǐng)導(dǎo)地位,并進一步擴大其市場份額。
JSR作為全球光刻膠市場的領(lǐng)軍企業(yè),擁有強大的技術(shù)實力和市場份額。然而,面對日益激烈的競爭和不斷變化的市場需求,公司意識到只有不斷擴大規(guī)模,才能保持領(lǐng)先地位并實現(xiàn)可持續(xù)發(fā)展。因此,在被收購后,JSR制定了明確的擴張戰(zhàn)略,包括加大研發(fā)投入、擴大生產(chǎn)線、優(yōu)化供應(yīng)鏈管理等方面。
收購資金的注入為JSR的擴張計劃提供了有力保障。公司計劃利用這筆資金引進先進的生產(chǎn)設(shè)備和技術(shù),提升生產(chǎn)效率和產(chǎn)品質(zhì)量。同時,JSR還將加強與全球客戶的合作,拓展新的應(yīng)用領(lǐng)域和市場,以進一步提升其市場競爭力。
此外,JSR還注重通過收購獲取新技術(shù)和擴大市場份額。在整合行業(yè)資源的過程中,公司積極尋求與其他優(yōu)秀企業(yè)的合作,通過并購或戰(zhàn)略合作等方式,獲取更多的技術(shù)優(yōu)勢和市場份額。這種策略不僅有助于加速JSR的擴張進程,還能提升其在全球光刻膠市場的整體競爭力。
展望未來,隨著全球芯片制造行業(yè)的快速發(fā)展和市場需求的不斷增長,JSR有望通過此次收購和擴張計劃,進一步鞏固其在光刻膠領(lǐng)域的領(lǐng)導(dǎo)地位,并為全球芯片制造行業(yè)的進步做出更大貢獻。
聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。
舉報投訴
相關(guān)推薦
對光的敏感度。在半導(dǎo)體制造過程中,光刻膠通過光化學反應(yīng),將掩膜版上的圖案精確地轉(zhuǎn)移到硅片表面。 光刻工藝是半導(dǎo)體制造的核心步驟之一。在硅片表面涂上光刻膠(負膠)
發(fā)表于 12-19 13:57
?316次閱讀
光刻膠作為掩模進行干法刻蝕或是濕法腐蝕后,一般都是需要及時的去除清洗,而一些高溫或者其他操作往往會導(dǎo)致光刻膠碳化難以去除。
發(fā)表于 11-11 17:06
?728次閱讀
共讀好書關(guān)于常用光刻膠型號也可以查看這篇文章:收藏!常用光刻膠型號資料大全,幾乎包含所有芯片用光刻膠歡迎掃碼添加小編微信掃碼加入知識星球,領(lǐng)取公眾號資料
發(fā)表于 11-01 11:08
?1220次閱讀
本文介紹了光刻膠的使用過程與原理。
發(fā)表于 10-31 15:59
?546次閱讀
控SU-8光刻膠烘烤:軟烘、后曝光烘烤和硬烘 在整個SU-8模具制備的過程中,微流控SU-8光刻膠需要烘烤2或3次,每一次烘烤都有不同的作用。 第一次光刻膠烘烤叫做軟烘,是SU-8
發(fā)表于 08-27 15:54
?393次閱讀
非常緩慢,因此通常只有在更換新批次的光刻膠時才會被注意到。 污染 光刻膠與水或不適合的溶劑(如異丙醇)接觸,或經(jīng)冷凍后的抗蝕劑可能會改變其顏色。在這種情況下,光刻膠的變質(zhì)是不可避免的。
發(fā)表于 07-11 16:07
?683次閱讀
根據(jù)光刻膠的應(yīng)用工藝,我們可以采用適當?shù)姆椒▽σ扬@影的光刻膠結(jié)構(gòu)進行處理以提高其化學或物理穩(wěn)定性。通常我們可以采用烘烤步驟來實現(xiàn)整個光刻膠結(jié)構(gòu)的熱交聯(lián),稱為硬烘烤或者堅膜?;蛲ㄟ^低劑量紫外線輻照
發(fā)表于 07-10 13:46
?1091次閱讀
評價一款光刻膠是否適合某種應(yīng)用需要綜合看這款光刻膠的特定性能,這里給出光刻膠一般特性的介紹。 1. 靈敏度 靈敏度(sensitivity)是衡量曝光速度的指標。光刻膠的靈敏度越高,所
發(fā)表于 07-10 13:43
?831次閱讀
一般光刻過程文章中簡單介紹過后烘工藝但是比較簡單,本文就以下一些應(yīng)用場景下介紹后烘的過程和作用。 化學放大正膠 機理 當使用“正?!闭?b class='flag-5'>膠時,曝光完成后光反應(yīng)也就完成了,但是化學放大的
發(fā)表于 07-09 16:08
?1635次閱讀
圖形反轉(zhuǎn)膠是比較常見的一種紫外光刻膠,它既可以當正膠使用又可以作為負膠使用。相比而言,負膠工藝更被人們所熟知。本文重點介紹其負
發(fā)表于 07-09 16:06
?788次閱讀
我們在使用光刻膠的時候往往關(guān)注的重點是光刻膠的性能,但是有時候我們會忽略光刻膠的保存和壽命問題,其實這個問題應(yīng)該在我們購買光刻膠前就應(yīng)該提出并規(guī)劃好。并且,在
發(fā)表于 07-08 14:57
?1276次閱讀
對于未來發(fā)展,JSR強調(diào)通過并購獲取新技術(shù)及擴大規(guī)模是實現(xiàn)成功的關(guān)鍵。作為全球最大的光刻膠生產(chǎn)商之一,JSR在半導(dǎo)體晶圓電路形成領(lǐng)域占據(jù)了27%的市場份額,然而在這個相對較小的市場中,
發(fā)表于 04-18 17:01
?701次閱讀
與正光刻膠相比,電子束負光刻膠會形成相反的圖案?;诰酆衔锏呢撔?b class='flag-5'>光刻膠會在聚合物鏈之間產(chǎn)生鍵或交聯(lián)。未曝光的光刻膠在顯影過程中溶解,而曝光的光刻膠
發(fā)表于 03-20 11:36
?2773次閱讀
光刻膠是一種涂覆在半導(dǎo)體器件表面的特殊液體材料,可以通過光刻機上的模板或掩模來進行曝光。
發(fā)表于 03-04 17:19
?4959次閱讀
光刻膠不能太厚或太薄,需要按制程需求來定。比如對于需要長時間蝕刻以形成深孔的應(yīng)用場景,較厚的光刻膠層能提供更長的耐蝕刻時間。
發(fā)表于 03-04 10:49
?780次閱讀
評論