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美光計劃投資約300億元在日本新建DRAM廠

半導(dǎo)體芯科技SiSC ? 來源:半導(dǎo)體芯科技SiSC ? 作者:半導(dǎo)體芯科技SiS ? 2024-05-29 16:28 ? 次閱讀

據(jù)日媒報道,美光科技計劃投入6000億-8000億日圓(約合人民幣277-369億元)在日本廣島縣興建新廠,用于生產(chǎn)DRAM芯片。這座新廠房將于2026年初動工,并安裝極紫外光刻(EUV)設(shè)備。消息稱最快2027年底便可投入營運。

報道稱,此前,日本政府已批準(zhǔn)多達1920億日圓補貼,支持美光在廣島建廠并生產(chǎn)新一代芯片。去年,日本經(jīng)濟產(chǎn)業(yè)省曾表示,將利用這筆經(jīng)費協(xié)助美光科技生產(chǎn)芯片,這些芯片將是推動生成式AI、數(shù)據(jù)中心自動駕駛技術(shù)發(fā)展的關(guān)鍵。

審核編輯 黃宇
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