這項打印技術的變化也不斷地激發(fā)出新的創(chuàng)新。被稱為“直接成像數(shù)字曝光”的技術被設計人員用來快速、輕松地“打印”多種電子產品，所使用的方法是將感光材料暴露在紫外光（UV）之下。

現(xiàn)在，直接成像數(shù)字曝光可被用于制作印刷電路板（PCB）、球柵陣列（BGA）、芯片尺寸封裝（CSP）、平板顯示、實時條形碼標刻，以及計算機直接制版印刷——這項打印工藝可直接將一副數(shù)字圖像從計算機發(fā)送至一塊印板上。

與傳統(tǒng)數(shù)字曝光技術相比，直接成像數(shù)字曝光的優(yōu)勢有很多，其中包括更高的材料靈活性、更低的成本和更快的打印速度。

由TI實現(xiàn)的直接成像數(shù)字曝光

在TI，我們的DLP?高速數(shù)字微鏡器件（DMD）為那些對精度要求達到微米級的直接成像數(shù)字曝光開發(fā)人員提供了一個強大工具，從而能夠在批量生產情況下實現(xiàn)快速曝光，以及更低的運營成本。

通過使用可編程光控制的DLP技術，開發(fā)人員可以將圖形直接曝光在光阻膠片上，而無需接觸掩膜，這樣做降低了材料成本，提高了生產率，并且可實現(xiàn)圖形的快速變化，使得這項技術非常適用于最小外形尺寸需要兩次曝光的情況。

TI高度靈活的芯片組架構還提供多系統(tǒng)控制和連通性選項，諸如針對電機同步、傳感器和其它外設的觸發(fā)器。

DLP直接成像數(shù)字曝光的典型系統(tǒng)方框圖

觀看了解DLP無掩膜數(shù)字曝光是如何降低成本并增加PCB可靠性的

進一步了解數(shù)字曝光

我們有多款適用于數(shù)字曝光應用的DLP數(shù)字微鏡器件。、、、和芯片系列全都支持低至400納米的波長。最近，我們在ti.com上推出了和，以支持低至363納米的波長。

TI提供針對所有這些DMD的評估模塊產品庫，以及針對數(shù)字曝光的輔助性，其中包括電路原理圖、布局布線文件、物料清單和一份測試報告。

TI Design特有一塊系統(tǒng)級的DLP開發(fā)板，由于集成了DLP9000X——由超過4百萬個微鏡制成的、擁有最高分辨率的DLP數(shù)字微鏡器件，該開發(fā)板具有最大的數(shù)據(jù)吞吐量；這塊開發(fā)板還裝備有我們速度最快的數(shù)字控制器，即支持每秒高達60千兆像素數(shù)據(jù)速率的。數(shù)字控制器還為設計人員提供了高級像素控制，在全幀輸入功能的基礎上，支持隨機行尋址。