剛剛研制成功的世界首臺分辨力最高紫外超分辨光刻裝備意味著什么？對國內(nèi)芯片行業(yè)有何影響？

小編提取了大家最關(guān)心的幾個問題：

1、我們可以實現(xiàn)芯片徹底國產(chǎn)化了嗎？

答：暫時還不行。

2、不吹不黑，這個裝備真的這么厲害嗎，還是只是吹牛？

答：確實很厲害。確實是世界首次，方法比較另類。

3、這個設(shè)備真能做出IC嗎？

答：不能！中國的這臺光刻裝備, 并不是用來制造麒麟990, 英特爾I7這類芯片, 而是用來制造光學器件, 像光柵等, 但這也已經(jīng)非常厲害了.

4、這個設(shè)備真正牛逼點在哪里？

答：驗證了一條通往芯片頂峰的路。至于在商業(yè)化市場化方面并非首要考量。光刻技術(shù)有很多種，等離子激光、泰伯光學，全息，雙光子，光子能量疊加等技術(shù)。并且大多技術(shù)都有了商業(yè)成型設(shè)備，而等離子激光技術(shù)是中國首創(chuàng)出來的設(shè)備，所以技術(shù)很牛。簡單來說，很多路可以到達山頂，中國走了別人沒走過的路。并且走通了。綜合來看，這項技術(shù)實現(xiàn)了突破。至少獲得了和歐美技術(shù)交換的基礎(chǔ)，這是非常牛逼的。

5. 這項研究設(shè)備的研究人員有哪些

答：在這里，請記住幾個人的名字，杜春雷，羅先剛，胡松，葉甜春。沒有他們的引領(lǐng)，創(chuàng)造，堅持和支撐，就沒有取得成果的今天。還有那些在為中國半導(dǎo)體事業(yè)奮斗在一線的人們，致敬！

凡事不知真相，切忌亂噴。

中國這個***，嚴格來說和ASML不是一個東西。此項技術(shù)是打破光子衍射極限的原理性成就，理論上可以做到10nm、甚至3nm制程。

此技術(shù)，與ASML所走的路是不同的！ASML現(xiàn)在的技術(shù)相當于走盤山公路，慢慢翻山，而中國此次表面等離子激元聚光光刻蝕技術(shù)好比是定向挖隧道直達ASML想到目的地！你們說贊不贊？

表面等離子體激元聚焦技術(shù)，是一種突破了光刻衍射極限，的近場光學技術(shù)。

它通過光刻探針上的~小孔，將光刻光源，通過表面等離子體激元匯聚于探針尖端近場（超過近場距離，光又會分散開來），進行接觸式光刻！也不同于現(xiàn)有ASML***。

光推進納米制程（此次還只是SP光刻的技術(shù)原理驗證）也不能使中國芯片趕上國際巨頭，乃至彎道超車！必須掌握芯片內(nèi)核IP的完全自主知識產(chǎn)權(quán)才行！

華為的麒麟芯片，沒了ARM的內(nèi)核IP授權(quán)，就玩不轉(zhuǎn)！其他從AMD間接獲得的X86技術(shù)授權(quán)，也一樣！龍芯和申威，飛騰……還是有短板……

很多人只盯著新聞里 22nm 這個指標，其實大家要關(guān)注的是“365nm的光源，單次曝光線寬可達22nm”。

22nm 指標雖然很棒但是業(yè)界早就做過了，到底哪里厲害呢？所以關(guān)鍵是用 365nm 的光源單次曝光做到 22nm，懂點光學的就知道這意味著什么：打破了傳統(tǒng)的衍射極限。

所以在我看來，這臺機器最大的價值是驗證了表面等離子體（SP）光刻加工的可行性。

這臺 SP ***與 ASML ***對比怎么樣呢？舉個不恰當?shù)睦影?，這就像是初期的槍械與最厲害的弓箭的對比。早期槍械，比如火銃，無論是射擊精度還是射擊距離都遠遠比不上厲害的弓箭，但是如今的狙擊槍早已把弓箭甩開十萬八千里了，這就是原理性的勝利。

要理解剛才說的這個“原理性的勝利”到底是怎么回事，我們首先得回顧一下以 ASML 為代表的傳統(tǒng)***是怎么做的。

上面是 ASML ***簡單的原理圖，拋開復(fù)雜的監(jiān)測設(shè)備不談，最核心的原理就是通過物鏡系統(tǒng)將掩膜版上的圖案進行縮印成像。涉及到成像過程，就不得不考慮光的衍射極限。即便拋開所有的幾何像差，由于衍射的作用，一個無限小的點成像后也會變成一個彌散斑，被稱為“艾里斑”。因此實際光學系統(tǒng)成像的分辨率就是兩個艾里斑恰好能夠分開的距離。

所以由于衍射效應(yīng)，成像分辨率會受到限制，最終的分辨率取決于波長、數(shù)值孔徑等參數(shù)，波長越小、數(shù)值孔徑越大分辨率則越高。所以 ASML 這些年來主要的研究方向就是利用更短的波長（近紫外 - 深紫外 - 極紫外）、增大數(shù)值孔徑（更復(fù)雜的物鏡、液體浸沒）。但是每進一步都變得更加艱難，對系統(tǒng)設(shè)計、加工裝配、誤差檢測等等諸多方面都提出了更為苛刻的要求，成本也越來越高昂。

那么表面等離子體光刻又是怎么一回事呢？表面等離子體指的是一種局域在物質(zhì)表面的特殊的電磁波，隨著離開物質(zhì)表面距離的增大迅速衰減，一般認為波長量級以上的區(qū)域就不存在了。

更為神奇的是，雖然表面等離子體波是由其他電磁波激發(fā)的，但是波長會被極大地壓縮，而壓縮的比例取決于材料的電磁性質(zhì)等參數(shù)。

這就意味著，利用表面等離子體波進行光刻時，從原理上就不在受到傳統(tǒng)衍射極限的限制了。

在***研制方面，我們一直有兩個選擇：沿用 ASML 的老路走一遍，還是另辟蹊徑通過新原理彎道超車？我們國家很有錢，兩個選擇都在做。而這臺 SP ***的研制成功，就是讓我們看到了彎道超車的可能性。其實從原理上，這簡直就不是彎道超車了，而是在別的人還在繞山路的時候，我們嘗試著打了一條隧道……雖然還沒有完全挖通，但曙光就在眼前了。

這個裝備是我在的課題組主導(dǎo)研發(fā)的（但我沒做這個方向），從原理提出、項目立項到裝備最終驗收通過，前前后后有十幾年的時間。十幾年磨一劍，揮灑了許許多多的老師和師兄師姐的智慧、汗水與青春。

向他們致敬~

另外在知乎有個評價比較中肯。作者不允許轉(zhuǎn)載，小編提取下重點。這個新聞出來以后，輿論出現(xiàn)了兩個極端，一堆人說很牛，一堆人說吹牛。

說很牛的外行居多，說吹牛的業(yè)內(nèi)人士居多（但不是最專業(yè)的）。

實際上這兩種說法都對，又都不對。我來具體分析一下。

說很牛的，的確是世界級的工作，這一點毋庸置疑。

光刻技術(shù)有很多種，等離子激光、泰伯光學，全息，雙光子，光子能量疊加等技術(shù)。并且大多技術(shù)都有了商業(yè)成型設(shè)備，而等離子激光技術(shù)是中國首創(chuàng)出來的設(shè)備，所以技術(shù)很牛。簡單來說，很多路可以到達山頂，中國走了別人沒走過的路。并且走通了。綜合來看，這項技術(shù)實現(xiàn)了突破。至少獲得了和歐美技術(shù)交換的基礎(chǔ)，這是非常重要的。

有個細節(jié)請各位注意，這篇文章是軍報記者報道的，信息量很大。

不是直寫不是直寫不是直寫！

不能做IC不能做IC不能做IC!

批評的和贊的都別盲目，成果很好，但是和工業(yè)量產(chǎn)做IC的不是一回事兒。

胡松一個弟子是我的鐵哥們！以前只知道他稱他老板為“胡老板”。