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      電子發(fā)燒友網(wǎng)>今日頭條>華為何時(shí)能造出自己的芯片，光刻機(jī)是首要的解決問題

      華為何時(shí)能造出自己的芯片，光刻機(jī)是首要的解決問題

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      2024-03-09 00:15:002910

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      繞開EUV光刻，下一代納米壓印光刻技術(shù)從存儲(chǔ)領(lǐng)域開始突圍

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      2023-07-16 01:50:153007

      光刻機(jī)的發(fā)展歷程及工藝流程

      光刻機(jī)經(jīng)歷了5代產(chǎn)品發(fā)展，每次改進(jìn)和創(chuàng)新都顯著提升了光刻機(jī)所能實(shí)現(xiàn)的最小工藝節(jié)點(diǎn)。按照使用光源依次從g-line、i-line發(fā)展到KrF、ArF和EUV；按照工作原理依次從接觸接近式光刻機(jī)發(fā)展到浸沒步進(jìn)式投影光刻機(jī)和極紫外式光刻機(jī)。
      2024-03-21 11:31:4139

      芯片制造工藝：光學(xué)光刻-掩膜、光刻膠

      制造集成電路的大多數(shù)工藝區(qū)域要求100級(jí)（空氣中每立方米內(nèi)直徑大于等于0.5μm的塵埃粒子總數(shù)不超過約3500）潔凈室，在光刻區(qū)域，潔凈室要求10級(jí)或更高。
      2024-03-20 12:36:0056

      刻蝕機(jī)是干什么用的 刻蝕機(jī)和光刻機(jī)的區(qū)別

      刻蝕機(jī)的刻蝕過程和傳統(tǒng)的雕刻類似，先用光刻技術(shù)將圖形形狀和尺寸制成掩膜，再將掩膜與待加工物料模組裝好，將樣品置于刻蝕室內(nèi)，通過化學(xué)腐蝕或物理磨蝕等方式將待加工物料表面的非掩膜區(qū)域刻蝕掉，以得到所需的凹槽和溝槽。
      2024-03-11 15:38:24459

      原來安裝的KEIL可以用103系列單片機(jī)，為何打開32G431項(xiàng)目找不到芯片？

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      傳光刻機(jī)巨頭ASML要搬離荷蘭？

      據(jù)荷蘭《電訊報(bào)》3月6日報(bào)道，因荷蘭政府的反移民政策傾向，光刻機(jī)巨頭阿斯麥（ASML）正計(jì)劃搬離荷蘭。
      2024-03-08 14:02:15179

      淺談不同階段光刻機(jī)工作方式

      在曝光過程中，掩模版與涂覆有光刻膠的硅片直接接觸。接觸式光刻機(jī)的縮放比為1:1，分辨率可達(dá)到4-5微米。由于掩模和光刻膠膜層反復(fù)接觸和分離，隨著曝光次數(shù)的增加，會(huì)引起掩模版和光刻膠膜層損壞、芯片良率下降等不良后果。
      2024-03-08 10:42:3788

      傳光刻機(jī)巨頭ASML將離開荷蘭 荷蘭政府尋求挽留

      近日，光刻機(jī)巨頭ASML傳出可能因荷蘭政府的反移民政策傾向而考慮遷離本國的消息，這令業(yè)界嘩然。據(jù)悉，荷蘭政府為阻止這一可能發(fā)生的變故，已專門成立了由首相馬克·呂特親自掛帥的“貝多芬計(jì)劃”特別工作組。
      2024-03-07 15:36:51209

      英特爾成為全球首家購買3.8億美元高數(shù)值孔徑光刻機(jī)的廠商

      英特爾最近因決定從荷蘭 ASML 購買世界上第一臺(tái)高數(shù)值孔徑(High-NA)光刻機(jī)而成為新聞焦點(diǎn)。到目前為止，英特爾是全球唯一一家訂購此類光刻機(jī)的晶圓廠，據(jù)報(bào)道它們的售價(jià)約為3.8億美元
      2024-03-06 14:49:01161

      一文解析半導(dǎo)體設(shè)計(jì)電路的“光刻工藝”

      利用光刻機(jī)發(fā)出的光通過具有圖形的光罩對(duì)涂有光刻膠的薄片曝光，光刻膠見光后會(huì)發(fā)生性質(zhì)變化，從而使光罩上得圖形復(fù)印到薄片上，從而使薄片具有電子線路圖的作用。
      2024-03-06 14:28:5062

      ASML光刻機(jī)技術(shù)的領(lǐng)航者，挑戰(zhàn)與機(jī)遇并存

      ASML在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中扮演著舉足輕重的角色，其光刻機(jī)技術(shù)和市場地位對(duì)于全球半導(dǎo)體制造廠商來說都具有重要意義。
      2024-03-05 11:26:00123

      光刻膠和光刻機(jī)的區(qū)別

      光刻膠是一種涂覆在半導(dǎo)體器件表面的特殊液體材料，可以通過光刻機(jī)上的模板或掩模來進(jìn)行曝光。
      2024-03-04 17:19:18399

      再度虧損！鋰電正極何時(shí)能迎來拐點(diǎn)？

      四年后再現(xiàn)單季度虧損，鋰電正極何時(shí)能迎來拐點(diǎn)？
      2024-02-20 09:27:49271

      佳能預(yù)計(jì)到2024年出貨納米壓印光刻機(jī)

      來源：DIGITIMES ASIA 佳能預(yù)計(jì)其納米壓印光刻機(jī)將于今年出貨，與ASML的EVU設(shè)備競爭市場，因?yàn)槭澜绺鞯氐慕?jīng)濟(jì)體都熱衷于擴(kuò)大其本土芯片產(chǎn)能。 佳能董事長兼首席執(zhí)行官Hiroaki
      2024-02-01 15:42:05270

      光刻機(jī)結(jié)構(gòu)及IC制造工藝工作原理

      光刻機(jī)是微電子制造的關(guān)鍵設(shè)備，廣泛應(yīng)用于集成電路、平面顯示器、LED、MEMS等領(lǐng)域。在集成電路制造中，光刻機(jī)被用于制造芯片上的電路圖案。
      2024-01-29 09:37:24359

      ASML 2023年Q4 財(cái)報(bào)發(fā)布，光刻機(jī)訂單大增

      來源：AIot工業(yè)檢測，謝謝 編輯：感知芯視界 Link 隨著芯片需求的不斷增長，芯片制造商正加大采購晶圓廠設(shè)備的力度，以提高產(chǎn)能。作為EUV光刻機(jī)制造商，ASML受益于這一趨勢，其2023
      2024-01-26 09:20:12409

      教您如何精調(diào)出自己的領(lǐng)域大模型

      BERT和 GPT-3 等語言模型針對(duì)語言任務(wù)進(jìn)行了預(yù)訓(xùn)練。微調(diào)使它們適應(yīng)特定領(lǐng)域，如營銷、醫(yī)療保健、金融。在本指南中，您將了解 LLM 架構(gòu)、微調(diào)過程以及如何為 NLP 任務(wù)微調(diào)自己的預(yù)訓(xùn)練模型。
      2024-01-19 10:25:28342

      解析光刻芯片掩模的核心作用與設(shè)計(jì)

      掩模在芯片制造中起到“底片”的作用，是一類不可或缺的晶圓制造材料，在芯片封裝（構(gòu)筑芯片的外殼和與外部的連接)、平板顯示(TFT-LCD液晶屏和OLED屏〉、印刷電路板、微機(jī)電器件等用到光刻技術(shù)的領(lǐng)域也都能見到各種掩模的身影。
      2024-01-18 10:25:22145

      狂加工一年！ASML把欠中國的600億光刻機(jī)，成功交付了

      關(guān)于光刻機(jī)，大家還記得美國荷蘭日本的三方協(xié)議嗎？來回憶一下。 隨著芯片在各個(gè)領(lǐng)域的重要性不斷提升，人們對(duì)芯片制造的關(guān)注也日益增加。 但半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈非常復(fù)雜，不僅僅涉及到底層的架構(gòu)設(shè)計(jì)，還需要通過
      2024-01-17 17:56:59292

      荷蘭政府撤銷ASML光刻機(jī)出口許可 中方回應(yīng)美停止對(duì)華供光刻機(jī)

      在10-11月份中國進(jìn)口ASML的光刻機(jī)激增10多倍后，美國官員聯(lián)系了荷蘭政府。荷蘭外交發(fā)言人表示，出口許可證是根據(jù)荷蘭國家安全逐案評(píng)估的。
      2024-01-03 15:22:24553

      今日看點(diǎn)丨ASML聲明：2050及2100光刻機(jī)出口許可證已被部分撤銷；小鵬 X9 純電 MPV 上市：售價(jià) 35.98 萬元起

      1. ASML 聲明：2050 及2100 光刻機(jī)出口許可證已被部分撤銷 ? ASML日前發(fā)表聲明，稱荷蘭政府最近部分撤銷了此前頒發(fā)的NXT:2050i and NXT:2100i光刻機(jī)在2023
      2024-01-02 11:20:33934

      英特爾搶下6種ASML HIGH NA光刻機(jī)

      如果我們假設(shè)光刻機(jī)成本為 3.5 億至 4 億美元，并且 2024 年 10 個(gè)光刻機(jī)的HIGH NA 銷售額將在 35億至40億美元之間。
      2023-12-28 11:31:39406

      全面解析***結(jié)構(gòu)及工作原理

      光刻與光刻機(jī) ?對(duì)準(zhǔn)和曝光在光刻機(jī)(Lithography Tool)內(nèi)進(jìn)行。 ?其它工藝在涂膠顯影機(jī)(Track)上進(jìn)行。 光刻機(jī)結(jié)構(gòu)及工作原理 ?光刻機(jī)簡介 ?光刻機(jī)結(jié)構(gòu)及工作原理
      2023-12-19 09:28:00245

      詳解***結(jié)構(gòu)及工作原理

      歡迎了解 光刻機(jī)（Lithography Machine）是一種半導(dǎo)體工業(yè)中常用的設(shè)備，用于將掩模版上的芯片電路圖轉(zhuǎn)移到硅片上，是IC制造的核心環(huán)節(jié)，光刻機(jī)的基本工作原理是利用光學(xué)原理將圖案投射
      2023-12-18 08:42:12278

      iPhone17 Pro將采用臺(tái)積電2nm芯片！華為小米崛起，蘋果下滑！三星和ASML投資建立芯片研發(fā)機(jī)構(gòu)/熱點(diǎn)科技新聞點(diǎn)

      了下滑，華為、小米在高端市場份額上升。還有三星宣布和光刻機(jī)龍頭企業(yè)ASML共同投資建立芯片研發(fā)機(jī)構(gòu)。編輯對(duì)三條熱點(diǎn)新聞進(jìn)行點(diǎn)評(píng)。
      2023-12-13 10:37:471940

      光刻各環(huán)節(jié)對(duì)應(yīng)的不同模型種類

      光學(xué)模型是基于霍普金斯（Hopkins）光學(xué)成像理論，預(yù)先計(jì)算出透射相交系數(shù)（TCCs），從而描述光刻機(jī)的光學(xué)成像。光學(xué)模型中，經(jīng)過優(yōu)化的光源，通過光刻機(jī)的照明系統(tǒng)，照射在掩模上。如果在實(shí)際光刻
      2023-12-11 11:35:32287

      華為與哈工大聯(lián)合推出新型芯片技術(shù)

      芯片華為
      深圳市浮思特科技有限公司發(fā)布于 2023-12-07 17:58:10

      半導(dǎo)體制造之光刻工藝講解

      光刻工藝就是把芯片制作所需要的線路與功能做出來。利用光刻機(jī)發(fā)出的光通過具有圖形的光罩對(duì)涂有光刻膠的薄片曝光，光刻膠見光后會(huì)發(fā)生性質(zhì)變化，從而使光罩上得圖形復(fù)印到薄片上，從而使薄片具有電子線路圖的作用
      2023-12-04 09:17:241334

      全球主要晶圓廠制程節(jié)點(diǎn)技術(shù)路線圖

      雕刻電路圖案的核心制造設(shè)備是光刻機(jī)，它的精度決定了制程的精度。光刻機(jī)的運(yùn)作原理是先把設(shè)計(jì)好的芯片圖案印在掩膜上，用激光穿過掩膜和光學(xué)鏡片，將芯片圖案曝光在帶有光刻膠涂層的硅片上，涂層被激光照到之處則溶解，沒有被照到之處保持不變，掩膜上的圖案就被雕刻到芯片光刻膠涂層上。
      2023-11-24 12:27:061280

      三星希望進(jìn)口更多ASML EUV***，5年內(nèi)新增50臺(tái)

      EUV曝光是先進(jìn)制程芯片制造中最重要的部分，占據(jù)總時(shí)間、總成本的一半以上。由于這種光刻機(jī)極為復(fù)雜，因此ASML每年只能制造約60臺(tái)，而全球5家芯片制造商都依賴ASML的EUV光刻機(jī)，包括英特爾、美光、三星、SK海力士、臺(tái)積電。目前，AMSL約有70%的EUV光刻機(jī)被臺(tái)積電購買。
      2023-11-22 16:46:56383

      光刻膠黏度如何測量？光刻膠需要稀釋嗎？

      光刻膠在未曝光之前是一種黏性流體，不同種類的光刻膠具有不同的黏度。黏度是光刻膠的一項(xiàng)重要指標(biāo)。那么光刻膠的黏度為什么重要？黏度用什么表征？哪些光刻膠算高黏度，哪些算低黏度呢？
      2023-11-13 18:14:11570

      禁運(yùn)不斷加碼，ASML***中國銷量卻在飆升

      光刻是芯片制造的重要環(huán)節(jié)。以光源波長劃分，光刻機(jī)分為UV（紫外線）、DUV（深紫外線）、EUV（極紫外線），理論上7納米及以下的先進(jìn)芯片制程工藝只能通過EUV實(shí)現(xiàn)。
      2023-11-12 11:33:14627

      顛覆性技術(shù)!半導(dǎo)體行業(yè)再放大招!

      顛覆性技術(shù)!半導(dǎo)體行業(yè)再放大招! 近日，日本佳能官方發(fā)布 納米壓印(NIL)半導(dǎo)體制造設(shè)備 未來，或?qū)⑻娲鶤SML光刻機(jī) 成為更低成本的芯片制造設(shè)備! 要知道，半導(dǎo)體是目前全球經(jīng)濟(jì)的核心，在中國
      2023-11-08 15:57:14199

      美國對(duì)ASML出售***的政策變化一覽

      2020年時(shí)，ASML總裁還聲稱中國即使拿到設(shè)計(jì)圖紙也無法自制光刻機(jī)。但2021年開始，其態(tài)度出現(xiàn)變化，承認(rèn)中國有可能獨(dú)立制造光刻機(jī)系統(tǒng)。2022年甚至主動(dòng)表示要繼續(xù)向中國出售光刻機(jī)。2023年上半年，ASML開始大量向中國傾銷光刻機(jī)。
      2023-10-30 16:18:101124

      什么是EUV光刻？EUV與DUV光刻的區(qū)別

      EUV 光是指用于微芯片光刻的極紫外光，涉及在微芯片晶圓上涂上感光材料并小心地將其曝光。這會(huì)將圖案打印到晶圓上，用于微芯片設(shè)計(jì)過程中的后續(xù)步驟。
      2023-10-30 12:22:55615

      半導(dǎo)體制造領(lǐng)域光刻膠的作用和意義

      光刻是半導(dǎo)體加工中最重要的工藝之一，決定著芯片的性能。光刻占芯片制造時(shí)間的40%-50%，占其總成本的30%。光刻膠是光刻環(huán)節(jié)關(guān)鍵耗材，其質(zhì)量和性能與電子器件良品率、器件性能可靠性直接相關(guān)。
      2023-10-26 15:10:24359

      突破！打破國外壟斷，中國首款自主可控芯片光刻OPC軟件

      大家好，我是硬件花園，一名樂于分享的硬件工程師。關(guān)注我，了解更多精彩內(nèi)容！ 近日，華中科技大學(xué)劉世元教授團(tuán)隊(duì)成功打破國外壟斷，成功研發(fā)中國首款完全自主可控的OPC芯片光刻軟件。 沒有它，即使有光刻機(jī)
      2023-10-20 08:44:011482

      各種光刻技術(shù)你都了解嗎？

      當(dāng)制程節(jié)點(diǎn)演進(jìn)到5nm時(shí)，DUV和多重曝光技術(shù)的組合也難以滿足量產(chǎn)需求了，EUV光刻機(jī)就成為前道工序的必需品了，沒有它，很難制造出符合應(yīng)用需求的5nm芯片，即使不用EUV能制造出一些5nm芯片，其整個(gè)生產(chǎn)線的良率也非常低，無法形成大規(guī)模的商業(yè)化生產(chǎn)。
      2023-10-13 14:45:03834

      OpenAI正在探索制造自己的AI芯片

      openai的首席執(zhí)行官薩姆·奧爾特曼將收購更多的人工智能芯片作為公司的首要課題。他公開對(duì)圖像組合的不足表示不滿，nvidia掌握著最適合ai應(yīng)用程序的芯片市場的80%以上。
      2023-10-09 11:14:31422

      什么是PDK？它有何作用？

      大家都知道，芯片設(shè)計(jì)和生產(chǎn)是一個(gè)非常復(fù)雜的過程。光一臺(tái)生產(chǎn)芯片的光刻機(jī)就包含了約10萬個(gè)零部件。
      2023-10-07 11:20:2611546

      SMT鐳雕機(jī)_自動(dòng)在線激光刻印_全自動(dòng)翻板鐳雕機(jī)

      SMT鐳雕機(jī)_自動(dòng)在線激光刻印_全自動(dòng)翻板鐳雕機(jī)PCB在線激光鐳雕機(jī)，選用國際領(lǐng)先工業(yè)級(jí)激光器，加工速度快，使用壽命長， 可刻印漢字，英文、數(shù)字、圖表、流水號(hào)、LOGO、條形碼、二維碼等內(nèi)容
      2023-09-23 10:16:45

      仔細(xì)剖析一下五種UV***的區(qū)別及應(yīng)用場景

      UV光刻機(jī)一般可以分為5種，即：接觸式光刻機(jī)，接近式光刻機(jī)，掃描投影式光刻機(jī)
      2023-09-19 11:32:521302

      芯片封裝為什么要用到*** 封裝***與芯片***的區(qū)別

      在芯片制造過程中，光刻機(jī)用于在硅片上形成光刻膠圖形，作為制造電路的模板。光刻機(jī)使用紫外光或其他光源照射硅片上的光刻膠，并通過投影光學(xué)系統(tǒng)將圖形投射到硅片上，以形成所需的微小結(jié)構(gòu)和圖案。
      2023-09-12 14:34:372324

      華為5g芯片為何引發(fā)美國擔(dān)憂

      華為5g芯片為何引發(fā)美國擔(dān)憂大致原因是中國華為公司已經(jīng)成功研發(fā)出自己的5G芯片，華為開發(fā)的5G芯片被視為該公司在5G網(wǎng)絡(luò)建設(shè)方面的關(guān)鍵技術(shù)，這也使得這款芯片成為中美貿(mào)易戰(zhàn)中的一個(gè)焦點(diǎn)。 美國政府此前
      2023-09-05 10:20:561969

      具有鐵芯的P系列高推力直接驅(qū)動(dòng)直線伺服電機(jī)

      運(yùn)動(dòng)平臺(tái)如雙XY橋臺(tái)、雙驅(qū)動(dòng)龍門臺(tái)、空流平臺(tái)等。這些線性運(yùn)動(dòng)平臺(tái)也將用于光刻機(jī)、面板處理、測試機(jī)、印刷電路板鉆并機(jī)、高精度激光處理設(shè)備、基因序列儀、腦細(xì)胞成像儀和其他醫(yī)療設(shè)備。 高動(dòng)態(tài)響應(yīng) 低安裝高度 UL與CE認(rèn)證 持續(xù)推力范圍103N至 瞬間推力范圍289N至 安裝高度34mm,36mm
      2023-09-04 16:14:38

      EUV光刻：縮小的藝術(shù)，制程的新篇章

      制程工藝EUV光刻機(jī)
      北京中科同志科技股份有限公司發(fā)布于 2023-09-02 09:32:27

      為何華為P50系列采用5G芯片卻是4G手機(jī)？

      為何華為P50系列采用5G芯片卻是4G手機(jī)？? 隨著5G時(shí)代的到來，越來越多的手機(jī)在設(shè)計(jì)中采用了5G芯片，華為P50系列作為華為旗下的新品，也使用了5G芯片。但是，卻引起了許多人的疑惑，為何華為
      2023-09-01 16:12:462546

      高通為什么不賣芯片給華為？華為用高通的芯片嗎？

      高通為什么不賣芯片給華為？華為用高通的芯片嗎？ 作為全球領(lǐng)先的無線通信技術(shù)和芯片制造商，高通一直以來都是全球智能手機(jī)市場中的重要參與者。不過在近幾年的時(shí)間里，高通卻一直避免向華為銷售芯片，這讓許多人
      2023-09-01 15:45:542479

      高通已獲準(zhǔn)向華為出售5G芯片？

      高通已獲準(zhǔn)向華為出售5G芯片？? 在去年5月份，美國政府宣布禁令，禁止美國公司向華為出售芯片和其他相關(guān)技術(shù)。這一事件對(duì)華為的供應(yīng)鏈產(chǎn)生了巨大的沖擊。唯一的一家能夠?yàn)?b class="flag-6" style="color: red">華為提供芯片的公司是華為自己擁有
      2023-09-01 14:57:49894

      華為5g芯片是哪家公司生產(chǎn)的 華為5g芯片為什么受制于美國

      在5G領(lǐng)域的技術(shù)研發(fā)和標(biāo)準(zhǔn)制定方面處于全球領(lǐng)先地位，華為公司自主研發(fā)了多款5G芯片，包括高通驍龍、三星Exynos等公司的芯片，以及華為自己的麒麟5G芯片。其中，華為麒麟5G芯片屬于全球首款支持NSA/SA雙模組網(wǎng)的SoC芯片，可以為用戶提供更快、更
      2023-09-01 14:36:2511168

      華為5g芯片為什么受制于美國 華為5g芯片解決了嗎

      美國的高科技產(chǎn)品和技術(shù)，包括芯片技術(shù)。 　　華為手機(jī)的5G芯片主要由兩個(gè)廠商供應(yīng)，分別是高通和美光。然而，美國政府禁止高通和美光向華為提供關(guān)鍵芯片和技術(shù)，使得華為無法使用這些芯片和技術(shù)。但是，由于華為自己的芯片和技術(shù)還沒有完全成熟，無法替代高通和美光的芯片和技術(shù)，因此華為手機(jī)的5G功能受到了限制。
      2023-09-01 09:24:404426

      5g芯片是華為的嗎 華為5g芯片有哪些型號(hào)

      5g芯片是華為的嗎 華為5g芯片有哪些型號(hào)? 隨著5G技術(shù)的逐漸成熟，5G芯片成為各大科技企業(yè)關(guān)注的焦點(diǎn)之一。而華為作為中國最大的通訊設(shè)備制造商，其5G芯片在市場上備受關(guān)注。那么，5G芯片是華為
      2023-08-31 09:42:182038

      華為有5g的芯片嗎 華為5g芯片是自己研發(fā)的嗎 華為5g芯片的技術(shù)特點(diǎn)

      華為有5g的芯片嗎 華為5g芯片是自己研發(fā)的嗎 華為5g芯片的技術(shù)特點(diǎn)? 華為作為全球領(lǐng)先的通信技術(shù)企業(yè)，其研發(fā)的5G芯片早已經(jīng)在智能手機(jī)、網(wǎng)絡(luò)設(shè)備等多個(gè)領(lǐng)域得到廣泛應(yīng)用。華為自主設(shè)計(jì)和研發(fā)的5G
      2023-08-31 09:40:294102

      華為有自己的5g芯片嗎 華為5G芯片怎么樣

      華為有自己的5g芯片嗎 華為5G芯片怎么樣? 隨著5G技術(shù)的逐漸普及，越來越多的人開始關(guān)注5G芯片。而華為作為全球領(lǐng)先的電信設(shè)備供應(yīng)商之一，自然也成為了5G芯片的熱門話題之一。那么，華為有自己的5G
      2023-08-31 09:39:333964

      華為5g芯片叫什么名字 華為5g手機(jī)的芯片是國產(chǎn)嗎

      。作為5G技術(shù)的重要搶先實(shí)踐者，華為一直致力于與全球的合作伙伴一起為5G建設(shè)貢獻(xiàn)自己的力量。華為近年來為走在5G前端做出了巨大的貢獻(xiàn)，開發(fā)出了一系列5G相關(guān)的芯片，其中最著名的是華為5G芯片。 華為5G芯片又稱為巴龍5000芯片，是目前全球最為先進(jìn)的
      2023-08-31 09:38:171969

      解碼中國產(chǎn)***：為何研發(fā)之路如此崎嶇？

      光刻機(jī)是半導(dǎo)體制造行業(yè)的“心臟”，也是集成電路制造過程中不可或缺的關(guān)鍵設(shè)備。盡管國在半導(dǎo)體領(lǐng)域取得了顯著進(jìn)展，但在光刻機(jī)的自主研發(fā)方面仍面臨諸多挑戰(zhàn)。本文旨在分析國產(chǎn)光刻機(jī)研發(fā)中的幾大難點(diǎn)。
      2023-08-30 09:42:062095

      什么是光刻工藝？光刻的基本原理

      光刻是半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)流程中最復(fù)雜、最關(guān)鍵的工藝步驟，耗時(shí)長、成本高。半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)的難點(diǎn)和關(guān)鍵點(diǎn)在于將電路圖從掩模上轉(zhuǎn)移至硅片上，這一過程通過光刻來實(shí)現(xiàn)， 光刻的工藝水平直接決定芯片的制程水平和性能水平。
      2023-08-23 10:47:531578

      浸沒式光刻，拯救摩爾定律

      2000年代初，芯片行業(yè)一直致力于從193納米氟化氬（ArF）光源光刻技術(shù)過渡到157納米氟（F 2 ）光源光刻技術(shù)。
      2023-08-23 10:33:46798

      ASML如何能干掉兩個(gè)行業(yè)巨頭，進(jìn)而成為壟斷EUV領(lǐng)域的光刻巨人

      光刻機(jī)有半導(dǎo)體工業(yè)“皇冠上的明珠“之稱，是高速生產(chǎn)芯片所需要的最關(guān)鍵和最復(fù)雜的設(shè)備之一（一臺(tái)光刻機(jī)有10萬個(gè)組件）。目前全世界的高端光刻機(jī)被荷蘭公司ASML壟斷（中低端產(chǎn)品美國、日本和中國均能生產(chǎn)），而絕大部分的組件供應(yīng)商又被美國控制。
      2023-08-21 16:09:33472

      芯片制造的國產(chǎn)化任重道遠(yuǎn)

      芯片制造的國產(chǎn)化任重道遠(yuǎn)，比如在EDA工具的國產(chǎn)化、光刻機(jī)等，國產(chǎn)化都還有很長的路要走。有統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)顯示，目前階段我國在清洗、熱處理、去膠設(shè)備的國產(chǎn)化率分別達(dá)到34％、40％、90％，在涂膠顯影、刻蝕
      2023-08-09 11:50:204182

      EUV光刻DDR5內(nèi)存狂飆 單條1TB不是夢

      隨著制程工藝的進(jìn)步，DRAM內(nèi)存芯片也面臨著CPU/GPU一樣的微縮難題，解決辦法就是上EUV光刻機(jī)，但是設(shè)備實(shí)在太貴，現(xiàn)在還要榨干DUV工藝最后一滴，DDR5內(nèi)存有望實(shí)現(xiàn)單條1TB。
      2023-07-31 17:37:07875

      華為麥芒8屏幕摔了顯示一半，不要怕買個(gè)屏幕自己更換，省下400元

      華為
      學(xué)習(xí)電子知識(shí)發(fā)布于 2023-07-25 22:49:16

      EUV***市場：增長趨勢、競爭格局與前景展望

      EUV（Extreme Ultraviolet）光刻機(jī)是一種高級(jí)光刻設(shè)備，用于半導(dǎo)體制造業(yè)中的微電子芯片生產(chǎn)。EUV光刻機(jī)是目前最先進(jìn)的光刻技術(shù)之一，它采用極端紫外光作為曝光光源，具有更短的波長
      2023-07-24 18:19:471095

      深紫外光刻復(fù)雜照明光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì)

      摘要 ：隨著微電子產(chǎn)業(yè)的迅猛發(fā)展，我國迫切需要研制極大規(guī)模集成電路的加工設(shè)備-光刻機(jī)。曝光波長為193nm的投影式光刻機(jī)因其技術(shù)成熟、曝光線寬可延伸至32nm節(jié)點(diǎn)的優(yōu)勢已成為目前光刻領(lǐng)域的主流設(shè)備
      2023-07-17 11:02:38592

      ASML：沒向中國推出特別版***

      特別版的光刻機(jī)。 荷蘭政府的限制先進(jìn)半導(dǎo)體設(shè)備出口新規(guī)將于9月1日生效。這一事件引發(fā)了市場猜測ASML可能會(huì)發(fā)布其TWINSCAN NXT:1980系列DUV光刻工具的調(diào)整版，以減輕對(duì)中國芯片制造商的影響，并滿足荷蘭禁止向中國客戶出口28納米以下工藝制造的要求。 目前全球絕大
      2023-07-07 12:32:371112

      光刻掩膜版測溫儀，光刻機(jī)曝光光學(xué)系統(tǒng)測溫儀

      GK-1000光刻掩膜版測溫儀，光刻機(jī)曝光光學(xué)系統(tǒng)測溫儀光刻機(jī)是一種用于微納米加工的設(shè)備，主要用于制造集成電路、光電子器件、MEMS（微機(jī)電系統(tǒng)）等微細(xì)結(jié)構(gòu)。光刻機(jī)是一種光學(xué)投影技術(shù)，通過將光線通過
      2023-07-07 11:46:07

      ASML 將向中國推出“特供版”DUV ***；英偉達(dá)或?qū)⒉糠諥I GPU訂單外包三星

      半導(dǎo)體企業(yè)可以繼續(xù)使用荷蘭的設(shè)備生產(chǎn) 28 納米及更成熟工藝的芯片。 消息稱該特別版 DUV 光刻機(jī)基于 Twinscan NXT: 1980Di 光刻系統(tǒng)改造，而 1980Di 是 10?年前推出
      2023-07-06 16:45:01924

      荷蘭實(shí)施半導(dǎo)體出口管制 ASML***DUV系統(tǒng)需要許可證

      荷蘭實(shí)施半導(dǎo)體出口管制 ASML光刻機(jī)DUV系統(tǒng)需要許可證 芯片戰(zhàn)愈演愈烈。荷蘭正式實(shí)施半導(dǎo)體出口管制條款，這將對(duì)光刻機(jī)巨頭阿斯麥（ASML）產(chǎn)生更多影響。ASML的EUV光刻系統(tǒng)在此前已經(jīng)
      2023-07-01 17:38:19669

      ***技術(shù)有多難搞？我國***發(fā)展現(xiàn)狀

      搞光刻機(jī)必須要有搞核彈的精神，但只有這種精神是不夠的！光刻機(jī)畢竟不是核彈，光刻機(jī)從試驗(yàn)機(jī)改良成量產(chǎn)機(jī)，需要與產(chǎn)線相結(jié)合試驗(yàn)生產(chǎn)，這些步驟是不可能秘密進(jìn)行的。
      2023-06-27 15:50:0810752

      光刻中承上啟下的半導(dǎo)體掩膜版

      電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道（文/周凱揚(yáng)）在上游的半導(dǎo)體制造產(chǎn)業(yè)中，除了光刻機(jī)等設(shè)備外，光刻膠、掩膜版等材料也是決定晶圓質(zhì)量與良率的關(guān)鍵因素。就拿掩膜版來說，這個(gè)承載設(shè)計(jì)圖形的材料，經(jīng)過曝光后將圖形信息轉(zhuǎn)移到
      2023-06-22 01:27:001984

      GPT-4已經(jīng)會(huì)自己設(shè)計(jì)芯片了嗎？

      ? GPT-4已經(jīng)會(huì)自己設(shè)計(jì)芯片了！芯片設(shè)計(jì)行業(yè)的一個(gè)老大難問題HDL，已經(jīng)被GPT-4順利解決。并且，它設(shè)計(jì)的130nm芯片，已經(jīng)成功流片。 GPT-4，已經(jīng)可以幫人類造芯片了！ 只用簡單的英語
      2023-06-20 11:51:12547

      ASML無視美國禁令出貨400臺(tái)***

      因此光刻機(jī)對(duì)芯片制造非常重要，它是影響芯片制造質(zhì)量和效率的重要因素。縱觀全球光刻機(jī)市場，荷蘭ASML公司一家獨(dú)大，占據(jù)全球80%的光刻機(jī)市場份額，高端EUV光刻機(jī)的市占比更是達(dá)到100%。
      2023-06-20 11:42:271258

      超級(jí)全面！一文看懂***：MEMS傳感器及芯片制造的最核心設(shè)備

      文章大綱 光刻是芯片制造最核心環(huán)節(jié)，大陸自給率亟待提升 ·光刻機(jī)是芯片制造的核心設(shè)備，市場規(guī)模全球第二 ·一超兩強(qiáng)壟斷市場，大陸卡脖子現(xiàn)象凸顯 光刻機(jī)：多個(gè)先進(jìn)系統(tǒng)的組合，核心零部件被海外廠商壟斷
      2023-06-19 10:04:008364

      ASML***發(fā)展歷程 ***核心系統(tǒng)設(shè)計(jì)流程

      光刻機(jī)可分為前道光刻機(jī)和后道光刻機(jī)。光刻機(jī)既可以用在前道工藝，也可以用在后道工藝，前道光刻機(jī)用于芯片的制造，曝光工藝極其復(fù)雜，后道光刻機(jī)主要用于封裝測試，實(shí)現(xiàn)高性能的先進(jìn)封裝，技術(shù)難度相對(duì)較小。
      2023-06-15 11:14:533429

      芯片制造中人類科技之巔的設(shè)備---***

      光刻機(jī)是芯片制造中最復(fù)雜、最昂貴的設(shè)備。芯片制造可以包括多個(gè)工藝，如初步氧化、涂光刻膠、曝光、顯影、刻蝕、離子注入。這個(gè)過程需要用到的設(shè)備種類繁多，包括氧化爐、涂膠顯影機(jī)、光刻機(jī)、薄膜沉積設(shè)備、刻蝕
      2023-06-12 10:13:334452

      芯片制造之光刻工藝詳細(xì)流程圖

      光刻機(jī)可分為前道光刻機(jī)和后道光刻機(jī)。光刻機(jī)既可以用在前道工藝，也可以用在后道工藝，前道光刻機(jī)用于芯片的制造，曝光工藝極其復(fù)雜，后道光刻機(jī)主要用于封裝測試，實(shí)現(xiàn)高性能的先進(jìn)封裝，技術(shù)難度相對(duì)較小。
      2023-06-09 10:49:205857

      極紫外光刻隨機(jī)效應(yīng)的表現(xiàn)及產(chǎn)生原因

      夠高同樣以3400B來說，該EUV光刻機(jī)的生產(chǎn)效率是每小時(shí)125片晶圓，還不到DUV光刻機(jī)生產(chǎn)效率的一半。 　　隨機(jī)效應(yīng)嚴(yán)重DUV時(shí)代就存在，但對(duì)芯片制造影響不大，因此被芯片代工廠忽略。但在EUV時(shí)代，該問題開始嚴(yán)重影響芯片的良率，隨芯片工藝尺寸越來越小，隨機(jī)效應(yīng)越發(fā)明顯
      2023-06-08 15:56:42283

      【熱點(diǎn)】2023年了，我國***發(fā)展怎么樣了？

      。因此，如果芯片廠商想要生產(chǎn)10nm以下的芯片，必須得有ASML供應(yīng)的EUV光刻機(jī)及相應(yīng)的支持服務(wù)。目前最先進(jìn)的EUV光刻機(jī)能制造小于7nm制程的芯片，每臺(tái)能賣到
      2023-06-08 14:55:0020068

      芯片制造光刻步驟詳解

      芯片前道制造可以劃分為七個(gè)環(huán)節(jié)，即沉積、涂膠、光刻、去膠、烘烤、刻蝕、離子注入。
      2023-06-08 10:57:093765

      2023年Q1全球芯片市場分析 芯片行業(yè)何時(shí)走出“寒冬”？

      2023年第一季度全球芯片銷售額為1195 億美元，環(huán)比下降8.7%，同比下降了21.3%。那么，芯片行業(yè)的“寒風(fēng)”還會(huì)吹多久？芯片行業(yè)何時(shí)走出“寒冬”？
      2023-06-08 10:52:511068

      首個(gè)量子芯片生產(chǎn)線獲“超視力”

      由于美國的干涉，asml的極紫外線光刻機(jī)無法出口到中國，甚至深度紫外線光刻機(jī)也受到了限制。很明顯，美國不會(huì)放松對(duì) EUV光刻機(jī)的出口限制。
      2023-06-01 10:43:441552

      樂趣探索不一樣的計(jì)算光刻

      之前的小講堂有介紹過，光刻過程就好比用照相機(jī)拍照，將掩模版上的芯片設(shè)計(jì)版圖曝光到晶圓上，從而制造出微小的電路結(jié)構(gòu)。ASML光刻機(jī)的鏡片組使用極其精密的加工手段制造，使得最終像差被控制在納米級(jí)別，才能穩(wěn)定地通過曝光印刷微電路。
      2023-05-25 10:13:28497

      什么是EUV***？

      需要明確什么是EUV光刻機(jī)。它是一種采用極紫外線光源進(jìn)行曝光的設(shè)備。與傳統(tǒng)的ArF光刻機(jī)相比，EUV光刻機(jī)可以將曝光分辨率提高到7納米以下的超高級(jí)別，從而實(shí)現(xiàn)更高清晰度和更高性能的芯片制造。
      2023-05-22 12:48:373985

      專家稱***只占20%芯片制造：并非最重要的

      不僅是國內(nèi)的網(wǎng)友這么認(rèn)為，唯光刻機(jī)論在海外也很有市場，似乎大部分網(wǎng)友都是這樣想的，已經(jīng)到了神化ASML的地步了，只要提到芯片制造就會(huì)強(qiáng)調(diào)光刻機(jī)會(huì)卡脖子，而有了光刻機(jī)，臺(tái)積電這樣的公司就能隨便復(fù)制一樣。
      2023-05-15 11:10:271112

      一文講透光刻膠及芯片制造關(guān)鍵技術(shù)

      在集成電路制造領(lǐng)域，如果說光刻機(jī)是推動(dòng)制程技術(shù)進(jìn)步的“引擎”，光刻膠就是這部“引擎”的“燃料”。
      2023-05-13 11:28:381119

      2023年中國***現(xiàn)狀

      2023年中國光刻機(jī)現(xiàn)狀是什么樣的呢？自從2018年以來，我國開始被美國各種手段制裁，光刻機(jī)被卡脖子，美國不讓荷蘭賣先進(jìn)的光刻機(jī)給我們，這也讓這些年來無數(shù)國人關(guān)注光刻機(jī)的研發(fā)進(jìn)度。
      2023-05-10 16:24:1521220

      NVIDIA H100 GPU為2nm芯片加速計(jì)算光刻！

      現(xiàn)代工藝技術(shù)將晶圓廠設(shè)備要求推向極限，需要實(shí)現(xiàn)突破其物理極限的高分辨率，這正是計(jì)算光刻技術(shù)發(fā)揮作用的地方。計(jì)算光刻就是為芯片生產(chǎn)制作光掩模的技術(shù)，它結(jié)合來自ASML設(shè)備和測試晶圓的關(guān)鍵數(shù)據(jù)，是一個(gè)模擬生產(chǎn)過程的算法。
      2023-04-26 10:05:29918

      淺談光刻技術(shù)

      在整個(gè)芯片制造過程中，幾乎每一道工序的實(shí)施都離不開光刻技術(shù)。光刻技術(shù)也是制造芯片最關(guān)鍵的技術(shù)，占芯片制造成本的35%以上。
      2023-04-26 08:57:031033

      光刻技術(shù)的原理及發(fā)展前景分析

      光刻就是把芯片制作所需要的線路與功能區(qū)做出來。利用光刻機(jī)發(fā)出的光通過具有圖形的光罩對(duì)涂有光刻膠的薄片曝光，光刻膠見光后會(huì)發(fā)生性質(zhì)變化，從而使光罩上得圖形復(fù)印到薄片上，從而使薄片具有電子線路圖的作用
      2023-04-25 11:05:322260

      計(jì)算光刻技術(shù)有多重要？計(jì)算光刻如何改變2nm芯片制造？

      光刻是在晶圓上創(chuàng)建圖案的過程，是芯片制造過程的起始階段，包括兩個(gè)階段——光掩膜制造和圖案投影。
      2023-04-25 09:22:16696

      負(fù)光刻膠顯影殘留原因

      151n光刻膠曝光顯影后開口底部都會(huì)有一撮殘留，找不到原因。各位幫分析下
      2023-04-20 13:13:52

      別再只盯著***了！自動(dòng)化測試對(duì)于芯片制造同樣重要

      行業(yè)調(diào)研數(shù)據(jù)顯示，芯片行業(yè)的產(chǎn)值和營收一直在不斷提高，同時(shí)其地位受到大眾的關(guān)注。光刻機(jī)在芯片領(lǐng)域當(dāng)然獨(dú)占鰲頭，但一顆芯片的成功不只取決于光刻部分，測試對(duì)芯片的質(zhì)量更有不容忽視的意義。不論是更小尺寸
      2023-04-14 09:48:15686

      中國能不能造出頂級(jí)***

      光刻機(jī)是半導(dǎo)體工業(yè)中非常重要的設(shè)備，用于在半導(dǎo)體芯片制造過程中將芯片圖形化。由于光刻機(jī)的精度和性能要求非常高，其制造難度也相對(duì)較大，目前市場上僅有少數(shù)幾家公司能夠生產(chǎn)出頂級(jí)光刻機(jī)。那么，中國能否造出頂級(jí)光刻機(jī)呢？
      2023-04-07 13:35:244597

      音圈電機(jī)模組在主流光刻掩模臺(tái)系統(tǒng)中的應(yīng)用

      光刻機(jī)是芯片智造的核心設(shè)備之一，也是當(dāng)下尤為復(fù)雜的精密儀器之一。正因?yàn)榇?，荷蘭光刻機(jī)智造商阿斯麥通研制的EUV光刻機(jī)才會(huì)“千金難求”。 很多人都對(duì)光刻機(jī)有所耳聞，但其實(shí)不同光刻機(jī)的用途并不
      2023-04-06 08:56:49679

      快訊：華為2023年全面驗(yàn)證14nm以上EDA 美國芯片法案限制細(xì)則公布

      設(shè)計(jì)EDA工具團(tuán)隊(duì)聯(lián)合國內(nèi)EDA企業(yè)，共同打造了14nm以上工藝所需EDA工具，基本實(shí)現(xiàn)了14nm以上EDA工具國產(chǎn)化，預(yù)計(jì)2023年將完成對(duì)其全面驗(yàn)證。 此外，華為的MetaERP將會(huì)完全用自己的操作系統(tǒng)、數(shù)據(jù)庫、編譯器和語言，做出自己的管理系統(tǒng)MetaERP軟件。 美國芯片法案限制
      2023-03-27 16:27:184778

      被卡脖子的半導(dǎo)體設(shè)備（萬字深度報(bào)告）

      光刻是將設(shè)計(jì)好的電路圖從掩膜版轉(zhuǎn)印到晶圓表面的光刻膠上，通過曝光、顯影將目標(biāo)圖形印刻到特定材料上的技術(shù)。光刻工藝包括三個(gè)核心流程：涂膠、對(duì)準(zhǔn)和曝光以及光刻膠顯影，整個(gè)過程涉及光刻機(jī)，涂膠顯影機(jī)、量測設(shè)備以及清洗設(shè)備等多種核心設(shè)備，其中價(jià)值量最大且技術(shù)壁壘最高的部分就是光刻機(jī)。
      2023-03-25 09:32:394950

      GTC 2023 NVIDIA將加速計(jì)算引入半導(dǎo)體光刻 計(jì)算光刻技術(shù)提速40倍

      為2nm及更先進(jìn)芯片的生產(chǎn)提供更強(qiáng)大的助力。 計(jì)算光刻是芯片設(shè)計(jì)和制造領(lǐng)域中最大的計(jì)算工作負(fù)載，每年消耗數(shù)百億CPU小時(shí)。而NVIDIA cuLitho計(jì)算光刻庫利用GPU技術(shù)實(shí)現(xiàn)計(jì)算光刻，可以極大的降低功耗、節(jié)省時(shí)間。 目前臺(tái)積電、光刻機(jī)制造商阿斯麥，以及EDA巨頭新思科技都已經(jīng)導(dǎo)入
      2023-03-23 18:55:377488

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