濕式清洗工藝在半導(dǎo)體制造中的重要作用

摘要

半導(dǎo)體行業(yè)的研究人員研究了臭氧對(duì)wafer-cleaning的應(yīng)用程序。來(lái) 降低化學(xué)品消耗，降低成本，提高清洗效率，對(duì)臭氧進(jìn)行了研究作為一種替代，傳統(tǒng)的硫酸-過(guò)氧化氫 RCA用堿性(SC-1)和酸性來(lái)清洗。它是 (SC-2)過(guò)氧化氫混合物這是因?yàn)橄净顒?dòng)產(chǎn)生的多重影響。

圖1:三步ACD原理圖清洗系統(tǒng)配置

DIO3可降解有機(jī)物污染

濕式清洗工藝在半導(dǎo)體制造中的重要作用

圖2:三種清潔工藝后典型的殘余金屬表面濃度在硅片上:在HF/O3干燥器中一步的過(guò)程，修改的RCA清潔，和一個(gè)堿性蝕刻

尋找一個(gè)替代 RCA清洗

濕式清洗工藝在半導(dǎo)體制造中的重要作用

圖3:三種類(lèi)型的CMOS器件的跨導(dǎo)數(shù)據(jù)(a)和飽和電流數(shù)據(jù)(b)

結(jié)論

濕式清洗工藝將繼續(xù)發(fā)揮作用在半導(dǎo)體制造中扮演著重要的角色晶圓結(jié)構(gòu)的復(fù)雜性增加。在可靠的臭氧產(chǎn)生系統(tǒng)發(fā)展，使臭氧牽引替代傳統(tǒng)的濕清洗和pho抵抗去除方法。臭氧/水清潔產(chǎn)品更便宜，更環(huán)保。
　　審核編輯：湯梓紅

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半導(dǎo)體(200956) 半導(dǎo)體(200956)
晶圓(126258) 晶圓(126258)
工藝(28544) 工藝(28544)

評(píng)論

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濕法腐蝕在半導(dǎo)體工藝里面占有很重要的一塊。不懂化學(xué)的芯片工程師是做不好芯片工藝的。

2023-08-30 10:09:04

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半導(dǎo)體制造工藝流程有哪些

聽(tīng)過(guò)“Faless、流片、MPW、CP……”嗎？如果你的反應(yīng)是“哇，這是什么高深莫測(cè)的學(xué)問(wèn)？”那打開(kāi)這篇文章，你就撿到寶了！半導(dǎo)體行業(yè)，一個(gè)充滿(mǎn)魔法和奧秘的世界，每天都在創(chuàng)造讓你手機(jī)更炫、電腦更快

2023-08-30 09:42:24

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半導(dǎo)體封測(cè)設(shè)備有哪些半導(dǎo)體制造流程詳解

半導(dǎo)體行業(yè)呈現(xiàn)垂直化分工格局，上游包括半導(dǎo)體材料、半導(dǎo)體制造設(shè)備等；中游為半導(dǎo)體生產(chǎn)，具體可劃分為芯片設(shè)計(jì)、晶圓制造、封裝測(cè)試；半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)下游為各類(lèi)終端應(yīng)用。

2023-08-29 09:48:35

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半導(dǎo)體區(qū)別于導(dǎo)體的重要特征

半導(dǎo)體區(qū)別于導(dǎo)體的重要特征? 半導(dǎo)體和導(dǎo)體是電子領(lǐng)域中的兩個(gè)重要概念，它們雖然有些相似，但是在性質(zhì)、應(yīng)用和制造過(guò)程等方面都有重要的區(qū)別。本文將詳細(xì)介紹半導(dǎo)體與導(dǎo)體的重要特征，以及它們之間的區(qū)別

2023-08-27 15:55:12

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半導(dǎo)體制冷器的五個(gè)系列及應(yīng)用簡(jiǎn)介

半導(dǎo)體制冷器也叫半導(dǎo)體制冷模組、半導(dǎo)體熱電制冷模組、熱電制冷模塊，熱電制冷器等。它是由半導(dǎo)體制冷片及其兩側(cè)添加傳熱結(jié)構(gòu)組合而成的溫控器件。半導(dǎo)體制冷器兩側(cè)的傳熱結(jié)構(gòu)將制冷片冷面的制冷量與被冷卻空間

2023-08-25 17:58:42

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半導(dǎo)體制造工藝之光刻工藝詳解

半導(dǎo)體制造工藝之光刻工藝詳解

2023-08-24 10:38:54

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半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備市場(chǎng) 2023-2030分析

半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備市場(chǎng)-概況 半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備用于去除晶圓表面的顆粒、污染物和其他雜質(zhì)。清潔后的表面有助于提高半導(dǎo)體器件的產(chǎn)量和性能。市場(chǎng)上有各種類(lèi)型的半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備。一些流行的設(shè)備類(lèi)型包括

2023-08-22 15:08:00

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半導(dǎo)體清洗除塵，是芯片制造的重要環(huán)節(jié)

早些時(shí)期半導(dǎo)體常使用濕式清洗除塵方法，濕式清洗除塵通常使用超純水或者化學(xué)藥水來(lái)清洗除塵，優(yōu)點(diǎn)就是價(jià)格低廉，缺點(diǎn)是有時(shí)化學(xué)藥水或者超純水會(huì)把產(chǎn)品損害。隨著科技技術(shù)的進(jìn)步，人們對(duì)半導(dǎo)體的清洗除塵要求越來(lái)越高，不僅要保證產(chǎn)品的良率達(dá)到一定的標(biāo)準(zhǔn)，還需要清洗除塵的程度達(dá)到不錯(cuò)的水平

2023-08-22 10:54:45

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銅在半導(dǎo)體領(lǐng)域的應(yīng)用

半導(dǎo)體技術(shù)在當(dāng)今社會(huì)已成為高科技產(chǎn)品的核心，而在半導(dǎo)體制造的各個(gè)環(huán)節(jié)中，銅憑借其出色的性能特點(diǎn)，已成為眾多工藝應(yīng)用的關(guān)鍵材料。在半導(dǎo)體領(lǐng)域中，銅主要被用于制造互連線(xiàn)路。在傳統(tǒng)的互連制造中，銅通常被用作通過(guò)化學(xué)氣相淀積（CVD）或物理氣相沉積（PVD）技術(shù)沉積在金屬膜上。

2023-08-19 11:41:15

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智能制造中工時(shí)分析的重要作用及制造業(yè)實(shí)現(xiàn)智能制造轉(zhuǎn)型的關(guān)鍵

中的重要作用，并探討制造業(yè)如何實(shí)現(xiàn)智能制造的轉(zhuǎn)型。首先，工時(shí)分析在智能制造中發(fā)揮著優(yōu)化生產(chǎn)效率的重要作用。通過(guò)對(duì)制造過(guò)程中涉及的各個(gè)環(huán)節(jié)和工序進(jìn)行工時(shí)計(jì)算和分析，企業(yè)可以更準(zhǔn)確地評(píng)估每個(gè)任務(wù)所需的時(shí)間和資源。這有

2023-08-15 14:56:39

494

半導(dǎo)體制造工藝解析

WCMP是電子束檢測(cè)應(yīng)用最重要的一層，這一層的功能主要體現(xiàn)在：可以使工程師遇到器件的漏電和接觸不良問(wèn)題。EBI的應(yīng)用可以幫助提升成品率，減少半導(dǎo)體ict技術(shù)開(kāi)發(fā)的周期，并縮短提高成品率所需的時(shí)間。

2023-08-11 10:02:32

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半導(dǎo)體制造中的清洗工藝技術(shù)改進(jìn)方法

隨著晶體管尺寸的不斷微縮，晶圓制造工藝日益復(fù)雜，對(duì)半導(dǎo)體濕法清洗技術(shù)的要求也越來(lái)越高。

2023-08-01 10:01:56

1639

板對(duì)板連接器的重要作用

科學(xué)成就是由一點(diǎn)一滴積累起來(lái)的，惟有長(zhǎng)期的積聚才能由點(diǎn)滴匯成大海?！A羅庚板對(duì)板連接器的重要作用板對(duì)板連接器是必不可少的微型耦合插頭和插座。連接器的引腳可以直接連接電路板(PCB)之間的電源和信號(hào)

2023-07-31 22:13:35

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半導(dǎo)體后端工藝：了解半導(dǎo)體測(cè)試（上）

半導(dǎo)體制作工藝可分為前端和后端：前端主要是晶圓制作和光刻（在晶圓上繪制電路）；后端主要是芯片的封裝。

2023-07-24 15:46:05

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淺談激光器在半導(dǎo)體制造中的作用

半導(dǎo)體是醫(yī)療設(shè)備內(nèi)部工作的一個(gè)組成部分，有助于非導(dǎo)體和導(dǎo)體之間的導(dǎo)電性以控制電流。反過(guò)來(lái)，制造完美半導(dǎo)體的組裝過(guò)程非常詳細(xì)，尤其是現(xiàn)在設(shè)備變得越來(lái)越小。

2023-07-15 09:40:52

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ALD是什么？半導(dǎo)體制造的基本流程

在半導(dǎo)體制造過(guò)程中，每個(gè)半導(dǎo)體元件的產(chǎn)品都需要經(jīng)過(guò)數(shù)百道工序。這些工序包括前道工藝和后道工藝，前道工藝是整個(gè)制造過(guò)程中最為重要的部分，它關(guān)系到半導(dǎo)體芯片的基本結(jié)構(gòu)和特性的形成，涉及晶圓制造、沉積、光刻、刻蝕等步驟，技術(shù)難點(diǎn)多，操作復(fù)雜。

2023-07-11 11:25:55

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如何使用半導(dǎo)體制造二極管？

　二極管是最簡(jiǎn)單的半導(dǎo)體器件，在本文中，我們將了解什么是半導(dǎo)體、摻雜的工作原理以及如何使用半導(dǎo)體制造二極管。但首先，讓我們仔細(xì)看看硅。硅是一種非常常見(jiàn)的元素，是沙子和石英中的主要元素。如果在元素周期表中查找“硅”，會(huì)發(fā)現(xiàn)它位于鋁旁邊，低于碳，高于鍺。

2023-07-06 11:13:55

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【博捷芯】國(guó)產(chǎn)劃片機(jī)開(kāi)創(chuàng)了半導(dǎo)體芯片切割的新工藝時(shí)代

國(guó)產(chǎn)劃片機(jī)確實(shí)開(kāi)創(chuàng)了半導(dǎo)體芯片切割的新工藝時(shí)代。劃片機(jī)是一種用于切割和劃分半導(dǎo)體芯片的設(shè)備，它是半導(dǎo)體制造過(guò)程中非常重要的一環(huán)。在過(guò)去，劃片機(jī)技術(shù)一直被國(guó)外廠(chǎng)商所壟斷，國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體制造企業(yè)不得不

2023-07-03 17:51:46

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東芝開(kāi)始建設(shè)300mm晶圓功率半導(dǎo)體制造工廠(chǎng)

Electronics Corporation）開(kāi)工新建一家300晶圓功率半導(dǎo)體制造工廠(chǎng)。該功率半導(dǎo)體制造工廠(chǎng)的建造將分兩個(gè)階段進(jìn)行，一期工程計(jì)劃于2024財(cái)年內(nèi)投產(chǎn)。東芝還將在新工廠(chǎng)附近建造一棟辦公樓，以滿(mǎn)足增員需求。新工廠(chǎng)將具有抗震結(jié)構(gòu)和業(yè)務(wù)連續(xù)性計(jì)劃（BCP）

2023-06-29 17:45:02

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半導(dǎo)體前端工藝之沉積工藝

在前幾篇文章（點(diǎn)擊查看），我們一直在借用餅干烘焙過(guò)程來(lái)形象地說(shuō)明半導(dǎo)體制程。在上一篇我們說(shuō)到，為制作巧克力夾心，需通過(guò)“刻蝕工藝”挖出餅干的中間部分，然后倒入巧克力糖漿，再蓋上一層餅干層?！暗谷肭煽肆μ菨{”和“蓋上餅干層”的過(guò)程在半導(dǎo)體制程中就相當(dāng)于“沉積工藝”。

2023-06-29 16:56:17

830

半導(dǎo)體行業(yè)關(guān)鍵技術(shù)ALD：這家公司是龍頭！

2023-06-28 16:54:06

1259

淺談半導(dǎo)體制造中的刻蝕工藝

在上一篇文章，我們介紹了光刻工藝，即利用光罩(掩膜)把設(shè)計(jì)好的電路圖形繪制在涂覆了光刻膠的晶圓表面上。下一步，將在晶圓上進(jìn)行刻蝕工藝，以去除不必要的材料，只保留所需的圖形。

2023-06-28 10:04:58

843

半導(dǎo)體前端工藝：刻蝕——有選擇性地刻蝕材料，以創(chuàng)建所需圖形

2023-06-15 17:51:57

1177

半導(dǎo)體制造光刻工藝制作流程

金屬-氧化物半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)晶體管（MOSFET）的革命，讓我們可以在相同面積的晶圓上同時(shí)制造出更多晶體管。MOSFET體積越小，單個(gè) MOSFET的耗電量就越少，還可以制造出更多的晶體管，讓其發(fā)揮作用，可謂是一舉多得。

2023-06-13 12:29:09

596

半導(dǎo)體制冷器應(yīng)用--半導(dǎo)體冷凍治療儀

半導(dǎo)體冷凍治療儀利用半導(dǎo)體制冷組件產(chǎn)生的低溫來(lái)治療疾病，是近年來(lái)發(fā)展較快的物理治療設(shè)備。它具有溫控精確、功耗低、體積小等優(yōu)點(diǎn)，在康復(fù)治療領(lǐng)域有廣闊的應(yīng)用前景。半導(dǎo)體冷凍治療儀包括治療儀本體、半導(dǎo)體制

2023-06-12 09:29:18

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博捷芯劃片機(jī)半導(dǎo)體封裝的作用、工藝及演變

半導(dǎo)體封裝是芯片封裝的過(guò)程，其作用包括安裝、固定、密封、保護(hù)芯片和增強(qiáng)電熱性能。這個(gè)過(guò)程始于將晶圓分離成單個(gè)的芯片，這可以通過(guò)劃片法或鋸片法實(shí)現(xiàn)。劃片機(jī)是使用刀片或通過(guò)激光等方式高精度切割被加工

2023-06-09 15:03:24

629

揭秘半導(dǎo)體制程：8寸晶圓與5nm工藝的魅力與挑戰(zhàn)

在探討半導(dǎo)體行業(yè)時(shí)，我們經(jīng)常會(huì)聽(tīng)到兩個(gè)概念：晶圓尺寸和工藝節(jié)點(diǎn)。本文將為您解析8寸晶圓以及5nm工藝這兩個(gè)重要的概念。

2023-06-06 10:44:00

1423

博捷芯:晶圓切割提升晶圓工藝制程，國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體劃片機(jī)解決方案

晶圓切割是半導(dǎo)體制造中的關(guān)鍵環(huán)節(jié)之一。提升晶圓工藝制程需要綜合考慮多個(gè)方面，包括切割效率、切割質(zhì)量、設(shè)備性能等。針對(duì)這些問(wèn)題，國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體劃片機(jī)解決方案可以提供一些幫助。首先，在切割效率方面，國(guó)產(chǎn)

2023-06-05 15:30:44

7568

臭氧清洗系統(tǒng)的制備及其在硅晶片清洗中的應(yīng)用

在半導(dǎo)體和太陽(yáng)能電池制造過(guò)程中，清洗晶圓的技術(shù)的提升是為了制造高質(zhì)量產(chǎn)品。目前已經(jīng)有多種濕法清洗晶圓的技術(shù)，如離子水清洗、超聲波清洗、低壓等離子和機(jī)械方法。由于濕法工藝一般需要使用含有有害化學(xué)物質(zhì)的酸和堿溶液，會(huì)產(chǎn)生大量廢水，因此存在廢物處理成本和環(huán)境監(jiān)管等問(wèn)題。

2023-06-02 13:33:21

1021

半導(dǎo)體工藝與制造裝備技術(shù)發(fā)展趨勢(shì)

摘要：針對(duì)半導(dǎo)體工藝與制造裝備的發(fā)展趨勢(shì)進(jìn)行了綜述和展望。首先從支撐電子信息技術(shù)發(fā)展的角度，分析半導(dǎo)體工藝與制造裝備的總體發(fā)展趨勢(shì)，重點(diǎn)介紹集成電路工藝設(shè)備、分立器件工藝設(shè)備等細(xì)分領(lǐng)域的技術(shù)發(fā)展態(tài)勢(shì)和主要技術(shù)挑戰(zhàn)。

2023-05-23 15:23:47

974

碳化硅賦能更為智能的半導(dǎo)體制造/工藝電源模塊

功率密度和靈活性便是 Wolfspeed 和 Astrodyne TDI（ATDI）合作的原因，雙方一同挖掘 SiC 技術(shù)的優(yōu)勢(shì)，以滿(mǎn)足現(xiàn)代半導(dǎo)體制造/工藝設(shè)備的多種電源需求。我們攜手使用 SiC

2023-05-20 15:46:51

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SiC賦能更為智能的半導(dǎo)體制造/工藝電源

半導(dǎo)體器件的制造流程包含數(shù)個(gè)截然不同的精密步驟。無(wú)論是前道工藝還是后道工藝，半導(dǎo)體制造設(shè)備的電源都非常重要。

2023-05-19 15:39:04

478

半導(dǎo)體工藝之氣相外延介紹

在半導(dǎo)體科學(xué)技術(shù)的發(fā)展中，氣相外延發(fā)揮了重要作用，該技術(shù)已廣泛用于Si半導(dǎo)體器件和集成電路的工業(yè)化生產(chǎn)。

2023-05-19 09:06:46

2464

半導(dǎo)體封裝技術(shù)研究

本文以半導(dǎo)體封裝技術(shù)為研究對(duì)象，在論述半導(dǎo)體封裝技術(shù)及其重要作用的基礎(chǔ)上，探究了現(xiàn)階段半導(dǎo)體封裝技術(shù)的芯片保護(hù)、電氣功能實(shí)現(xiàn)、通用性、封裝界面標(biāo)準(zhǔn)化、散熱冷卻功能等諸多發(fā)展趨勢(shì)，深入研究了半導(dǎo)體前端

2023-05-16 10:06:00

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虹科分享 | 半導(dǎo)體制造工藝中的虹科光源解決方案（2）

結(jié) 構(gòu)。得益于LED的技術(shù)優(yōu)勢(shì)和成本優(yōu)勢(shì)，半導(dǎo)體制造領(lǐng)域正在擺脫長(zhǎng)期以來(lái)的傳統(tǒng)放電汞燈技術(shù)，進(jìn)而選擇 UVLED技術(shù) 作為一種理想解決方案。虹科UVLED紫外光源提供穩(wěn)定且超高功率的UV輻射輸出，最高輸出功率可達(dá)80W ，具有長(zhǎng)壽命和成本優(yōu)勢(shì)，無(wú)需額外冷卻時(shí)間，即開(kāi)即用，取代了傳統(tǒng)的燈箱結(jié)構(gòu)

2023-05-16 09:54:17

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芯片的制作為什么要用半導(dǎo)體？Wafer晶圓半導(dǎo)體制造工藝

所謂“半導(dǎo)體”，是一種導(dǎo)電性能介于“導(dǎo)體”和“絕緣體”之間的物質(zhì)總稱(chēng)。導(dǎo)體能導(dǎo)電，比如鐵銅銀等金屬，絕緣體不導(dǎo)電，比如橡膠。芯片的制作為什么要用半導(dǎo)體？

2023-05-15 14:50:16

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頻發(fā)變數(shù)，歐洲本土的半導(dǎo)體制造道阻且長(zhǎng)

半導(dǎo)體中卻只有10%是在歐洲制造的，而且大部分還是成熟工藝的汽車(chē)芯片。歐盟旨在通過(guò)這一計(jì)劃，將這個(gè)數(shù)字于2030年提高到20%。 ? 歐洲本土晶圓廠(chǎng) ? 從地理位置分布就可以看出，絕大多數(shù)歐洲本土晶圓廠(chǎng)都建在德國(guó)、英國(guó)、意大利和法國(guó)等地方，

2023-05-15 07:05:00

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半導(dǎo)體材料在納米光子學(xué)中的作用

半導(dǎo)體材料在開(kāi)發(fā)納米光子技術(shù)方面發(fā)揮著重要作用。

2023-05-14 16:58:55

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日本擬擴(kuò)大半導(dǎo)體制造設(shè)備出口管制，中國(guó)多家協(xié)會(huì)發(fā)表嚴(yán)正聲明！

就日方計(jì)劃擴(kuò)大半導(dǎo)體制造設(shè)備出口管制范圍，中國(guó)半導(dǎo)體行業(yè)協(xié)會(huì)嚴(yán)正聲明。 2023年3月31日，日本經(jīng)濟(jì)產(chǎn)業(yè)省大臣西村康稔在內(nèi)閣會(huì)議后的記者會(huì)上宣布修改《外匯及對(duì)外貿(mào)易法》，計(jì)劃擴(kuò)大半導(dǎo)體制造設(shè)備出口

2023-05-08 10:41:49

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日本擴(kuò)大半導(dǎo)體制造設(shè)備出口管制中國(guó)半導(dǎo)體行業(yè)協(xié)會(huì)發(fā)布嚴(yán)正聲明

此前，日本政府宣布修改《外匯及對(duì)外貿(mào)易法》，計(jì)劃擴(kuò)大半導(dǎo)體制造設(shè)備出口管制范圍，涉及6大類(lèi)23種設(shè)備。日本政府的出口管制措施將對(duì)全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)生態(tài)帶來(lái)更大的不確定性；甚至對(duì)全球產(chǎn)業(yè)鏈的穩(wěn)定都有很大

2023-05-05 15:00:49

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金屬布線(xiàn)的工藝為半導(dǎo)體注入生命的連接

經(jīng)過(guò)氧化、光刻、刻蝕、沉積等工藝，晶圓表面會(huì)形成各種半導(dǎo)體元件。半導(dǎo)體制造商會(huì)讓晶圓表面布滿(mǎn)晶體管和電容（Capacitor）；

2023-04-28 10:04:52

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半導(dǎo)體工藝之金屬布線(xiàn)工藝介紹

本篇要講的金屬布線(xiàn)工藝，與前面提到的光刻、刻蝕、沉積等獨(dú)立的工藝不同。在半導(dǎo)體制程中，光刻、刻蝕等工藝，其實(shí)是為了金屬布線(xiàn)才進(jìn)行的。在金屬布線(xiàn)過(guò)程中，會(huì)采用很多與之前的電子元器件層性質(zhì)不同的配線(xiàn)材料（金屬）。

2023-04-25 10:38:49

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虹科技術(shù)|半導(dǎo)體制造工藝中的UV-LED光源

半導(dǎo)體行業(yè)借助紫外光譜范圍（i 線(xiàn)：365 nm、h線(xiàn)：405 nm和g線(xiàn)：436 nm）中的高功率輻射在各種光刻、曝光和顯影工藝中創(chuàng)建復(fù)雜的微觀(guān)結(jié)構(gòu)

2023-04-24 11:23:28

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半導(dǎo)體清洗科技材料系統(tǒng)

書(shū)籍：《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》文章：下一代半導(dǎo)體清洗科技材料系統(tǒng) 編號(hào)：JFKJ-21-188 作者：炬豐科技摘要本文簡(jiǎn)要概述了面臨的挑戰(zhàn)晶圓清洗技術(shù)正面臨著先進(jìn)的silicon技術(shù)向非平面

2023-04-23 11:03:00

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工業(yè)泵在半導(dǎo)體濕法腐蝕清洗設(shè)備中的應(yīng)用

【摘要】在半導(dǎo)體濕法工藝中，后道清洗因使用有機(jī)藥液而與前道有著明顯區(qū)別。本文主要將以濕法清洗后道工藝幾種常用藥液及設(shè)備進(jìn)行對(duì)比研究，論述不同藥液與機(jī)臺(tái)的清洗原理，清洗特點(diǎn)與清洗局限性?！娟P(guān)鍵詞

2023-04-20 11:45:00

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《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》金屬氧化物半導(dǎo)體的制造

書(shū)籍：《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》文章：金屬氧化物半導(dǎo)體的制造編號(hào)：JFKJ-21-207 作者：炬豐科技概述 CMOS制造工藝概述 ? CMOS制造工藝流程 ? 設(shè)計(jì)規(guī)則 ? 互補(bǔ)金屬氧化物

2023-04-20 11:16:00

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虹科分享 | 半導(dǎo)體制造工藝中的虹科光源解決方案（1）

2023-04-20 09:32:24

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《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》硅片清洗技術(shù)的演變

通過(guò)對(duì)硅表面的清洗和表面處理制備超凈硅。集成電路在制造條件下發(fā)生了相當(dāng)大的變化，在1993年。?這些變化的驅(qū)動(dòng)力是不斷增長(zhǎng)的，生產(chǎn)高性能先進(jìn)硅器件的要求，可靠性和成本。?這些電路的特征尺寸已經(jīng)被放大

2023-04-18 10:06:00

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國(guó)內(nèi)功率半導(dǎo)體需求將持續(xù)快速增長(zhǎng)

制造產(chǎn)業(yè)的轉(zhuǎn)移、下游行業(yè)需求的拉動(dòng)以及國(guó)家推出的支持政策，半導(dǎo)體分立器件行業(yè)已經(jīng)進(jìn)入快速發(fā)展通道。目前，我國(guó)已經(jīng)成為全球重要的半導(dǎo)體分立器件制造基地和全球最大的半導(dǎo)體分立器件市場(chǎng)，根據(jù)中國(guó)半導(dǎo)體行業(yè)協(xié)會(huì)

2023-04-14 13:46:39

使用虛擬實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)加速半導(dǎo)體工藝發(fā)展

，在半導(dǎo)體設(shè)計(jì)和制造領(lǐng)域，DOE（或?qū)嶒?yàn)）空間通常并未得到充分探索。相反，人們經(jīng)常使用非常傳統(tǒng)的試錯(cuò)方案來(lái)挖掘有限的實(shí)驗(yàn)空間。這是因?yàn)樵?b class="flag-6" style="color: red">半導(dǎo)體制造工藝中存在著太多變量，如果要充分探索所有變量的可能情況

2023-04-13 14:19:57

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半導(dǎo)體制造步驟

很少有人知道，所有的半導(dǎo)體工藝都是從一粒沙開(kāi)始的。因?yàn)樯匙又兴墓枋巧a(chǎn)晶圓所需要的原料。

2023-04-11 16:39:02

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陶瓷基板用于精密半導(dǎo)體制冷片封裝的優(yōu)勢(shì)

半導(dǎo)體制冷片是一種基于半導(dǎo)體材料熱電效應(yīng)原理制冷的裝置。它由一系列電子元件（如P型半導(dǎo)體、N型半導(dǎo)體等）組成，當(dāng)電流通過(guò)這些元件時(shí)，會(huì)發(fā)生熱電效應(yīng)，產(chǎn)生冷熱差，從而使制冷片一側(cè)的溫度下降，另一側(cè)

2023-04-03 14:57:44

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半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備市場(chǎng)：行業(yè)分析

半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備市場(chǎng)預(yù)計(jì)將達(dá)到129\.1億美元。到 2029 年。晶圓清洗是在不影響半導(dǎo)體表面質(zhì)量的情況下去除顆?；蛭廴疚锏倪^(guò)程。器件表面晶圓上的污染物和顆粒雜質(zhì)對(duì)器件的性能和可靠性有重大影響。本報(bào)告?zhèn)戎赜?b class="flag-6" style="color: red">半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備市場(chǎng)的不同部分（產(chǎn)品、晶圓尺寸、技術(shù)、操作模式、應(yīng)用和區(qū)域）。

2023-04-03 09:47:51

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半導(dǎo)體制造工藝中的UV-LED解決方案

針對(duì)半導(dǎo)體制造工藝的UV-LED光源需求，虹科提供高功率的紫外光源解決方案，可適配步進(jìn)器和掩膜版設(shè)備，更換傳統(tǒng)工具中的傳統(tǒng)燈箱，實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量的半導(dǎo)體質(zhì)量控制。

2023-03-29 10:35:41

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濕式清洗工藝在半導(dǎo)體制造中的重要作用

評(píng)論