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問題 1:相比傳統(tǒng)的碳化硅(SiC)技術,Soitec 的 SmartSiC? 技術還較年輕,您能否介紹一下它目前發(fā)展的成熟度?
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Christophe Maleville:Soitec 的 SmartSiC? 技術正在步入產業(yè)化階段。我們利用在 CEA-Leti (法國微電子研究實驗室法國原子能委員會電子與信息技術實驗室)的先進試驗線進行開發(fā)與原型設計,并選擇記錄工具實現(xiàn)大批量生產。目前,我們關注如何降低變異性、缺陷率并提高良率,同時優(yōu)化測量取樣,以最佳的工藝流程進入大批量生產階段。Soitec 在批量應用 SmartCut? 技術方面已經(jīng)擁有 30 年的經(jīng)驗,能夠借此加速 SmartSiC? 工藝的成熟,這是我們的優(yōu)勢。Soitec已為 2023 年的生產做好充足的準備。
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問題 2:在降低產品的變異性方面,SmartSiC? ?可以達到怎樣的水平?
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Christophe Maleville:SiC 的前沿開發(fā)人員已經(jīng)完成了大量出色的工作,他們在 SiC 的晶體質量和尺寸方面做出了重大改進。目前,SiC 器件已經(jīng)能夠為道路上日常行駛的電動汽車提供動力。但每個 SiC 晶錠以及每個晶錠內的每片晶圓都是不同的,這給生產帶來了相當大的變數(shù)。然而,憑借 SmartCut? 工藝,每個晶圓都可以實現(xiàn)重復利用十次以上,從而降低了變異性。通過使用外延層作為供體,我堅信我們的下一代SiC 晶圓——SmartSiC? 晶圓,將完全消除源于晶體的變異性。通過在晶層轉移之前消除基面位錯(BPD),用于器件生產的每片晶圓都將相同,這將有利于大批量生產,與傳統(tǒng)硅技術之間的差距也將隨之縮小。
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問題 3:Soitec 能否獨領變革?
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Christophe Maleville:這是一場引領 SiC 器件性能與指標重大進步的革命。但我們并不是獨自前行。我們與戰(zhàn)略伙伴的合作涵蓋了方方面面,從技術研發(fā)組織、材料和設備供應商,到領先的設備制造商。這為加速基于 SmartSiC? 設備的應用和下一代產品的落地奠定了基礎。我們將于 2023 年開始第一代 SmartSiC? 晶圓的生產。我們的開發(fā)周期非常短,從最初的開發(fā)工作到批量生產僅用了四年時間,這充分展現(xiàn)了 Soitec 在行業(yè)生態(tài)系統(tǒng)內緊密合作的高效工作模式。
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電動汽車助推電力電子領域的創(chuàng)新
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如果說人類世界當前面臨的最緊迫危機是如何降低二氧化碳排放量,以減緩已經(jīng)造成的災難性環(huán)境破壞以及人口損害,那么,在當前的地球溫室氣體排放中,交通業(yè)的“貢獻”最大,傳統(tǒng)上它已被視為重要的污染源。但現(xiàn)在,交通行業(yè)已經(jīng)揚帆起航,準備迎接百年一遇的重大轉型。交通生態(tài)系統(tǒng)的所有利益相關者,包括研究人員、公司、機構和客戶,都在努力塑造更綠色的未來,而電動汽車將是有助于減少機動車碳排放的關鍵創(chuàng)新驅動力。
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更低的成本、更長的續(xù)航里程和更短的充電時間正在助推電動汽車的應用。傳動系統(tǒng)的優(yōu)化是推動電動汽車突破當前極限的方向,這也是一項密集且尖端的研發(fā)主題。由于電池提供的是直流電 (DC) ,而牽引電機只接收交流電 (AC),牽引 AC/DC 逆變器的效率就成為了提高動力傳動系統(tǒng)能源效率的關鍵。
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特斯拉在 2018 年就首次展示了碳化硅器件是動力傳動系統(tǒng)和車載充電器中能夠以高性能水平管理功率轉換的最佳選擇。隨著每年汽車銷售數(shù)量的不斷增長(見圖 1),電動汽車中 SiC 的滲透率預計也將在未來十年顯著提升,從 30% 躍升至 70%。
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![pYYBAGNDlf-AauyNAAONYs274K0386.png](https://file.elecfans.com/web2/M00/6F/7F/pYYBAGNDlf-AauyNAAONYs274K0386.png)
圖 1:全球 EV 市場趨勢和 SiC 滲透率
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根據(jù)碳化硅基器件與技術的滲透率預測,以及全球幾大主要的市場對 EV 需求的激增,很顯然,健全有效的 SiC 供應鏈是確保 EV 被市場廣泛應用的關鍵。
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電動汽車市場的到來及其超乎尋常的加速發(fā)展,為電力電子市場中節(jié)能解決方案提供了巨大動力。許多功率器件制造商已經(jīng)制定了相應的戰(zhàn)略舉措,包括加大投資以提升大批量晶圓制造能力、建立垂直整合模式并進行戰(zhàn)略收購以鞏固其供應鏈等。
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來自客戶的助推壓力,如要求傳動系統(tǒng)中擁有更高效率的逆變器,且能夠通過 800V 快充實現(xiàn)電池快速充電能力,使得 SiC 器件成為人們關注的焦點。
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SiC 早在二十年前就以電力電子中硅的顛覆性替代者的角色出現(xiàn),盡管成本更高、制造工藝更復雜,但在能量轉換方面優(yōu)勢顯著。從 25 mm 發(fā)展到今天的 200 mm 晶圓,晶圓面積的變大加上其他各方面的改進, SiC 已成為在促進增長與提供設計機遇領域最具活力的市場之一。
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EV 市場中的 SiC 成本效益比顯而易見,而汽車和工業(yè)市場也正是SiC前進的目標方向。
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然而,盡管特斯拉早在 2018 年就首次推出了應用于電動汽車的 SiC MOSFET,但截至目前,SiC 仍然只是一種用于高端工業(yè)和其他功率轉換應用的材料,設備制造商提供的產品范圍也相對狹窄。很少有專門為 EV 應用設計的器件,而其制造良率也仍然受到現(xiàn)有標準 SiC 晶圓缺陷率的影響。
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電動汽車牽引逆變器所需的功率水平催生了新的器件需求,即單芯片電流處理水平需高達 200A。為了達到這一電氣性能水平,SiC MOSFET 單一表面面積需要至少達到 40mm2。但在標準單晶 SiC 襯底上制造這些器件無法達到必要的良率,而且經(jīng)濟上也不可行。此外,用于制造 SiC 晶錠的 PVT 工藝固有的缺陷范圍,直到今天仍然是實現(xiàn)高良率的物理障礙。
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Soitec 全球領先的 SmartSiC? 解決方案
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Soitec 大展拳腳的時機已經(jīng)來臨。
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Soitec 每年在各種產品線(主要面向智能手機)中銷售的 SmartCut? 晶圓超過 200 萬片,是射頻和手機市場中優(yōu)化襯底的最大供應商。
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目前,Soitec 希望在汽車和工業(yè)市場繼續(xù)保持成功。憑借深耕 SmartCut? 工藝三十年的專業(yè)積淀,Soitec 推出了全新的顛覆性優(yōu)化襯底 SmartSiC?,為晶圓電氣性能、供應鏈生產力以及器件功率密度帶來了全新解決方案。
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SmartSiC? 還創(chuàng)造了器件層面與系統(tǒng)層面的顯著價值,助推了智慧移動(eMobility)的落地應用,并推動了充電基礎設施和可再生能源行業(yè)的完善。
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過去幾年間,Soitec 一直在格勒諾布爾 CEA-Leti 的襯底創(chuàng)新中心深入研究 SmartSiC? 解決方案。該方案利用了單晶 SiC 襯底的卓越物理特性,通過將其作為供體可提供十倍的重復利用率,并結合了創(chuàng)新性的高導電多晶襯底作為操作晶圓(handle wafer)。
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SmartSiC? 晶圓可提供卓越性能:更環(huán)保、更高效、更出色
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![poYBAGNDlg6AVtQgAADFpoYariA558.jpg](https://file.elecfans.com/web2/M00/6E/EA/poYBAGNDlg6AVtQgAADFpoYariA558.jpg)
SmartSiC? 晶圓
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無論是對于 150 mm晶圓還是 200 mm晶圓而言,SmartSiC? 都是一種更環(huán)保、更高效、更出色的技術解決方案,有望成為 SiC 市場的行業(yè)標準之一。
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SmartSiC? 將可重復利用十次的優(yōu)質單晶 SiC 與超高導電性操作晶圓相結合,與傳統(tǒng) SiC 襯底相比,這種即插即用的解決方案可以無縫集成到所有現(xiàn)存的電源生產線中,并表現(xiàn)出明顯的商用、環(huán)境與制造優(yōu)勢。
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簡單且節(jié)能的制造工藝使 SmartSiC? 的碳足跡更少,更為環(huán)保。與傳統(tǒng) SiC 相比,每片SmartSiC? 晶圓減少的碳排放量可高達 70%。
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通過重復利用稀缺的 200mm 單晶供體,Soitec 能夠助力這些大尺寸襯底的快速落地應用,賦能市場的增長。SmartSiC? 的優(yōu)化設計所帶來的卓越生產良率、更高的效率和功率密度,為電力電子設備提供了更好的解決方案。相比塊狀 SiC,SmartSiC? 具有更高的導電性,可為功率器件(例如 MOSFET 或二極管)每平方毫米提供多達 20% 的電流。這是生成新一代功率器件的制勝秘訣。
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Soitec 的 SmartSiC? 產品系列由 SmartSiC?-Performance 和 SmartSiC?-Advanced 襯底組成。SmartSiC?-Performance 目前處于原型開發(fā)階段,正在與 Soitec 客戶進行驗證。而 Soitec 的創(chuàng)新團隊正在研發(fā) SmartSiC?-Advanced 無 BPD 襯底,該產品目前處于送樣階段。
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![圖示描述已自動生成](https://file.elecfans.com/web2/M00/73/13/pYYBAGNWZSyAPNzKAAVPBfo18Rk668.jpg)
圖 2: Soitec 獨特且專利的 SmartCut? 工藝同樣適用于 SiC 材料
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在具有超高導電性的多晶碳化硅操作襯底之上(其 150 mm 和 200 mm 晶圓的總厚度分別為 350 μm和500 μm),SmartSiC? 襯底的優(yōu)化設計能夠提供最高水準、厚度小于 1 μm的單晶 SiC 層。供體晶圓減去用于第一個 SmartSiC? 晶圓的 1 μm 層之后,可重復用于第二個SmartSiC? 晶圓。以此類推,每個供體晶圓至少可用于十個 SmartSiC? 晶圓。
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與塊狀 SiC 中使用的物理氣相傳輸 (PVT) 相比,采用多晶碳化硅作為每個 SmartSiC? 晶圓生產的操作晶圓則是基于更環(huán)保、用時更短的化學氣相沉積 (CVD) 工藝。Soitec 和合作伙伴共同開發(fā)的 PolySiC 具有足夠的摻雜來控制襯底的導電性,同時還能保持極具競爭力的成本優(yōu)勢(見圖 3)。
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![pYYBAGNDliaAFCOzAAMWefKbk2k640.png](https://file.elecfans.com/web2/M00/6F/7F/pYYBAGNDliaAFCOzAAMWefKbk2k640.png)
圖 3:PolySiC 主要工藝步驟
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經(jīng)過多年積淀,無論成熟度還是專業(yè)儲備,Soitec 都具備能力定義并確保晶圓幾何構造的完美,而這恰是掌握晶圓鍵合的關鍵所在。2021 年 11 月 Soitec 收購NovaSiC,為公司帶來超過 25 年的 SiC 晶圓生產經(jīng)驗,是Soitec 在碳化硅戰(zhàn)略路線上的又一里程碑。
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截至目前,Soitec 的 SmartSiC? 已在襯底工藝和設計中達到了穩(wěn)定的高水平。經(jīng)過密集和大規(guī)模的測試與原型設計,Soitec 生產的晶圓為市場、電力設備和電力系統(tǒng)帶來的價值和益處顯著。采用 SmartSiC? 生產的 MOSFET 和二極管性能均獲得大幅提升,同時擁有了更為長期的可靠性和更強的高溫穩(wěn)健性。目前,多家設備制造商已承諾加大資源投入力度,在其下一代產品的認證中采用 SmartSiC?。
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探秘 SmartSiC? 的研發(fā)
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Soitec 最初派遣研發(fā)團隊深入研究SmartSiC?項目時,目的在于將 SiC 的制造良率提高到全球公認的硅基功率器件標準水平。
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SmartCut? 工藝可以保持來料供體晶圓的晶體質量。如圖 4 所示,在供體和 SmartSiC? 表面的相同位置可以觀察到 KOH(氫氧化鉀)蝕刻晶體產生的缺陷。
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為降低缺陷水平,Soitec 探索并采用了一種新的概念,即在已去除基面位錯 (BPD) 的供體上采用 Smart Cut? 工藝。
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利用單晶 SiC 晶圓獨特的生長特性,無BPD的供體能夠將無BPD 層轉移到多晶 SiC 操作晶圓上。這種新型優(yōu)化襯底稱為 SmartSiC?-Advanced。SmartSiC?-Advanced 襯底的 BPD 密度值如圖 5 所示。
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具備無 BPD頂層的SmartSiC?-Advanced 襯底因此成為漂移外延環(huán)節(jié)的優(yōu)質晶種層。
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這明顯降低了致命缺陷的潛在成核位置密度,同時擴大了外延工藝窗口并簡化了外延堆棧,而且無需轉換緩沖層。
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良率模擬和實驗表明,這些改進將引入的外延生長致命缺陷密度降低了 10 倍,并且將大于 20 平方毫米的器件生產良率提高到 20% 以上。在器件可靠性方面,無基面位錯層不僅可以防止位錯滑動,還能消除器件中的雙極退化。Soitec 的下一代 SmartSiC?-Advanced 襯底消除了 SiC 晶圓中的 BPD,對整個 SiC 行業(yè)而言,有望將 SiC 器件制造良率提升至 90%。
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而且,SmartSiC? 中采用的多晶 SiC 操作襯底具有高摻雜水平,這使 SiC 功率器件(二極管或MOSFET)背面的歐姆接觸層更易制成。
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Soitec 的最新研究證明,無需退火的歐姆接觸工藝可在SmartSiC? 襯底上輕松執(zhí)行,且長遠芯片組裝的可靠性不會因此受到影響。
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Soitec 150 mm 的SmartSiC?-Advanced 產品已經(jīng)開始送樣。其原型襯底正接受主要客戶的檢驗,并可根據(jù)需求向其他客戶彈性交付。更多數(shù)據(jù)已于 ICSCRM 2022 國際會議(2022 年碳化硅及相關材料國際會議)上進行公布。
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SmartSiC? 晶圓廠的啟動與擴產
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![poYBAGNDlnqAYs7rAAUEskpniL4776.png](https://file.elecfans.com/web2/M00/6E/EB/poYBAGNDlnqAYs7rAAUEskpniL4776.png)
圖 6:位于法國的新工廠貝寧 4 廠
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大批量生產是 Soitec 的下一步目標舉措。Soitec 用于 SmartSiC? 大規(guī)模生產的新工廠 Bernin 4 已于 2022 年 3 月破土動工,開工日期定為 2023 年年中(如圖 6 所示)。憑借最先進的設備設施,Soitec 將在 2024 年實現(xiàn) SmartSiC? 的產能提升;到 2030 年,SmartSiC? 晶圓總產能(包括 150mm 和 200mm)將達到 100 萬片/年。其中大部分為 200mm 晶圓,這得益于 Soitec 的兩項關鍵技術:
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經(jīng)過數(shù)十年的發(fā)展,晶圓的尺寸面積不斷擴大,SmartCut? 工藝的效益規(guī)模也呈現(xiàn)出指數(shù)級增長,而200 mm規(guī)格的晶圓變得愈發(fā)重要。
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200 mm SmartSiC? 晶圓所具備的10倍重復利用率,將成倍優(yōu)化資源利用率,緩解供應鏈壓力,并加速汽車和工業(yè)市場中高質量晶圓的高效生產與應用。
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隨著多個合作伙伴對 SmartSiC?-Performance 產品原型的認可(如圖 7所示),2022 年的產品認證正處于緊鑼密鼓地擴大范圍并加速推進中。
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SmartSiC? 晶圓正成為新的行業(yè)標準
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電動汽車正在經(jīng)歷百年一遇的變革,市場上的創(chuàng)新成果不斷涌現(xiàn)。上一次交通業(yè)變革發(fā)生在二十世紀 90 年代左右,人類用了 15 年時間從馬車交通時代轉進入機械交通時代;而鑒于 CO2 減排和減緩全球變暖的迫切需要,從汽油車時代進入電動車時代的轉變應該會更快。
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自 2018 年特斯拉引入 SiC 并開創(chuàng)電動汽車市場以來,這項技術已被大多數(shù)汽車制造商采納。然而,SiC 還需要克服在電氣性能、產能、成本和良率方面的眾多障礙,才能在電動汽車領域獨占鰲頭。
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Soitec 成功預見了上述挑戰(zhàn)以及電動汽車行業(yè)蓬勃發(fā)展的勢頭。我們推出的 SmartSiC? 是具有更高附加值的單晶 SiC 襯底替代品,能夠為更高效率的電源提供更環(huán)保、更高效、更出色的解決方案。
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由于單晶 SiC 供體晶圓可重復使用 10 次,并且低 RDSON 功率器件的電導率提高了 10 倍,SmartSiC? 已能夠實現(xiàn)大批量生產,并有望成為行業(yè)新標準。
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Soitec 汽車與工業(yè)部門副總裁 Emmanuel Sabonnadiere 表示:“我們的 SmartSiC? 襯底將成為加速電動汽車變革的關鍵,可幫助電力電子設備的能效與性能提升至新高度,賦能電動汽車的發(fā)展。”
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![pYYBAGNDlpCAFk4FAAN5708MoJ4649.png](https://file.elecfans.com/web2/M00/6F/7F/pYYBAGNDlpCAFk4FAAN5708MoJ4649.png)
圖 8:SmartSiC? 產業(yè)化藍圖
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Soitec 的創(chuàng)新將助力提升資源利用及能效,助推經(jīng)濟發(fā)展和賦能商業(yè)成功。我們的創(chuàng)新成果正在推動眾多行業(yè)和生態(tài)系統(tǒng)的發(fā)展,而半導體及其基礎襯底的戰(zhàn)略地位正是他們所一致認可的。
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Soitec 的創(chuàng)新土壤孕育著美好未來!
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注:Soitec 的四篇科學出版物已于 ICSCRM 2022 上正式發(fā)布。
問題 1:相比傳統(tǒng)的碳化硅(SiC)技術,Soitec 的 SmartSiC? 技術還較年輕,您能否介紹一下它目前發(fā)展的成熟度?
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Christophe Maleville:Soitec 的 SmartSiC? 技術正在步入產業(yè)化階段。我們利用在 CEA-Leti (法國微電子研究實驗室法國原子能委員會電子與信息技術實驗室)的先進試驗線進行開發(fā)與原型設計,并選擇記錄工具實現(xiàn)大批量生產。目前,我們關注如何降低變異性、缺陷率并提高良率,同時優(yōu)化測量取樣,以最佳的工藝流程進入大批量生產階段。Soitec 在批量應用 SmartCut? 技術方面已經(jīng)擁有 30 年的經(jīng)驗,能夠借此加速 SmartSiC? 工藝的成熟,這是我們的優(yōu)勢。Soitec已為 2023 年的生產做好充足的準備。
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問題 2:在降低產品的變異性方面,SmartSiC? ?可以達到怎樣的水平?
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Christophe Maleville:SiC 的前沿開發(fā)人員已經(jīng)完成了大量出色的工作,他們在 SiC 的晶體質量和尺寸方面做出了重大改進。目前,SiC 器件已經(jīng)能夠為道路上日常行駛的電動汽車提供動力。但每個 SiC 晶錠以及每個晶錠內的每片晶圓都是不同的,這給生產帶來了相當大的變數(shù)。然而,憑借 SmartCut? 工藝,每個晶圓都可以實現(xiàn)重復利用十次以上,從而降低了變異性。通過使用外延層作為供體,我堅信我們的下一代SiC 晶圓——SmartSiC? 晶圓,將完全消除源于晶體的變異性。通過在晶層轉移之前消除基面位錯(BPD),用于器件生產的每片晶圓都將相同,這將有利于大批量生產,與傳統(tǒng)硅技術之間的差距也將隨之縮小。
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問題 3:Soitec 能否獨領變革?
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Christophe Maleville:這是一場引領 SiC 器件性能與指標重大進步的革命。但我們并不是獨自前行。我們與戰(zhàn)略伙伴的合作涵蓋了方方面面,從技術研發(fā)組織、材料和設備供應商,到領先的設備制造商。這為加速基于 SmartSiC? 設備的應用和下一代產品的落地奠定了基礎。我們將于 2023 年開始第一代 SmartSiC? 晶圓的生產。我們的開發(fā)周期非常短,從最初的開發(fā)工作到批量生產僅用了四年時間,這充分展現(xiàn)了 Soitec 在行業(yè)生態(tài)系統(tǒng)內緊密合作的高效工作模式。
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電動汽車助推電力電子領域的創(chuàng)新
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如果說人類世界當前面臨的最緊迫危機是如何降低二氧化碳排放量,以減緩已經(jīng)造成的災難性環(huán)境破壞以及人口損害,那么,在當前的地球溫室氣體排放中,交通業(yè)的“貢獻”最大,傳統(tǒng)上它已被視為重要的污染源。但現(xiàn)在,交通行業(yè)已經(jīng)揚帆起航,準備迎接百年一遇的重大轉型。交通生態(tài)系統(tǒng)的所有利益相關者,包括研究人員、公司、機構和客戶,都在努力塑造更綠色的未來,而電動汽車將是有助于減少機動車碳排放的關鍵創(chuàng)新驅動力。
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更低的成本、更長的續(xù)航里程和更短的充電時間正在助推電動汽車的應用。傳動系統(tǒng)的優(yōu)化是推動電動汽車突破當前極限的方向,這也是一項密集且尖端的研發(fā)主題。由于電池提供的是直流電 (DC) ,而牽引電機只接收交流電 (AC),牽引 AC/DC 逆變器的效率就成為了提高動力傳動系統(tǒng)能源效率的關鍵。
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特斯拉在 2018 年就首次展示了碳化硅器件是動力傳動系統(tǒng)和車載充電器中能夠以高性能水平管理功率轉換的最佳選擇。隨著每年汽車銷售數(shù)量的不斷增長(見圖 1),電動汽車中 SiC 的滲透率預計也將在未來十年顯著提升,從 30% 躍升至 70%。
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![pYYBAGNDlf-AauyNAAONYs274K0386.png](https://file.elecfans.com/web2/M00/6F/7F/pYYBAGNDlf-AauyNAAONYs274K0386.png)
圖 1:全球 EV 市場趨勢和 SiC 滲透率
根據(jù)碳化硅基器件與技術的滲透率預測,以及全球幾大主要的市場對 EV 需求的激增,很顯然,健全有效的 SiC 供應鏈是確保 EV 被市場廣泛應用的關鍵。
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電動汽車市場的到來及其超乎尋常的加速發(fā)展,為電力電子市場中節(jié)能解決方案提供了巨大動力。許多功率器件制造商已經(jīng)制定了相應的戰(zhàn)略舉措,包括加大投資以提升大批量晶圓制造能力、建立垂直整合模式并進行戰(zhàn)略收購以鞏固其供應鏈等。
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來自客戶的助推壓力,如要求傳動系統(tǒng)中擁有更高效率的逆變器,且能夠通過 800V 快充實現(xiàn)電池快速充電能力,使得 SiC 器件成為人們關注的焦點。
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SiC 早在二十年前就以電力電子中硅的顛覆性替代者的角色出現(xiàn),盡管成本更高、制造工藝更復雜,但在能量轉換方面優(yōu)勢顯著。從 25 mm 發(fā)展到今天的 200 mm 晶圓,晶圓面積的變大加上其他各方面的改進, SiC 已成為在促進增長與提供設計機遇領域最具活力的市場之一。
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EV 市場中的 SiC 成本效益比顯而易見,而汽車和工業(yè)市場也正是SiC前進的目標方向。
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然而,盡管特斯拉早在 2018 年就首次推出了應用于電動汽車的 SiC MOSFET,但截至目前,SiC 仍然只是一種用于高端工業(yè)和其他功率轉換應用的材料,設備制造商提供的產品范圍也相對狹窄。很少有專門為 EV 應用設計的器件,而其制造良率也仍然受到現(xiàn)有標準 SiC 晶圓缺陷率的影響。
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電動汽車牽引逆變器所需的功率水平催生了新的器件需求,即單芯片電流處理水平需高達 200A。為了達到這一電氣性能水平,SiC MOSFET 單一表面面積需要至少達到 40mm2。但在標準單晶 SiC 襯底上制造這些器件無法達到必要的良率,而且經(jīng)濟上也不可行。此外,用于制造 SiC 晶錠的 PVT 工藝固有的缺陷范圍,直到今天仍然是實現(xiàn)高良率的物理障礙。
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Soitec 全球領先的 SmartSiC? 解決方案
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Soitec 大展拳腳的時機已經(jīng)來臨。
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Soitec 每年在各種產品線(主要面向智能手機)中銷售的 SmartCut? 晶圓超過 200 萬片,是射頻和手機市場中優(yōu)化襯底的最大供應商。
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目前,Soitec 希望在汽車和工業(yè)市場繼續(xù)保持成功。憑借深耕 SmartCut? 工藝三十年的專業(yè)積淀,Soitec 推出了全新的顛覆性優(yōu)化襯底 SmartSiC?,為晶圓電氣性能、供應鏈生產力以及器件功率密度帶來了全新解決方案。
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SmartSiC? 還創(chuàng)造了器件層面與系統(tǒng)層面的顯著價值,助推了智慧移動(eMobility)的落地應用,并推動了充電基礎設施和可再生能源行業(yè)的完善。
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過去幾年間,Soitec 一直在格勒諾布爾 CEA-Leti 的襯底創(chuàng)新中心深入研究 SmartSiC? 解決方案。該方案利用了單晶 SiC 襯底的卓越物理特性,通過將其作為供體可提供十倍的重復利用率,并結合了創(chuàng)新性的高導電多晶襯底作為操作晶圓(handle wafer)。
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SmartSiC? 晶圓可提供卓越性能:更環(huán)保、更高效、更出色
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![poYBAGNDlg6AVtQgAADFpoYariA558.jpg](https://file.elecfans.com/web2/M00/6E/EA/poYBAGNDlg6AVtQgAADFpoYariA558.jpg)
SmartSiC? 晶圓
無論是對于 150 mm晶圓還是 200 mm晶圓而言,SmartSiC? 都是一種更環(huán)保、更高效、更出色的技術解決方案,有望成為 SiC 市場的行業(yè)標準之一。
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SmartSiC? 將可重復利用十次的優(yōu)質單晶 SiC 與超高導電性操作晶圓相結合,與傳統(tǒng) SiC 襯底相比,這種即插即用的解決方案可以無縫集成到所有現(xiàn)存的電源生產線中,并表現(xiàn)出明顯的商用、環(huán)境與制造優(yōu)勢。
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簡單且節(jié)能的制造工藝使 SmartSiC? 的碳足跡更少,更為環(huán)保。與傳統(tǒng) SiC 相比,每片SmartSiC? 晶圓減少的碳排放量可高達 70%。
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通過重復利用稀缺的 200mm 單晶供體,Soitec 能夠助力這些大尺寸襯底的快速落地應用,賦能市場的增長。SmartSiC? 的優(yōu)化設計所帶來的卓越生產良率、更高的效率和功率密度,為電力電子設備提供了更好的解決方案。相比塊狀 SiC,SmartSiC? 具有更高的導電性,可為功率器件(例如 MOSFET 或二極管)每平方毫米提供多達 20% 的電流。這是生成新一代功率器件的制勝秘訣。
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Soitec 的 SmartSiC? 產品系列由 SmartSiC?-Performance 和 SmartSiC?-Advanced 襯底組成。SmartSiC?-Performance 目前處于原型開發(fā)階段,正在與 Soitec 客戶進行驗證。而 Soitec 的創(chuàng)新團隊正在研發(fā) SmartSiC?-Advanced 無 BPD 襯底,該產品目前處于送樣階段。
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圖 2: Soitec 獨特且專利的 SmartCut? 工藝同樣適用于 SiC 材料
在具有超高導電性的多晶碳化硅操作襯底之上(其 150 mm 和 200 mm 晶圓的總厚度分別為 350 μm和500 μm),SmartSiC? 襯底的優(yōu)化設計能夠提供最高水準、厚度小于 1 μm的單晶 SiC 層。供體晶圓減去用于第一個 SmartSiC? 晶圓的 1 μm 層之后,可重復用于第二個SmartSiC? 晶圓。以此類推,每個供體晶圓至少可用于十個 SmartSiC? 晶圓。
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與塊狀 SiC 中使用的物理氣相傳輸 (PVT) 相比,采用多晶碳化硅作為每個 SmartSiC? 晶圓生產的操作晶圓則是基于更環(huán)保、用時更短的化學氣相沉積 (CVD) 工藝。Soitec 和合作伙伴共同開發(fā)的 PolySiC 具有足夠的摻雜來控制襯底的導電性,同時還能保持極具競爭力的成本優(yōu)勢(見圖 3)。
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圖 3:PolySiC 主要工藝步驟
經(jīng)過多年積淀,無論成熟度還是專業(yè)儲備,Soitec 都具備能力定義并確保晶圓幾何構造的完美,而這恰是掌握晶圓鍵合的關鍵所在。2021 年 11 月 Soitec 收購NovaSiC,為公司帶來超過 25 年的 SiC 晶圓生產經(jīng)驗,是Soitec 在碳化硅戰(zhàn)略路線上的又一里程碑。
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截至目前,Soitec 的 SmartSiC? 已在襯底工藝和設計中達到了穩(wěn)定的高水平。經(jīng)過密集和大規(guī)模的測試與原型設計,Soitec 生產的晶圓為市場、電力設備和電力系統(tǒng)帶來的價值和益處顯著。采用 SmartSiC? 生產的 MOSFET 和二極管性能均獲得大幅提升,同時擁有了更為長期的可靠性和更強的高溫穩(wěn)健性。目前,多家設備制造商已承諾加大資源投入力度,在其下一代產品的認證中采用 SmartSiC?。
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探秘 SmartSiC? 的研發(fā)
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Soitec 最初派遣研發(fā)團隊深入研究SmartSiC?項目時,目的在于將 SiC 的制造良率提高到全球公認的硅基功率器件標準水平。
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SmartCut? 工藝可以保持來料供體晶圓的晶體質量。如圖 4 所示,在供體和 SmartSiC? 表面的相同位置可以觀察到 KOH(氫氧化鉀)蝕刻晶體產生的缺陷。
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為降低缺陷水平,Soitec 探索并采用了一種新的概念,即在已去除基面位錯 (BPD) 的供體上采用 Smart Cut? 工藝。
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利用單晶 SiC 晶圓獨特的生長特性,無BPD的供體能夠將無BPD 層轉移到多晶 SiC 操作晶圓上。這種新型優(yōu)化襯底稱為 SmartSiC?-Advanced。SmartSiC?-Advanced 襯底的 BPD 密度值如圖 5 所示。
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?圖 5:供體 SmartSiC?-Advanced 襯底中的 BPD 缺陷密度
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?圖 5:供體 SmartSiC?-Advanced 襯底中的 BPD 缺陷密度
具備無 BPD頂層的SmartSiC?-Advanced 襯底因此成為漂移外延環(huán)節(jié)的優(yōu)質晶種層。
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這明顯降低了致命缺陷的潛在成核位置密度,同時擴大了外延工藝窗口并簡化了外延堆棧,而且無需轉換緩沖層。
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良率模擬和實驗表明,這些改進將引入的外延生長致命缺陷密度降低了 10 倍,并且將大于 20 平方毫米的器件生產良率提高到 20% 以上。在器件可靠性方面,無基面位錯層不僅可以防止位錯滑動,還能消除器件中的雙極退化。Soitec 的下一代 SmartSiC?-Advanced 襯底消除了 SiC 晶圓中的 BPD,對整個 SiC 行業(yè)而言,有望將 SiC 器件制造良率提升至 90%。
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而且,SmartSiC? 中采用的多晶 SiC 操作襯底具有高摻雜水平,這使 SiC 功率器件(二極管或MOSFET)背面的歐姆接觸層更易制成。
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Soitec 的最新研究證明,無需退火的歐姆接觸工藝可在SmartSiC? 襯底上輕松執(zhí)行,且長遠芯片組裝的可靠性不會因此受到影響。
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Soitec 150 mm 的SmartSiC?-Advanced 產品已經(jīng)開始送樣。其原型襯底正接受主要客戶的檢驗,并可根據(jù)需求向其他客戶彈性交付。更多數(shù)據(jù)已于 ICSCRM 2022 國際會議(2022 年碳化硅及相關材料國際會議)上進行公布。
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SmartSiC? 晶圓廠的啟動與擴產
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圖 6:位于法國的新工廠貝寧 4 廠
大批量生產是 Soitec 的下一步目標舉措。Soitec 用于 SmartSiC? 大規(guī)模生產的新工廠 Bernin 4 已于 2022 年 3 月破土動工,開工日期定為 2023 年年中(如圖 6 所示)。憑借最先進的設備設施,Soitec 將在 2024 年實現(xiàn) SmartSiC? 的產能提升;到 2030 年,SmartSiC? 晶圓總產能(包括 150mm 和 200mm)將達到 100 萬片/年。其中大部分為 200mm 晶圓,這得益于 Soitec 的兩項關鍵技術:
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經(jīng)過數(shù)十年的發(fā)展,晶圓的尺寸面積不斷擴大,SmartCut? 工藝的效益規(guī)模也呈現(xiàn)出指數(shù)級增長,而200 mm規(guī)格的晶圓變得愈發(fā)重要。
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200 mm SmartSiC? 晶圓所具備的10倍重復利用率,將成倍優(yōu)化資源利用率,緩解供應鏈壓力,并加速汽車和工業(yè)市場中高質量晶圓的高效生產與應用。
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隨著多個合作伙伴對 SmartSiC?-Performance 產品原型的認可(如圖 7所示),2022 年的產品認證正處于緊鑼密鼓地擴大范圍并加速推進中。
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SmartSiC? 晶圓正成為新的行業(yè)標準
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電動汽車正在經(jīng)歷百年一遇的變革,市場上的創(chuàng)新成果不斷涌現(xiàn)。上一次交通業(yè)變革發(fā)生在二十世紀 90 年代左右,人類用了 15 年時間從馬車交通時代轉進入機械交通時代;而鑒于 CO2 減排和減緩全球變暖的迫切需要,從汽油車時代進入電動車時代的轉變應該會更快。
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自 2018 年特斯拉引入 SiC 并開創(chuàng)電動汽車市場以來,這項技術已被大多數(shù)汽車制造商采納。然而,SiC 還需要克服在電氣性能、產能、成本和良率方面的眾多障礙,才能在電動汽車領域獨占鰲頭。
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Soitec 成功預見了上述挑戰(zhàn)以及電動汽車行業(yè)蓬勃發(fā)展的勢頭。我們推出的 SmartSiC? 是具有更高附加值的單晶 SiC 襯底替代品,能夠為更高效率的電源提供更環(huán)保、更高效、更出色的解決方案。
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由于單晶 SiC 供體晶圓可重復使用 10 次,并且低 RDSON 功率器件的電導率提高了 10 倍,SmartSiC? 已能夠實現(xiàn)大批量生產,并有望成為行業(yè)新標準。
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Soitec 汽車與工業(yè)部門副總裁 Emmanuel Sabonnadiere 表示:“我們的 SmartSiC? 襯底將成為加速電動汽車變革的關鍵,可幫助電力電子設備的能效與性能提升至新高度,賦能電動汽車的發(fā)展。”
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圖 8:SmartSiC? 產業(yè)化藍圖
Soitec 的創(chuàng)新將助力提升資源利用及能效,助推經(jīng)濟發(fā)展和賦能商業(yè)成功。我們的創(chuàng)新成果正在推動眾多行業(yè)和生態(tài)系統(tǒng)的發(fā)展,而半導體及其基礎襯底的戰(zhàn)略地位正是他們所一致認可的。
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Soitec 的創(chuàng)新土壤孕育著美好未來!
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注:Soitec 的四篇科學出版物已于 ICSCRM 2022 上正式發(fā)布。
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