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本書介紹了從晶體生長到集成器件和電路的完整的半導體制造技術(shù)，其中包括制造流程中主要步驟的理論和實踐經(jīng)驗。本書適合于物理、化學、電子工程、化學工程和材料科學等專業(yè)本科高年級或碩士研究生一年級學生《集成電路制造》課程的教學。該課程授課時間為一個學期，不要求必須開設(shè)相應(yīng)的實驗課。同時，本書也可供在半導體工業(yè)領(lǐng)域工作的工程師和科學家參考。本書的第一章簡要回顧了半導體器件和關(guān)鍵技術(shù)的發(fā)展歷史，并介紹了基本的制造步驟。第二章涉及晶體生長技術(shù)。后面幾章是按照集成電路典型制造工藝流程來安排的。第三章介紹硅的氧化技術(shù)。第四章和第五章分別討論了光刻和刻蝕技術(shù)。第六章和第七章介紹半導體摻雜的主要技術(shù)；擴散法和離子注入法。第八章涉及一些相對獨立的工藝步驟，包括各種薄層淀積的方法。本書最后三章集中討論制版和綜合。第九章通過介紹晶體工藝技術(shù)、集成器件和微機電系統(tǒng)加工等工藝流程，將各個獨立的工藝步驟有機地整合在一起。第十章介紹集成電路制造流程中高層次的一些關(guān)鍵問題，包括電學測試、封裝、工藝控制和成品率。第十一章探討了半導體工業(yè)所面臨的挑戰(zhàn)，并展望了其未來的發(fā)展前景。
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