什么是版圖？

　　根據(jù)邏輯與電路功能和性能要求以及工藝水平要求來設(shè)計光刻用的掩膜版圖，實現(xiàn)IC設(shè)計的最終輸出。

　　版圖是一組相互套合的圖形，各層版圖相應(yīng)于不同的工藝步驟，每一層版圖用不同的圖案來表示。 版圖與所采用的制備工藝緊密相關(guān)。

　　版圖設(shè)計就是按照線路的要求和一定的工藝參數(shù)，設(shè)計出元件的圖形并進行排列互連，以設(shè)計出一套供IC制造工藝中使用的光刻掩膜版的圖形，稱為版圖或工藝復合圖。

　　版圖設(shè)計是制造IC的基本條件，版圖設(shè)計是否合理對成品率、電路性能、可靠性影響很大，版圖設(shè)計錯了，就一個電路也做不出來。若設(shè)計不合理，則電路性能和成品率將受到很大影響。版圖設(shè)計必須與線路設(shè)計、工藝設(shè)計、工藝水平適應(yīng)。版圖設(shè)計者必須熟悉工藝條件、器件物理、電路原理以及測試方法。

　　作為一位版圖設(shè)計者，首先要熟悉工藝條件和器件物理，才能確定晶體管的具體尺寸。鋁連線的寬度、間距、各次掩膜套刻精度等。其次要對電路的工作原理有一定的了解，這樣才能在版圖設(shè)計中注意避免某些分布參量和寄生效應(yīng)對電路產(chǎn)生的影響。同時還要熟悉調(diào)試方法，通過對樣品性能的測試和顯微鏡觀察，可分析出工藝中的間題。也可通過工藝中的問題發(fā)現(xiàn)電路設(shè)計和版圖設(shè)計不合理之處，幫助改版工作的進行。特別是測試中發(fā)現(xiàn)某一參數(shù)的不合格，這往往與版圖設(shè)計有關(guān)。

　　硅平面工藝是制造MOS IC 的基礎(chǔ)。利用不同的掩膜版，可以獲得不同功能的集成電路。因此，版圖設(shè)計成為開發(fā)新品種和制造合格集成電路的關(guān)鍵。

　　1、手工設(shè)計

　　2、計算機輔助設(shè)計（CAD）

　　3、自動化設(shè)計

　　人工設(shè)計和繪制版圖，有利于充分利用芯片面積，并能滿足多種電路性能要求。但是效率低、周期長、容易出錯，特別是不能設(shè)計規(guī)模很大的電路版圖。因此，該方法多用于隨機格式的、產(chǎn)量較大的MSI和LSI或單元庫的建立，也用于復雜的模擬集成電路的設(shè)計。