資料介紹
《半導(dǎo)體制造工藝基礎(chǔ)》的第一章簡(jiǎn)要回顧了半導(dǎo)體器件和關(guān)鍵技術(shù)的發(fā)展歷史,并介紹了基本的制造步驟。第二章涉及晶體生長(zhǎng)技術(shù)。后面幾章是按照集成電路典型制造工藝流程來(lái)安排的。第三章介紹硅的氧化技術(shù)。第四章和第五章分別討論了光刻和刻蝕技術(shù)。第六章和第七章介紹半導(dǎo)體摻雜的主要技術(shù);擴(kuò)散法和離子注入法。第八章涉及一些相對(duì)獨(dú)立的工藝步驟,包括各種薄層淀積的方法?!栋雽?dǎo)體制造工藝基礎(chǔ)》最后三章集中討論制版和綜合。第九章通過(guò)介紹晶體工藝技術(shù)、集成器件和微機(jī)電系統(tǒng)加工等工藝流程,將各個(gè)獨(dú)立的工藝步驟有機(jī)地整合在一起。第十章介紹集成電路制造流程中高層次的一些關(guān)鍵問(wèn)題,包括電學(xué)測(cè)試、封裝、工藝控制和成品率。第十一章探討了半導(dǎo)體工業(yè)所面臨的挑戰(zhàn),并展望了其未來(lái)的發(fā)展前景。《半導(dǎo)體制造工藝基礎(chǔ)》適合于物理、化學(xué)、電子工程、化學(xué)工程和材料科學(xué)等專業(yè)本科高年級(jí)或碩士研究生
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