PCB蝕刻工藝流程詳解
蝕刻工藝流程為:剝膜→線路蝕刻→剝錫鉛
一、剝膜
剝膜在pcb制程中,有兩個step會使用,一是內(nèi)層線路蝕刻后之D/F剝除,二是外層線路蝕刻前D/F剝除(若外層制作為負(fù)片制程)D/F的剝除是一單純簡易 的制程,一般皆使用連線水平設(shè)備,其使用之化學(xué)藥液多為NaOH或KOH濃 度在1~3%重量比。注意事項如下:
1、硬化后之干膜在此溶液下部份溶解,部份剝成片狀,為維持藥液的效果及后水洗能徹底,過濾系統(tǒng)的效能非常重要。
2、有些設(shè)備設(shè)計了輕刷或超音波攪拌來確保膜的徹底,尤其是在外層蝕刻后的剝膜, 線路邊被二次銅微微卡住的干膜必須被徹底剝下,以免影響線路品質(zhì)。也有在溶液中加入BCS幫助溶解,但有違環(huán)保,且對人體有害。
3、有文獻(xiàn)指K(鉀)會攻擊錫,因此外層線路蝕刻前之剝膜液之選擇須謹(jǐn) 慎評估。剝膜液為鹼性,因此水洗的徹底與否,非常重要,內(nèi)層之剝膜 后有加酸洗中和,也有防銅面氧化而做氧化處理者。
二、線路蝕刻
1、蝕銅的機(jī)構(gòu)
?。?)在鹼性環(huán)境溶液中,銅離子非常容易形成氫氧化銅之沉淀,需加入足夠 的氨水使產(chǎn)生氨銅的錯離子團(tuán),則可抑制其沉淀的發(fā)生,同時使原有多 量的銅及繼續(xù)溶解的銅在液中形成非常安定的錯氨銅離子,此種二價的 氨銅錯離子又可當(dāng)成氧化劑使零價的金屬銅被氧化而溶解,不過氧化還 原反應(yīng)過程中會有一價亞銅離子)出現(xiàn)。
即此一反應(yīng)之中間態(tài)亞銅離子之溶解度很差,必須輔助以氨水、氨離子及空氣中大量的氧使其繼續(xù)氧化成為可溶的二價銅離子,而又再成為蝕銅的氧化劑周而復(fù)始的繼續(xù)蝕銅直到銅量太多而減慢為止。故一般蝕刻機(jī)之抽風(fēng)除了排除氨臭外更可供給新鮮的空氣以加速蝕銅。
(2)為使上述之蝕銅反應(yīng)進(jìn)行更為迅速,蝕液中多加有助劑,例如:
a. 加速劑 Acceletator 可促使上述氧化反應(yīng)更為快速,并防止亞銅錯離子的沉淀。
b. 護(hù)岸劑(Banking agent) 減少側(cè)蝕。
c. 壓抑劑Suppressor 抑制氨在高溫下的飛散,抑制銅的沉淀加速蝕銅的氧化反應(yīng)。
2、設(shè)備
(1)為增加蝕速故需提高溫度到48℃以上,因而會有大量的氨臭味彌漫需做適當(dāng)?shù)某轱L(fēng),但抽風(fēng)量太強(qiáng)時會將有用的氨也大量的抽走則是很不 經(jīng)濟(jì)的事,在抽風(fēng)管路中可加適當(dāng)節(jié)流閥以做管制
?。?)蝕刻品質(zhì)往往因水池效應(yīng)(pudding)而受限,(因新鮮藥液被積水阻撓,無法有效和銅面反應(yīng)稱之水池效應(yīng))這也是為何板子前端部份往往有over etch現(xiàn)象, 所以設(shè)備設(shè)計上就有如下考量:
a. 板子較細(xì)線路面朝下,較粗線路面朝上。
b. 噴嘴上,下噴液壓力調(diào)整以為補(bǔ)償,依實(shí)際作業(yè)結(jié)果來調(diào)整其差異。
c. 先進(jìn)的蝕刻機(jī)可控制當(dāng)板子進(jìn)入蝕刻段時,前面幾組噴嘴會停止噴 灑幾秒的時間。
d. 也有設(shè)計垂直蝕刻方式,來解決兩面不均問題,但國內(nèi)使用并不多 見。目前國內(nèi)有科茂公司之自制垂直蝕刻機(jī)使用中。
3、補(bǔ)充添加控制
自動補(bǔ)充添加 補(bǔ)充液為氨水,通常以極為靈敏的比重計,且感應(yīng) 當(dāng)時溫度(因不同溫度下 比重有差),設(shè)定上下限,高于上限時開始添加氨水,直至低于下限才停止。此 時偵測點(diǎn)位置以及氨水加入之管口位置就非常重要,以免因偵測delay而 加入過多氨水浪費(fèi)成本(因會溢流掉)
4、設(shè)備的日常保養(yǎng)
?。?)不使蝕刻液有sludge產(chǎn)生(淺藍(lán)色一價銅污泥),所以成份控制很重要-尤 其是PH,太高或太低都有可能造成。
?。?)隨時保持噴嘴不被堵塞。(過濾系統(tǒng)要保持良好狀態(tài))
?。?)比重感應(yīng)添加系統(tǒng)要定期校驗(yàn)。
三、剝錫(鉛)
不管純錫或各成份比的錫鉛層,其鍍上的目的僅是抗蝕刻用,因此蝕刻完畢后,要將之剝除,所以此剝錫(鉛)步驟僅為加工,未產(chǎn)生附加價值。但以下數(shù)點(diǎn)仍須特別注意,否則成本增加是其次,好不容易完成外層線路卻在此處造成不良。
?。?)一般剝錫(鉛)液直接由供應(yīng)商供應(yīng),配方有多種有兩液型,也有單液型,其剝除方式有半溶型與全溶型,溶液組成有氟系/H2O2,HNO3/H2O2等配方。
(2)不管何種配方,作業(yè)上有以下潛在問題:
a.攻擊銅面。
b.剝除未盡影響后制程。
c.廢液處理問題 。
所以剝錫(鉛)步驟得靠良好的設(shè)備設(shè)計,前制程鍍錫(鉛)厚度控制及藥液藥效的管理,才可得穩(wěn)定的品質(zhì)。外層線路制作完成之后,進(jìn)行100%檢測工作。
判斷蝕刻狀況好壞的依據(jù)
1、突沿
2、側(cè)蝕
3、蝕刻系數(shù)因子
4、過蝕
5、蝕刻表面光潔度
6、線間距是否清晰
隨著電子產(chǎn)品的微型化,使得線路板的線路向細(xì)線路、高密度、細(xì)孔徑方向走,給蝕刻工藝提出了更高的要求。