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      中科院半導(dǎo)體所

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      光刻是芯片制造過程中至關(guān)重要的一步，它定義了芯片上的各種微細(xì)圖案，并且要求極高的精度。以下是光刻過程....
      的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 01-28 16:36 ?138次閱讀
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      晶圓拋光在芯片制造中的作用

      晶圓，作為芯片制造的基礎(chǔ)載體，其表面平整度對于后續(xù)芯片制造工藝的成功與否起著決定性作用。
      的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 01-24 10:06 ?236次閱讀

      互補(bǔ)場效應(yīng)晶體管的結(jié)構(gòu)和作用

      隨著半導(dǎo)體技術(shù)不斷逼近物理極限，傳統(tǒng)的平面晶體管（Planar FET）、鰭式場效應(yīng)晶體管（FinF....
      的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 01-24 10:03 ?1462次閱讀
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      一文看懂激光的性質(zhì)

      激光具有多種特性，使其在許多實(shí)際應(yīng)用中都很有用。激光是單色的、定向的、相干的。相比之下，普通白光是許....
      的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 01-23 10:10 ?88次閱讀
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      ALD和ALE核心工藝技術(shù)對比

      ALD 和 ALE 是微納制造領(lǐng)域的核心工藝技術(shù)，它們分別從沉積和刻蝕兩個(gè)維度解決了傳統(tǒng)工藝在精度、....
      的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 01-23 09:59 ?255次閱讀
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      一文解析現(xiàn)代場效應(yīng)晶體管(FET)的發(fā)明先驅(qū)

      朱利葉斯·埃德加·利利恩菲爾德在1925年申請的專利為場效應(yīng)晶體管奠定了理論基礎(chǔ)。 雖然第一個(gè)工作的....
      的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 01-23 09:42 ?63次閱讀
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      衍射光柵的歷史及重要作用

      本文簡單介紹了衍射光柵的歷史及其重要作用。 很難指出還有哪一種裝置比衍射光柵為每個(gè)科學(xué)領(lǐng)域帶來了更重....
      的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 01-22 11:06 ?120次閱讀
      衍射光柵的歷史及重要作用

      干法刻蝕的概念、碳硅反應(yīng)離子刻蝕以及ICP的應(yīng)用

      碳化硅（SiC）作為一種高性能材料，在大功率器件、高溫器件和發(fā)光二極管等領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用。其中，基....
      的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 01-22 10:59 ?108次閱讀
      干法刻蝕的概念、碳硅反應(yīng)離子刻蝕以及ICP的應(yīng)用

      干法刻蝕使用脈沖電源有什么好處

      本文簡單介紹了連續(xù)波和脈沖波的概念、連續(xù)波電流與脈沖波電源的定義以及脈沖波電源相對于連續(xù)波的電源模式....
      的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 01-22 10:11 ?93次閱讀
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      數(shù)據(jù)I/O模塊的概念、特點(diǎn)以及作用

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      的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 01-21 11:10 ?112次閱讀

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      本文從愛因斯坦追光實(shí)驗(yàn)入手，用通俗易懂的語言介紹了多普勒頻移現(xiàn)象。 ? 愛因斯坦是20世紀(jì)最偉大的天....
      的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 01-21 11:06 ?87次閱讀
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      離子注入工藝中的重要參數(shù)和監(jiān)控手段

      本文簡單介紹了離子注入工藝中的重要參數(shù)和離子注入工藝的監(jiān)控手段。 在硅晶圓制造過程中，離子的分布狀況....
      的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 01-21 10:52 ?217次閱讀
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      集成電路制造中良率損失來源及分類

      本文介紹了集成電路制造中良率損失來源及分類。 良率的定義 良率是集成電路制造中最重要的指標(biāo)之一。集成....
      的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 01-20 13:54 ?185次閱讀
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      硬件處理模塊的概念、特點(diǎn)和在系統(tǒng)中的位置

      本文介紹了硬件處理模塊的概念、特點(diǎn)和在系統(tǒng)中的位置。 一、硬件處理模塊的基本概念?專注于特定功能? ....
      的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 01-20 13:52 ?157次閱讀
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      FinFET制造工藝的具體步驟

      本文介紹了FinFET（鰭式場效應(yīng)晶體管）制造過程中后柵極高介電常數(shù)金屬柵極工藝的具體步驟。
      的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 01-20 11:02 ?838次閱讀
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      鏡頭景深的概念和計(jì)算公式

      景深是圖像中看起來可以接受的清晰度的最近和最遠(yuǎn)對象之間的距離。拍攝圖像時(shí)，將相機(jī)聚焦在任意距離的對象....
      的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 01-20 11:00 ?238次閱讀
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      MOS管特征頻率與過驅(qū)動(dòng)電壓的關(guān)系

      本文簡單介紹了MOS管特征頻率與過驅(qū)動(dòng)電壓的概念以及二者的關(guān)系。
      的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 01-20 10:59 ?422次閱讀
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      CVD薄膜質(zhì)量的影響因素及故障排除

      本文介紹了CVD薄膜質(zhì)量的影響因素及故障排除。 CVD薄膜質(zhì)量影響因素 以下將以PECVD技術(shù)沉積薄....
      的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 01-20 09:46 ?95次閱讀
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      如何提高光刻機(jī)的NA值

      本文介紹了如何提高光刻機(jī)的NA值。 為什么光刻機(jī)希望有更好的NA值？怎樣提高？ ? 什么是NA值？ ....
      的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 01-20 09:44 ?198次閱讀
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      什么是原子層刻蝕

      本文介紹了什么是原子層刻蝕（ALE, Atomic Layer Etching）。 1.ALE 的基....
      的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 01-20 09:32 ?67次閱讀
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      FinFet Process Flow-源漏極是怎樣形成的

      本文介紹了FinFet Process Flow-源漏極是怎樣形成的。 在FinFET制造工藝中，當(dāng)....
      的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 01-17 11:00 ?118次閱讀
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      原子層沉積（ALD, Atomic Layer Deposition）詳解

      ? 本文介紹了什么是原子層沉積（ALD, Atomic Layer Deposition）。 1.原....
      的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 01-17 10:53 ?202次閱讀
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      封裝工藝簡介及元器件級封裝設(shè)備有哪些

      ? 本文介紹了封裝工藝簡介及元器件級封裝設(shè)備有哪些。 概述 電子產(chǎn)品制造流程涵蓋半導(dǎo)體元件制造及整機(jī)....
      的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 01-17 10:43 ?301次閱讀
      封裝工藝簡介及元器件級封裝設(shè)備有哪些

      光纖的主要參數(shù)

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      的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 01-16 11:45 ?194次閱讀
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      神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)理論研究的物理學(xué)思想介紹

      本文主要介紹神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)理論研究的物理學(xué)思想 神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)在當(dāng)今人工智能研究和應(yīng)用中發(fā)揮著不可替代的作用。它....
      的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 01-16 11:16 ?273次閱讀
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      微型晶體管高分辨率X射線成像

      本文主要介紹微型晶體管高分辨率X射線成像 ? 一種經(jīng)過升級的X射線可對芯片內(nèi)部進(jìn)行3D成像，展現(xiàn)其設(shè)....
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      光刻機(jī)的分類與原理

      本文主要介紹光刻機(jī)的分類與原理。 ? 光刻機(jī)分類 光刻機(jī)的分類方式很多。按半導(dǎo)體制造工序分類，光刻設(shè)....
      的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 01-16 09:29 ?348次閱讀
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      第三代寬禁帶功率半導(dǎo)體的應(yīng)用

      本文介紹第三代寬禁帶功率半導(dǎo)體的應(yīng)用 在電動(dòng)汽車的核心部件中，車用功率模塊（當(dāng)前主流技術(shù)為IGBT）....
      的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 01-15 10:55 ?124次閱讀
      第三代寬禁帶功率半導(dǎo)體的應(yīng)用

      基于Rashba自旋軌道相互作用的非常規(guī)超導(dǎo)態(tài)和鐵磁序

      在凝聚態(tài)物理領(lǐng)域，Rashba材料由于其獨(dú)特的自旋軌道耦合（SOC）特性而引起了廣泛關(guān)注。Rashb....
      的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 01-15 10:10 ?97次閱讀

      算法加速的概念、意義、流程和應(yīng)用

      本文介紹算法加速的概念、意義、流程和應(yīng)用 一、什么是算法加速 面向“最耗時(shí)”的部分做專用化處理： 在....
      的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 01-15 09:34 ?130次閱讀